7. ビーム応用

7.6 イオンビーム一般

3月16日 会場:DP1
ポスターセッション
ポスター掲示時間13:00〜15:00

16p-DP1 - 1〜9

  • 1Fe/Ag 多層膜の界面構造法大理工1,産総研2,島根大3 中山 浩1,木下量介1,岡嵜 聡1坂本 勲1,安本正人2,小池正記2,本多茂男3
  • 2Fe-Pt薄膜に対する低エネルギーイオン照射若狭湾エネ研 石神龍哉,バトチュルーン チュルーンバートル
  • 3高エネルギー重イオン照射によるβ-FeSi2半導体中のナノ金属相作製若狭湾エネ研1,原子力機構2 笹瀬雅人1,岡安 悟2,山本博之2
  • 4銀ナノ粒子表面に吸着した不純物のRBS/PIXE分析京都工繊大工芸1,広島大工2 高廣克己1,西山文隆2,山本望鈴1,佐成 巧1,寺澤昇久1
  • 5透明高分子膜表面へのナノ構造の室温形成と評価名工大院工 野田匠利,Ghosh Pradip,Subramanian Munisamy,佐藤俊作,中森弘明,土屋琢磨,林 靖彦,種村眞幸
  • 6巨大反応性クラスター衝突の大規模分子動力学シミュレーション京大 青木学聡,瀬木利夫,松尾二郎
  • 7Improved set-up to reveal cluster ion beam induced luminescence京大光電子理工セ1,カターニア大学2 Francesco Musumeci1,2龍頭啓充1,高岡義寛1
  • 8水クラスターイオンとシリコン基板の表面反応京大光・電子理工セ 市橋 岳,西村拓朗,龍頭啓充,竹内光明,高岡義寛
  • 9ディーゼルすすに含まれる多環芳香族(PAHs)のレーザーポストイオン化質量分析工学院大1,東工大資源研2 ○(PC)大石乾詞1,北次加奈2,間山憲仁2,三澤健太郎2,坂本哲夫1,藤井正明2

7.6 イオンビーム一般

3月17日 10:45〜18:30  会場:B5

17a-B5 - 1〜5

  • 1マグネトロンスパッタ源から生成される高エネルギー負イオン照射によるZnO膜の配向制御同志社大1,名工大2 高柳真司1,柳谷隆彦2,松川真美1,渡辺好章1
  • 2イオンビームアシストスパッタ法によるc軸平行AlN薄膜/石英基板の形成名工大 鈴木雅視,柳谷隆彦
  • 3イオン液体イオンビームの質量分析京大工 濱口拓也
  • 4イオン液体イオンビームの固体表面照射効果京大院工 植田 亨,濱口拓也,竹内光明,龍頭啓充,高岡義寛
  • 5Time of Flight-SIMS: upon a quantitative, spatially resolved analysisCEA-Leti, MINATEC Campus, Grenoble, France1,Quantum Science and Engineering Center, Graduate School of Engineering, Kyoto University2,JST-CREST3 ○(PC)Matthieu Py1,2,Jean-Paul Barnes1,Jean-Michel Hartmann1,Jiro Matsuo2,3
  •  昼食 12:00〜13:30

17p-B5 - 1〜18

  • 1電界誘起酸素エッチング法による原子レベルでの電界電離型ガスイオンエミッタ形状の最適化三重大院1,三重大極限ナノエレクトロニクスセンター2 浅井貴之1,杉浦康史1,永井滋一1,2,岩田達夫2,梶原和夫2,畑 浩一1,2
  • 2最適形状を持つ電界電離型イオン源エミッタから放出されたNeイオンの電流安定度測定三重大院工1,三重大極限ナノエレセ2 ○(M1)鈴木優介1,浅井貴之1,杉浦康史1,永井滋一1,2,岩田達夫1,2,梶原和夫1,2,畑 浩一1,2
  • 3飛行時間型質量分析法による電界電離希ガスイオンの価数分布の評価三重大院工1,三重大極限ナノエレセ2 大川隆太1,永井滋一1,2,岩田達夫1,2,梶原和夫1,2,畑 浩一1,2
  • 4プロトンビーム描画によるPTFEの微細加工芝工大工 牧田翔太,原島勇気,西川宏之
  • 5イオンマイクロビームがもたらすPTFE表面の三次元構造変化原子力機構1,理研2 ○(PC)喜多村(小川)茜1,佐藤隆博1,江夏昌志1,神谷富裕1,小林知洋2
  • 6高速重イオン照射によるSiO2中の金属ナノ粒子の楕円変形物材機構1,原子力機構2 雨倉 宏1,石川法人2,大久保成彰2,三石和貴1,中山佳子1
  •  休憩 15:00〜15:15
  • 7単一照射痕観測によるガスクラスターイオンビームの平均電荷の評価兵県大院工1,昭和真空2 古屋隆司1間下喬史1,2,豊田紀章1,山田 公1
  • 8斜入射ガスクラスターイオンビーム照射におけるスパッタ率と表面形状の関係兵県大工 住江健介,豊田紀章,山田 公
  • 9GCIB照射損傷のクラスターサイズ依存性のIn-situ XPSによる評価兵庫県立大 中桐基裕,長峰孝明,豊田紀章,山田 公
  • 10Arクラスターイオンを用いた直行加速飛行時間型SIMS分析京大工1,JST-CREST2,日本電子3 市木和弥1,瀬木利夫1,2,青木学総1,2,田村 淳3,松尾二郎1,2
  • 11ArクラスターSIMSを用いた投影型質量イメージング京大工1,JST-CREST2 山本恭千1,市木和弥1,瀬木利夫1,2,青木学聡1,2,松尾二郎1,2
  • 12バブリング法によるメタノールクラスターイオンビーム生成京大院工1,JST-CREST2 瀬木利夫1,2,青木学聡1,2,松尾二郎1,2
  • 13Ar-CH3OH混合クラスタイオンビーム照射によるSi二次イオン放出京大院工1,JST-CREST2 中川駿一郎1,市木和弥1,2,瀬木利夫1,2,青木学聡1,2,松尾二郎1,2
  •  休憩 17:00〜17:15
  • 14多原子分子クラスターイオンビームの固体表面に対する照射効果京大光電子理工学セ 大村祐貴,龍頭啓充,竹内光明,高岡義寛
  • 15高速重イオンプローブ集束用静電型四重極レンズの開発II京大院1,JST-CREST2 志戸本祥1,瀬木利夫1,2,青木学聡1,2,松尾二郎1,2
  • 16Shave-off 深さ方向分析法の分子動力学的検討東大生研1,東大環セ2 藤井麻樹子1,尾張眞則1,2
  • 17集束イオンビームを用いたシングルイベント三次元TOF-RBS計測の空間分解能評価阪大極限センター 阿保 智,東 嵩之,熊野俊也,若家冨士男,高井幹夫
  • 18Ag負イオン注入によるルチル型TiO2の光触媒特性向上京大院工 ○(M1)宮川 豪,木下翔平,洗 暢俊,辻 博司,後藤康仁