シンポジウム

15p-A4 - 1〜7

• 1光ナノインプリントの半導体応用（15分）兵庫県大¹，JST-CREST^{2 ○}松井真二^1,2
• 2半導体製造用光インプリントリソグラフィー装置（35分）モレキュラー・インプリンツ ^○和田英之
• 3光ナノインプリント用モールド（35分）大日本印刷 ^○林　直也
• 4凝縮性ガスPFPを用いた光ナノインプリント（35分）産総研集積マイクロ ^○廣島　洋
•  休憩　15:00〜15:15
• 5光ナノインプリントにおける離型評価（35分）兵庫県立大学¹，JST-CREST^{2 ○}伊吉就三^1,2，岡田　真^1,2，松井真二^1,2
• 6光ナノインプリントの物理化学とシミュレーション（35分）大阪府立大院工¹，JST-CREST^{2 ○}平井義彦^1,2
• 7光ナノインプリントにおける界面科学（35分）東北大多元研 ^○中川　勝