シンポジウム

15p-F3 - 1〜10

• 1はじめに - ３Ｄ原子イメージング技術の新展開（10分）奈良先端大学 ^○大門　寛
• 2光電子回折分光法と立体原子写真による元素・層・サイト依存状態解析（30分）奈良先端大物質創成¹，JASRI^{2 ○}松井文彦¹，前島尚行¹，松井公佑¹，松下智裕²，大門　寛¹
• 3蛍光Ｘ線ホログラフィーの薄膜試料への展開（30分）東北大学 ^○林　好一
• 4電子回折イメージング（30分）北大・工 ^○郷原一寿
• 53D local structure analysis of relaxor ferroelectrics by X-ray fluorescence holographyJapan Atomic Energy Agency¹，東北大金研²，広島市大³，USTB⁴，SFU⁵，Hiroshima Inst. Tech.⁶，兵庫県大^{7 ○}Wen Hu¹，林　好一²，八方直久³，大和田謙二¹，Jun Chen⁴，Zuo-Guang Ye⁵，細川伸也⁶，高橋正光^1,7
•  休憩　14:55〜15:10
• 6Ｘ線CTR散乱を用いた表面及び界面の原子イメージング（30分）東大物性研 ^○高橋敏男
• 7光電子・逆光電子ホログラフィーと先端原子像再生アルゴリズム（30分）JASRI¹，奈良先端大²，堀場³，東北大^{4 ○}松下智裕¹，松井文彦²，大門　寛²，上坂彰朗³，林　好一⁴
• 8光電子ホログラフィーと蛍光Ｘ線ホログラフィーの相補利用：強磁性半導体薄膜の測定例から（30分）広島市大情報 ^○八方直久
• 9Fe2O3結晶を使用した蛍光X線ホログラムの計測・解析法に関する研究SPpring-8/JASRI¹，広島市立大²，広島工大³，東北大/金研^{4 ○}岡田京子¹，松下智裕¹，依田芳卓¹，大端　通¹，櫻井吉晴¹，八方直久²，細川伸也³，林　好一⁴
• 10蛍光X線ホログラフィー法による希薄磁性半導体ZnSnAs₂:Mn薄膜のMn置換サイトの解析長岡技科大¹，東北大²，広島市立大³，広島工大⁴，JAEA⁵，JASRI^{6 ○（M2）}山神圭太郎¹，林　好一²，内富直隆¹，八方直久³，竹原祐紀³，細川伸也⁴，Wen Hu⁵，鈴木基寛⁶