16. 非晶質・微結晶

16.1 基礎物性・評価

3月16日 9:30〜18:45  会場:B6

16a-B6 - 1〜8

  • 1水熱合成法によるシリコン系ナノカプセルの作製阪大基礎工1,阪大ナノセンター2 備 宇宙1,富田健介1,荒 正人2,夛田博一1
  • 2Si薄膜のディウェッティングを利用した方位配向Fe-Siナノ結晶の作製甲南大理工1,阪大産研2,九工大院3 内藤宗幸1,中川達彦1,町田信也1,重松利彦1,須藤孝一2,中尾 基3
  • 3遷移金属内包Siクラスター薄膜の電気伝導特性筑波大院電子・物理工1,産総研ナノエレ部門2,産総研3 岡田直也1,2,内田紀行2,金山敏彦1,3
  • 4UHV-TEM/STMによるSrTiO3上Niクラスターのその場観察物材機構 田中美代子
  •  休憩 10:30〜10:45
  • 5GeH4 VHF-ICP からの高結晶性Ge:H 薄膜堆積 -Ni ナノドットを用いた結晶核発生制御-名大院工1,広大院先端研2,広島国際学院大3 ○(M1)高  金1,牧原克典1,酒池耕平2,林 将平2,出木秀典3,池田弥央2,東清一郎2,宮崎誠一1
  • 6アモルファス水素化シリコンの発光ギャップ日大文理1,広島国際学院大2 ○(M1)佐川 遼1,門司邦孝1,津島浩平1,出木秀典2,村山和郎1
  • 7アモルファス水素化シリコンの発光減衰とシリコンナノ構造(II)日大文理1,広島国際学院大2 ○(M2)津島浩平1,中田仁志1,門司邦孝1,出木秀典2,村山和郎1
  • 8a-Si:H中の正孔トラップの光誘起アニーリング IV産総研 坂田 功,亀井利浩,山中光之
  •  昼食 11:45〜13:30

16p-B6 - 1〜20

  • 1Ge2Sb2Te5相変化薄膜の熱起電力特性群馬大工 後藤民浩,金田健児
  • 2相変化メモリデバイスの低電力化のための材料・素子構造検討超低電圧デバイス技術研究組合 田井光春,大柳孝純,木下勝治,高浦則克
  • 3クロスポイント型相変化デバイスの成膜・加工技術LEAP1,産業技術総合研究所2 高浦則克1,大柳孝純1,田井光春1,木下勝治1,富永淳二2
  • 4アモルファスセレンへの不純物添加:飛行時間二次イオン質量分析 及び,ラマン分光法による結晶評価国際基督教大1,ケンブリッジ大学工2,筑波大院3,産総研4,シンガポール国立大5 斎藤市太郎1,2,大西正徳1,小見山薫1,工藤唯義3増澤智昭1,加藤理親1,山田貴壽4,Daniel Chua5,Angel Koh5,岡野 健1
  • 5中性子反射率測定法によるGeカルコゲナイド薄膜への銀の光拡散の研究CROSS1,原子力機構2,ボイジー州立大(U.S.A.)3 坂口佳史1,吉田 登1,水沢まり1,伊藤崇芳1,鈴木淳市1,久保田正人2,武田正康2,山崎 大2,Maria Mitkova3
  • 6直流スパッタ法によるアモルファスInGaZnO4薄膜の作製と電気的性質群大院工 金田健児,後藤民浩
  • 7ZrO2-SiO2系超高Δ導波路用ガラス膜の作製古河電工 内田泰芳,川島洋志,奈良一孝
  • 8Na添加がSn添加リン酸塩ガラスへ及ぼす影響中部大工 山下将和,岡田諒介,酒井 亮,彦坂誠志,後藤英雄,田橋正浩,井戸敏之
  • 9Sn2+含有ホウ酸塩ガラス蛍光体の発光特性京大化研1,東北大2 正井博和1,鈴木優斗1,山田泰裕1,藤原 巧2,徳田陽明1,横尾俊信1
  • 10Au@SiO2コアシェル型ナノ粒子分散有機色素溶液でのランダムレーザー京大院工 ○(M1)森口雄介,藤田晃司,Xiangeng Meng,村井俊介,田中勝久
  •  休憩 16:00〜16:15
  • 11Yb添加シリカガラスにおけるフォトブリーチング豊田工業大 見波大輝,関谷エジソン,斎藤和也
  • 12Li2Ge4O9結晶における100oC付近の構造相転移東北大院工1,物材機構2 高橋儀宏1,国友 潤1,中村健作1,長田 実2,井原梨恵1,藤原 巧1
  • 13エッチングを施したSBN50結晶化ガラスの光触媒反応による水分解の測定東北大院工1,京大化研2 吉田和貴1,正井博和2,高橋儀宏1,井原梨恵1,藤原 巧1
  • 14シリケートガラスにおけるボソンピーク位置と弾性率の関係東北大1,物材機構2 ○(M2)中村健作1,高橋儀宏1,井原梨恵1,長田 実2
  • 15MO-Nb2O5-TeO2ガラスの低波数ラマンスペクトル解析と三次非線形光学特性名工大院1,リモージュ大2 早川知克1,須原貴稔1,野上正行1,トーマス フィリップ2
  • 16低Tgビスマスホウ酸塩ガラスの吸収端エネルギーとラマン散乱産総研 北村直之,福味幸平
  • 17アモルファスSiO2中の酸素ダングリングボンドの紫外-真空紫外域光吸収Latvia大1,首都大2,東工大3 Linards Skuja1梶原浩一2,平野正浩3,細野秀雄3
  • 18高エネルギーX線回折を用いたPDF解析及びMD計算によるITO溶液の微細構造解析北陸先端大1,ERATO下田液体P2,高輝度光科学研3 廣瀬大亮1杉山 歩2,小原真司3,藤原明比古3,尾原幸治3,下田達也1,2
  • 19超音波マイクロスペクトロスコピー技術による合成石英ガラスの屈折率評価東北大院工1,東ソー・エスジーエム2 荒川元孝1,大橋雄二1,丸山由子1,貝賀俊介1,櫛引淳一1,森山賢二2,堀越秀春2
  • 20超音波マイクロスペクトロスコピー技術によるVAD法SiO2ガラスインゴットの均質性評価東北大院工1,東北大工2,東ソー・エスジーエム3 櫛引淳一1,荒川元孝1,大橋雄二1貝賀俊介2,堀越秀春3,森山賢二3

16.1 基礎物性・評価

3月17日 会場:GP11
ポスターセッション
ポスター掲示時間9:30〜11:30

17a-GP11 - 1〜3

  • 1ポリオール還元法によるPdナノ粒子合成における塩酸の添加効果産総研 粕谷 亮,三木 健,多井 豊
  • 2電場誘導第二高調波発生法によるアモルファスシリコン薄膜太陽電池の研究東工大ソリューション機構1,東工大理工2,Trony Solar3 欧陽 威1,2,間中孝彰2,内藤誠一1,国友亨二1,岩本光正2,胡 盛明3,李  毅3
  • 3SnO-ZnO-P2O5-SiO2系ガラスの熱的特性とガラス構造東北大院工1,京大2 井原梨恵1,黒江礼奈1,高橋儀宏1,正井博和2,藤原 巧1