12. 有機分子・バイオエレクトロニクス

15a-F7 - 1〜11

• 1静電塗布法で成膜した異なる混合比率のP3HT:PCBM薄膜の表面平坦性埼玉大¹，理研^{2 ○}高木健次^1,2，浅野　俊^1,2，福田武司^1,2，本多善太郎¹，鎌田憲彦¹，朱　正明²，山形　豊²，田島右副²
• 2静電塗布(ESD)法による水分散P3HTコロイドを用いた有機薄膜光電変換素子の作製理研 ^○青山哲也，高久英明，朱　正明，今井　登，折井孝彰，山形　豊，加瀬　究，田島右副
• 3Liquid-Phase Molecular Layer Deposition を用いた多色素層成長による光吸収波長域の拡大東京工科大 ^○吉野知恵，吉村徹三
• 4溶液レーザ・プロセシングによるMEHPPV高分子の発光の短波長化大阪電通大工 ^○富岡明宏，高田広平
• 5ジアリールエテンナノロッドの作製とフォトクロミック特性東北大多元研¹，山形大院理工^{2 ○}田川典生¹，増原陽人²，小野寺恒信¹，笠井　均¹，及川英俊¹
•  休憩　10:15〜10:30
• 6カーボンナノチューブを用いた近赤外光応答性マイクロカプセルの作製とその応答特性明大理工 ^○牧原伸聡，加藤徳剛
• 7Morphology of polystyrene spheres fabricated on HfO2 gate insulatorTokyo Institute of Technology¹，Konkuk University^{2 ○}廖　　敏¹，石原　宏²，大見俊一郎¹
• 8多孔質シリカマイクロカプセルの粒径および殻の厚さの制御と内包物質の放出特性 明大理工 ^○幸元翔三，加藤徳剛
• 9高分子グラフト表面のグラフト密度と表面物性島根大医 坂根智也，^○藤井政俊
• 10Effects of Grafting Media in the Photochemical Preparation of Vinylferrocene on the Si(111) Surface京大院工 ^○Marvin Herrera，一井　崇，邑瀬邦明，杉村博之
• 11ナノコンポジット材料を利用した太陽電池モジュール透明封止材内の水分透過センサ農工大院工¹，新日鐵化学^{2 ○（M1）}藤原　潤¹，岩見健太郎¹，梅田倫弘¹，新田龍三²，松村康史²
•  昼食　12:00〜13:30

15p-F7 - 1〜17

• 1金属的導電性LB膜を用いたソフトな電極形成技術の開発 II東京海洋大海洋工¹，NIMS²，長岡技科大^{3 ○（M1）}望月健吾¹，和泉　充¹，津谷大樹²，今久保達郎³，大貫　等¹
• 2長鎖アルキルアンモニウム-Au(dmit)₂ LB膜の構造と電気的性質(VII)桐蔭横浜大院工¹，北大院理²，JSTさきがけ^{3 ○}三浦康弘¹，杉本直樹¹，秋山弘成¹，長谷川裕之^2,3
• 3Langmuir-Blodgett法を用いたFe/SiO₂コアシェル単粒子膜の作製千葉大院工¹，千葉大工^{2 ○}串田正人¹，菅原丈博²，大橋賢次²，竹澤章裕²，川崎浩平¹
• 4銀ナノワイヤの自己組織化現象を利用した透明導電膜の作製阪大 ^○（DC）徳野剛大，能木雅也，菅原　徹，Jinting Jiu，菅沼克昭
• 5銀ナノ粒子インクを用いた薄膜電極の密着性向上山形大ROEL¹，サンアロー^{2 ○}関根智仁¹，池田英昭²，小林　悠¹，清水雅弘¹，竹田泰典¹，福田憲二郎¹，熊木大介¹，時任静士¹
• 6表面プラズモン/導波モード共存条件を満たした高分子ナノ集積体による発光変調と旋光識別東北大多元研¹，産総研²，北大電子研^{3 ○}森田晋平¹，三ツ石方也¹，田和圭子²，西井準治³，宮下徳治¹
• 7焼成不要な光リソグラフィーによるフレキシブル希土類発光薄膜の作製とKPFM観察東理大基礎工¹，中京大情報理工^{2 ○}渡邉　智¹，兵藤　宏¹，田口博久²，曽我公平¹，高梨良文¹，松本睦良¹
• 8毛細管力リソグラフィー法を用いた希土類含有発光膜の作製東理大基礎工 ^○渡邉　智，浅沼武夫，兵藤　宏，曽我公平，松本睦良
• 9"ソフト"液相吸着法を用いた有機薄膜のマイクロパターニング東理大基礎工 ^○渡邉　智，秋吉祐里，松本睦良
•  休憩　15:45〜16:00
• 10インクジェットを用いた単分散エマルションの作製東大生研 ^○石綿友樹，美谷周二朗，酒井啓司
• 11液中付着法による高分子半導体膜の形成九工大生命工¹，九工大情報工²，九工大先端エコ^{3 ○（DC）}宮島正吾¹，永松秀一²，高嶋　授³，金藤敬一¹
• 12融液法によるディスコティック液晶有機半導体のモノドメイン成長阪大院工¹，産総研ユビキタス^{2 ○}山崎修幸¹，齋藤崇志¹，Jaeki Kim¹，吉田浩之¹，藤井彰彦¹，清水　洋²，尾崎雅則¹
• 13フッ化リチウム蒸着膜上でのオクタシアノフタロシアニン薄膜の生成と評価神戸大院工 ^○佐伯宏之，西本光穂子，小柴康子，三崎雅裕，堀江　聡，石田謙司，上田裕清
• 14グラフォエピタキシーによるペンタセン多結晶薄膜の配向制御とキャリア輸送障壁の抑制効果千葉大院工¹，奈良先端大物質創成^{2 ○}李　世光^1,2，中山直樹¹，酒井正俊¹，工藤一浩¹，松原亮介²，中村雅一²
• 15有機半導体p-n共蒸着膜の2D-GIXDによる成長過程の観察岩手大工¹，高輝度光化学研究セ^{2 ○}齋藤正基¹，細貝拓也¹，小金澤智之²，渡辺　剛¹，菊池　護¹，吉本則之¹
• 16イオン液体膜を介した高結晶性有機薄膜の真空蒸着と有機太陽電池への応用東工大応セラ研¹，産総研^{2 ○}萬徳真志¹，武山洋子¹，宮寺哲彦²，吉田郵司²，松本祐司¹
• 17真空TG-DTA測定によるイオン液体の蒸気圧測定神戸大 ^○綾野真人，小柴康子，三崎雅裕，石田謙司，上田裕清

17a-F7 - 1〜11

• 1Molecular Layer Deposition (MLD)を用いた分子配列制御によるポリマ量子ドットのTiO2表面への形成東京工科大 ^○石井　翔，吉村徹三
• 2PEDOT:PSSを電極として用いた有機薄膜太陽電池の性能評価愛知工大¹，仁荷大^{2 ○}廣瀬頌次郎¹，キョンシン パク²，落合鎮康¹
• 3イオン加速電圧制御によるフッ素系高分子蒸着重合膜の密着性改善農工大院・工 松田　剛，泉田和夫，田中邦明，^○臼井博明
• 4強誘電性高分子のサブミクロン自立膜作製と焦電応答特性評価神戸大院工¹，ダイキン工業^{2 ○}黒田雄介¹，小谷哲浩²，高　明天²，金村　崇²，小柴康子¹，三崎雅裕¹，堀江　聡¹，石田謙司¹，上田裕清¹
• 5ガスフロー蒸着法を用いた高純度有機薄膜（α-NPD）の形成九大・最先端有機光エレ研¹，九大・工（応用化学）²，九州先端研^{3 ○}継田浩平¹，江面知彦¹，八尋正幸^1,2,3，安達千波矢^1,2,3
•  休憩　10:15〜10:30
• 6有機薄膜（α-NPD）中に含まれる不純物成分の素子特性への影響九大・最先端有機光エレ研¹，九大・工（応用化学）²，九州先端研³ 継田浩平¹，^○江面知彦¹，八尋正幸^1,2,3，安達千波矢^1,2,3
• 7マイカ劈開面上でのペンタセン結晶成長奈良先端大物質 ^○落合慧紀，松原亮介，中村雅一
• 8イオン液体の真空蒸着によるペンタセン薄膜の形態変化東工大応セラ研 ^○伊藤麻絵，丸山伸伍，武山洋子，松本祐司
• 9塗布成膜したペンタセン前駆体の光転化および結晶化挙動神戸大院工 村井裕樹，^○三崎雅裕，小柴康子，石田謙司，上田裕清
• 10光アシスト蒸着によるポリジアセチレン薄膜の作製と評価神戸大院工¹，リコー先端研²，九大先端研³ 東條雄気¹，^○三崎雅裕¹，石田謙司¹，上田裕清¹，加藤拓司²，鳥居昌史²，筒井恭治²，安達千波矢³
• 11摩擦転写膜をテンプレートとするポリジアセチレンの分子配向制御とFETへの応用神戸大院工¹，リコー先端研²，大阪市立大³，九大最先端^{4 ○}大坪拓哉¹，三崎雅裕¹，石田謙司¹，上田裕清¹，加藤拓司^2,4，鳥居昌史²，筒井恭治²，松本章一³，安達千波矢⁴

17p-GP8 - 1〜16

• 1加熱タングステン上で分解したペンタセン分解種の同定兵庫県立大工 ^○部家　彰，松尾直人
• 2エレクトロスプレーデポジッション法の基礎的性質の検討とその応用工学院大工 ^○安斉秀晃，渡邊祐貴，坂本哲夫
• 3電圧印加交互積層法による薄膜作製及び電圧印加による影響の検証慶大理工 ^○大村悠希子，慶　奎弘，金　世勲，白鳥世明
• 4低分子量PEDOTの合成と蒸着膜形成東京農工大工 江口大海，土屋康佑，荻野賢司，田中邦明，^○臼井博明
• 5交互蒸着重合におけるモノマー吸着過程の解析静岡大工 ^○上田和茂，稲石勝典，伊東卓哉，久保野敦史
• 6リアルタイム2D-GIXDでみるペンタセン蒸着膜成長の基板効果岩手大工¹，高輝度光科学研究セ^{2 ○（D）}渡辺　剛¹，細貝拓也¹，小金澤智之²，齋藤正基¹，菊池　護¹，広沢一郎²，吉本則之¹
• 7TIPS-pentacene薄膜の2D-GIXD測定岩手大工¹，高輝度光科学研究セ^{2 ○}神谷亮輔¹，細貝拓也¹，渡辺　剛¹，小金澤智之²，菊池　護¹，吉本則之¹
• 8低ガラス転移点を有する高分子膜表面におけるメタル堆積性の膜厚依存性阪教大教養 ^○山口耕司，辻岡　強
• 9ベンゾフェノンＳＡＭ膜を用いた有機／無機電極界面の制御農工大工¹，ヒューストン大² 大塚華恵¹，Seong-Ho Kim¹，Maria Celeste R. Tria²，田中邦明¹，Rigoberto C. Advincula²，^○臼井博明¹
• 10円偏光２光子重合によるキラルポリジアセチレン薄膜の作製東工大院理工 ^○間中孝彰，金　英輝，岩本光正
• 11ボトムアップ単電子トランジスタにおけるNiナノギャップ電極とAuナノギャップ電極の比較東工大応セラ¹，CREST-JST²，筑波大院数理³，京大化研^{4 ○}東　康男^1,2，加納伸也^1,2，田中大介^2,3，坂本雅典^2,3，寺西利治^2,3,4，真島　豊^1,2
• 12デカメトニウムブロマイドを用いた分子定規無電解金メッキ(MoREP)法によるナノギャップ電極の作製東工大応セラ¹，CREST-JST²，筑波大院数理³，京大化研^{4 ○}武下宗平^1,2，Victor Serdio^1,2，田中大介^2,3，坂本雅典^2,3，寺西利治^2,3,4，真島　豊^1,2
• 13MADSAT法を用いた種々の有機ナノドットの形成名大院工¹，岩手大²，愛工大^{3 ○}森本拓也¹，位田友哉¹，西川尚男²，落合鎮康³，森　竜雄¹
• 14光応答材料を用いた微粒子の三次元構造体の作製名城大理工¹，豊田中研^{2 ○}古川智也¹，柴田英徳¹，多和田昌弘¹，井川泰爾²，成田麻美子²，毛利　誠²，渡辺　修²
• 15ソルボサーマル法を用いた糖鎖修飾InP量子ドットの作製と評価埼玉大工 ^○船木那由太，秋山真之介，福田武司，本多善太郎，鎌田憲彦，安倍佳宏，小山哲夫，松岡浩司
• 16三端子型単電荷トンネルデバイスの単分子内集積化のための合成設計分子研 ^○田中彰治