7. ビーム応用

17p-DP2 - 1〜6

• 1極端紫外リソグラフィー用パルスCO₂レーザ装置の開発小松製作所¹，ギガフォトン^{2 ○}横塚俊雄¹，太田　毅¹，川筋康文¹，Krzystof Nowak¹，菅沼　崇¹，藤本准一²，溝口　計²
• 2フォトレジスト溶解過程のその場観察 3EIDEC, Inc. ^○Juliusjoseph Santillan，井谷俊郎
• 3QCM法によるポリマーバウンドPAGレジストとポリマーブレンドPAGレジストの溶解挙動の研究阪大産研¹，JST-CREST^{2 ○}山本洋揮^1,2，古澤孝弘^1,2，田川精一^1,2
• 4集束プロトンビーム照射によるポリ乳酸の照射効果芝浦工大 ^○小池義和，竹内　均，小倉智裕，萩原央紀，青木大地，石川拓也，熊谷　研，西川宏之
• 5自己組織化ジブロック共重合体薄膜をポジ型/ネガ型混合レジストとして用いた電子線リソグラフィ東大院 ^○鈴木裕之，米谷玲皇，割澤伸一，石原　直
• 6超並列電子線描画装置用ナノシリコン面電子源接合型コンデンサレンズの開発クレステック¹，農工大工²，東北大工^{3 ○}小島　明¹，大井英之¹，池上尚克²，太田敢行²，越田信義²，吉田　孝³，江刺正喜³

18a-A4 - 1〜11

• 1電子線マスク描画装置EBM-8000のグローバル位置精度ニューフレアテクノロジー ^○鶴田　薫，上久保貴司，西村理恵子，吉武秀介，玉虫秀一
• 2電子線マスク描画装置のかぶり効果補正(評価)ニューフレアテクノロジー ^○大西孝幸，安瀬博人，上久保貴司，服部芳明，玉虫秀一
• 3電子線描画装置における反射電子/2次電子の軌道計算ニューフレアテクノロジー ^○東矢高尚，小笠原宗博，玉虫秀一
• 4タレット型電子銃の開発ニューフレアテクノロジー ^○宮本房雄，Rodney Kendall，斎藤賢一
• 5半導体露光用ArFエキシマレーザガス交換フリー技術開発ギガフォトン ^○池田宏幸，増田浩幸，草間高史，對馬弘朗，熊崎貴仁，黒須昭彦，柿崎弘司，松永　隆，藤本准一，溝口　計
•  休憩　10:15〜10:30
• 6極微パタン構造計測のためのコヒーレント13nm高次高調波光源の開発 IV理研基幹研¹，兵庫県立大²，JST CREST^{3 ○}永田　豊^1,2,3，原田哲男^2,3，中筋正人^2,3，木下博雄^1,2,3，緑川克美¹
• 7EUVマスク検査のための高次高調波コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡の開発兵庫県立大¹，理研²，JST-CREST^{3 ○}中筋正人^1,3，時政明史^1,3，原田哲男^1,3，永田　豊^2,3，渡邊健夫^1,3，緑川克美²，木下博雄^1,3
• 8高倍率多層膜ミラー結像系によるEUVリソグラフィ用マスクの実波長観察東北大多元研¹，兵庫県立大^{2 ○}豊田光紀¹，山添健二郎¹，羽多野忠¹，時政明史²，原田哲男²，渡邊健夫²，木下博雄²，柳原美広¹
• 9超音波ゼロCTE温度評価システムによるTiO2-SiO2超低膨張ガラスの評価 —仮想温度依存性—東北大院工¹，産総研² 櫛引淳一¹，^○荒川元孝¹，大橋雄二¹，丸山由子¹，山田修史²
• 10液晶マトリックス投影露光パターンを雌型としたニッケル部品の製作東京電機大院工 ^○堀内敏行，白鳥　翔
• 11レーザ走査露光と電解エッチングによるステンレスマイクロコイルの製作東京電機大工 ^○堀内敏行，山本大地，湯澤孝夫
•  昼食　12:00〜13:00

18p-A4 - 1〜5

• 1感光性材料により形成した誘電体膜の漏れ電流特性芝浦工大工 ^○山口正樹，西川宏之
• 2ミクロンオーダブロック垂直側面上レジストスピン塗布の理論検討NTT物性基礎研 ^○山崎謙治，山口浩司
• 3ノボラック系ポジ型レジストにおける現像温度とリソグラフィ特性との関係金沢工大¹，リソテックジャパン²，AZエレクトロニックマテリアルズ^{3 ○}河野昭彦¹，齊藤誠二¹，石黒啓太¹，関口　淳²，谷口克人³，田中初幸³，堀邊英夫¹
• 4イオン注入レジストの構造解析(2)金沢工大¹，日東分析センター^{2 ○}後藤洋介¹，山本雅史¹，信田拓哉²，飯田貴之²，河野昭彦¹，堀邊英夫¹
• 5溶解抑制剤を添加した3成分系化学増幅型EUVレジストの開発II金沢工大¹，阪大院²，CREST-JST³，阪大産研^{4 ○}石黒啓太¹，河野昭彦¹，榎本一之^2,3，山本洋揮^3,4，遠藤政孝^3,4，田川精一^3,4，堀邊英夫^1,3,4