応用物理学関係連合学術講演会

会場別 Index

会場名 3月15日(木) 3月16日(金) 3月17日(土)  3月18日(日)
午前 午後 午前 午後 午前 午後 午前 午後
S
大隈講堂
特別シンポジウム「応用物理とグリーンソサイアティ-発電、蓄電、送電、省電技術の現状と展望-」 特別シンポジウム「応用物理とグリーンソサイアティ-発電、蓄電、送電、省電技術の現状と展望-」            
A1
8号館
B101
  JSAP-KPS Joint Symposium "Japan-Korea Symposium on Photovoltaics" 13.6 Siデバイス/集積化技術 13.6 Siデバイス/集積化技術 13.6 Siデバイス/集積化技術 13.6 Siデバイス/集積化技術 13.1 基礎物性・評価 13.1 基礎物性・評価
A2
8号館
B102
講演奨励賞贈呈式 業績賞受賞記念講演   JJAPこれまでの50年,これからの50年 3.1 物理光学・光学基礎 応用電子物性分科会総会・会員の集い 7.4 ナノインプリント 7.4 ナノインプリント
A3
8号館
106
17 ナノカーボン(ショート口頭講演) これからのスピントロニクスを担う材料の新展開 17.1 成長技術 17.1 成長技術 17.1 成長技術 17.2 構造制御・プロセス    
A4
8号館
308
チュートリアル 光ナノインプリントの半導体応用   13.3 絶縁膜技術 13.3 絶縁膜技術 13.3 絶縁膜技術 7.3 リソグラフィ 7.3 リソグラフィ
A5
8号館
309
チュートリアル   13.2 半導体表面 13.7 シミュレーション   素子間信号伝達構造界面の物理化学,その現状と今後 13.4 配線技術  
A6
8号館
310
チュートリアル   8 プラズマエレクトロニクス(ショート口頭講演) 8.5 プラズマナノテクノロジー 13.5 Siプロセス技術 13.5 Siプロセス技術 13.5 Siプロセス技術  
A7
8号館
411
チュートリアル   8.1 プラズマ生成・制御 8.1 プラズマ生成・制御 8 プラズマエレクトロニクス(ショート口頭講演)
8.4 プラズマエッチング
8.4 プラズマエッチング 8.2 プラズマ診断・計測  
A8
8号館
412
チュートリアル   15.3 III-V族エピタキシャル結晶 15.3 III-V族エピタキシャル結晶 15.3 III-V族エピタキシャル結晶 15.6 IV族系化合物 15.6 IV族系化合物 15.6 IV族系化合物
会場名 3月15日(木) 3月16日(金) 3月17日(土)  3月18日(日)
午前 午後 午前 午後 午前 午後 午前 午後
B1
7号館
209
    11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長 11.4 アナログ応用および関連技術 11.4 アナログ応用および関連技術 15.4 III-V族窒化物結晶  
B2
7号館
218
シリサイド系熱電材料は排熱発電の本命になり得るか〜実力と課題を知る〜 シリサイド系熱電材料は排熱発電の本命になり得るか〜実力と課題を知る〜 17.3 新機能探索・基礎物性評価 17.3 新機能探索・基礎物性評価 17.3 新機能探索・基礎物性評価 17.4 デバイス応用 17.4 デバイス応用  
B3
7号館
219
9.3 ナノエレクトロニクス ナノワイヤ研究の最新動向 9.3 ナノエレクトロニクス 9.1 誘電材料・誘電体
9.3 ナノエレクトロニクス
9.4 熱電変換 9.4 熱電変換 9.5 新機能材料・新物性 9.2 微粒子・粉体
B4
7号館
220
  理科実験の改革〜初等・中等教育から高等教育まで〜 10.1 新物質創成(酸化物・ホイスラー・金属磁性体等) 10.1 新物質創成(酸化物・ホイスラー・金属磁性体等) 10.2 スピントルク・スピン流・回路・測定技術 10.2 スピントルク・スピン流・回路・測定技術 10.3 GMR・TMR・磁気記録技術 10.3 GMR・TMR・磁気記録技術
B5
7号館
221
    7.7 微小電子源 7.2 電子顕微鏡,評価,測定,分析 7.6 イオンビーム一般 7.6 イオンビーム一般 7.1 X線技術 7.1 X線技術
B6
7号館
222
    16.1 基礎物性・評価 16.1 基礎物性・評価 16.3 シリコン系太陽電池 16.2 プロセス技術・デバイス 7.5 ビーム・光励起表面反応
7.8 ビーム応用一般・新技術
 
B7
7号館
319
田中昭二先生追悼シンポジウム「高温超伝導研究開発の25年と将来 - 発見前夜から超伝導デバイス・線材開発まで - 」 動き始めた超伝導技術 - 風力発電と超伝導医療 11.1 基礎物性 11.1 基礎物性 11.1 基礎物性 11.3 臨界電流,超伝導パワー応用 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用  
B8
7号館
321
中性子・X線のコラボレーションによる薄膜・多層膜の埋もれた界面の解析の新しい展開 中性子・X線のコラボレーションによる薄膜・多層膜の埋もれた界面の解析の新しい展開 8.6 プラズマ現象・新応用・融合分野 8.6 プラズマ現象・新応用・融合分野 8.6 プラズマ現象・新応用・融合分野 8.2 プラズマ診断・計測
8.3 プラズマ成膜・表面処理
8.3 プラズマ成膜・表面処理  
B9
7号館
414
3.2 材料光学 ポスト3.11の防災光波センシング 3.6 生体・医用光学 3.6 生体・医用光学 3.8 光学新領域 3.4 計測光学 3.4 計測光学 3.4 計測光学
B10
7号館
418
3.3 機器・デバイス光学 ディジタルオプティクス 3.5 情報光学 日本光学会総会

3.5 情報光学
15.4 III-V族窒化物結晶 16.3 シリコン系太陽電池 16.3 シリコン系太陽電池 16.3 シリコン系太陽電池
B11
7号館
419
  二次イオン質量分析法の新展開 - はやぶさからバイオテクノロジーまで - 10.4 半導体・有機・光・量子スピントロニクス 10.4 半導体・有機・光・量子スピントロニクス 3.7 近接場光学 3.7 近接場光学 3.7 近接場光学 3.7 近接場光学
会場名 3月15日(木) 3月16日(金) 3月17日(土)  3月18日(日)
午前 午後 午前 午後 午前 午後 午前 午後
C1
10号館
109
スクール「機能性酸化物入門〜理論,加工・計測技術,応用〜」 スクール「機能性酸化物入門〜理論,加工・計測技術,応用〜」 スクール「半導体リソグラフィ技術の基礎」 スクール「半導体リソグラフィ技術の基礎」 14.6 化合物太陽電池 14.6 化合物太陽電池 14.6 化合物太陽電池 14.6 化合物太陽電池
C2
10号館
106
      1.8 計測技術
1.9 計測標準
  1.5 エネルギー変換・貯蔵
1.6 資源・環境
1.7 磁場応用  
C3
10号館
107
  重力応用研究グループ企画「重力場応用研究」 1.3 新技術 様々な衝撃現象と技術開発 1.3 新技術 1.1 応用物理一般 1.1 応用物理一般 1.1 応用物理一般
C4
10号館
108
    2.3 放射線応用・発生装置・新技術 2.3 放射線応用・発生装置・新技術
2.2 検出器開発
2.2 検出器開発 2.1 放射線物理一般・検出器基礎 2.1 放射線物理一般・検出器基礎  
会場名 3月15日(木) 3月16日(金) 3月17日(土)  3月18日(日)
午前 午後 午前 午後 午前 午後 午前 午後
E1
14号館
B101
  不純物機能活性型材料の機能制御とデバイス応用:機能核モデル 14.1 探索的材料物性 14.1 探索的材料物性 14.2 超薄膜・量子ナノ構造 14.2 超薄膜・量子ナノ構造 14.2 超薄膜・量子ナノ構造 14.1 探索的材料物性
E2
14号館
101
エネルギー・環境研究会主催「グリーンソサイエティーを拓くエネルギー革新技術〜太陽光利用からエネルギーシステムまで〜」 エネルギー・環境研究会主催「グリーンソサイエティーを拓くエネルギー革新技術〜太陽光利用からエネルギーシステムまで〜」 14.5 光物性・発光デバイス 14.5 光物性・発光デバイス 14.5 光物性・発光デバイス 14.5 光物性・発光デバイス 14.3 プロセス技術・界面制御 14.3 プロセス技術・界面制御
E3
14号館
102
  電磁メタマテリアルの最近の進展と将来展望 合同セッションL(MEMS,NEMSの基礎と応用:異種機能集積化) 合同セッションL(MEMS,NEMSの基礎と応用:異種機能集積化) 14.4 超高速・機能デバイス 14.4 超高速・機能デバイス 4.1 量子光学・原子光学 4.6 レーザー分光応用・計測
E4
14号館
201
  特別シンポジウム「元素戦略と応用物理」 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」    
E5
14号館
401
  4.2 フォトニックナノ構造・現象 4.2 フォトニックナノ構造・現象 4.2 フォトニックナノ構造・現象        
E6
14号館
402
4.7 レーザー・プロセッシング   4.7 レーザー・プロセッシング 4.7 レーザー・プロセッシング        
E7
14号館
403
  福島原発事故から一年間を経て〜放射線・放射能の測定から除染、そして復興へ〜 12.3 電子機能材料・デバイス 12.3 電子機能材料・デバイス        
E8
14号館
501
  プラズマエレクトロニクス分科会企画「カーボンナノ材料プラズマプロセスの将来展望〜合成から機能化まで〜」 4.5 テラヘルツ全般・非線型光学 4.5 テラヘルツ全般・非線型光学 4.5 テラヘルツ全般・非線型光学 4.5 テラヘルツ全般・非線型光学 4.5 テラヘルツ全般・非線型光学  
E9
14号館
502
  多元化合物の新規物性と応用 レーザービームシェーピングの新展開 4.3 レーザー装置・材料 4.3 レーザー装置・材料 4.4 超高速・高強度レーザー 4.4 超高速・高強度レーザー 4.4 超高速・高強度レーザー
会場名 3月15日(木) 3月16日(金) 3月17日(土)  3月18日(日)
午前 午後 午前 午後 午前 午後 午前 午後
F1
15号館
02
  12.6 高分子・ソフトマテリアル
12.11 特定テーマ「有機太陽電池」
12.10 ナノバイオテクノロジー 12.10 ナノバイオテクノロジー 12.10 ナノバイオテクノロジー 12.12 特定テーマ「次元制御有機ナノ材料」 12.12 特定テーマ「次元制御有機ナノ材料」 12.12 特定テーマ「次元制御有機ナノ材料」
F2
15号館
03
  重力波観測用巨大干渉計の設計と建設 6.4 薄膜新材料 6.4 薄膜新材料 6.4 薄膜新材料 6.5 表面物理・真空 6.5 表面物理・真空 6.5 表面物理・真空
F3
15号館
04
  3D原子イメージング技術の新展開 5.1 半導体レーザー・発光/受光素子 5.1 半導体レーザー・発光/受光素子 5.4 光ファイバー 6.2 カーボン系薄膜 6.2 カーボン系薄膜 6.2 カーボン系薄膜
F4
15号館
101
  分極反転が拓く光制御の未来 5.2 光記録/ストレージ 5.3 光制御 5.3 光制御 5.3 光制御 5.3 光制御 5.3 光制御
F5
15号館
102
6.6 プローブ顕微鏡 薄膜・表面物理分科会企画「軽元素ワイドギャプ薄膜のヘテロエピタキシャル成長と高機能化界面」 6.6 プローブ顕微鏡 6.6 プローブ顕微鏡 6.1 強誘電体薄膜 強誘電体薄膜のエネルギー分野への展開 6.1 強誘電体薄膜 6.1 強誘電体薄膜
F6
15号館
201
ポストスケーリング時代における次世代革新的デバイスおよび材料の探索 ポストスケーリング時代における次世代革新的デバイスおよび材料の探索 6.3 酸化物エレクトロニクス 6.3 酸化物エレクトロニクス 6.3 酸化物エレクトロニクス 6.3 酸化物エレクトロニクス 6.3 酸化物エレクトロニクス 6.3 酸化物エレクトロニクス
F7
15号館
202
12.1 作製技術 12.1 作製技術 薄膜シリコン太陽電池と有機薄膜太陽電池のサイエンス 12.11 特定テーマ「有機太陽電池」 12.1 作製技術 12.8 有機EL 12.8 有機EL  
F8
15号館
203
  有機分子・バイオエレクトロニクス分科会企画:最先端バイオイメージング M&BE division special symposium: Leading Edge of Bio-imaging 12.7 生物・医用工学・バイオチップ 12.7 生物・医用工学・バイオチップ 12.7 生物・医用工学・バイオチップ 12.7 生物・医用工学・バイオチップ 12.5 液晶 12.5 液晶
F9
15号館
301
  空間多重光ファイバ伝送と光インターコネクションの最新技術動向 12.9 有機トランジスタ 12.9 有機トランジスタ 12.9 有機トランジスタ 12.9 有機トランジスタ 12.4 光機能材料・デバイス 12.4 光機能材料・デバイス
F10
15号館
302
12.11 特定テーマ「有機太陽電池」 ナノひずみエレクトロニクス〜半導体ナノひずみの新規デバイス応用と高分解能測定〜 12.2 評価・基礎物性 12.2 評価・基礎物性 12.11 特定テーマ「有機太陽電池」 12.11 特定テーマ「有機太陽電池」 12.11 特定テーマ「有機太陽電池」 12.11 特定テーマ「有機太陽電池」
F11
15号館
401
窒化物半導体における特異構造の理解と制御 窒化物半導体における特異構造の理解と制御 15.5 IV族結晶,IV-IV族混晶
15.7 エピタキシーの基礎
15.5 IV族結晶,IV-IV族混晶 15.1 バルク結晶成長 15.8 結晶評価,ナノ不純物・結晶欠陥 15.2 II-VI族結晶  
F12
15号館
402
  15.4 III-V族窒化物結晶   15.4 III-V族窒化物結晶 15.4 III-V族窒化物結晶 15.4 III-V族窒化物結晶 15.4 III-V族窒化物結晶 15.4 III-V族窒化物結晶