8. プラズマエレクトロニクス

8.3 プラズマ成膜･表面処理

3月17日　15:30〜18:45　　会場：B8

17p-B8 - 9〜20

  •  1〜8　13:15〜15:15（8.2 プラズマ成膜･表面処理）
  •  休憩　15:15～15:30
  • 9PETフィルム上のスパッタITO層のプラズマアニール効果中部大工1，東洋紡2 ○小川恭史1，加藤公孝1，中村圭二1，伊関清司2，菅井秀郎1
  • 10SiO2膜上Hfナノ粒子への窒素プラズマ照射によるHfSiON膜作製 〜 N原子表面反応へのHfのサイズ効果2防衛大 ○北嶋　武，中野俊樹
  • 11プラズマ支援ミストCVDを用いた酸化亜鉛薄膜形成におけるプラズマ照射の効果阪大接合研 ○竹中弘祐，奥村祐介，節原裕一
  • 12バイオイメージング応用のためのZnOナノ微粒子のプラズマ表面修飾Graduate School of Science and Technology, Shizuoka University1，Research Institute of Electronics, Shizuoka University2，Alexandru Ioan Cuza University3 ○Mihai Ciolan1,3，Iuliana Motrescu2，Akihisa Ogino1，Dumitru Luca3，Masaaki Nagatsu1
  • 13高安定a-Si:H 膜を用いたショットキーセル特性の光照射時間依存性九大1，JSTさきがけ2 ○（M1）波戸崎浩介1，中原賢太1，橋本優史1，松永剛明1，山下大輔1，松崎秀文1，徐　鉉雄1，内田儀一郎1，板垣奈穂1,2，古閑一憲1，白谷正治1
  • 14クラスター除去フィルタを用いたPドープn型a-Si:Hの製膜九大 ○（B）橋本優史，中原賢太，松永剛明，波戸崎浩介，内田儀一郎，徐　絃雄，板垣奈穂，鎌滝晋礼，古閑一憲，白谷正治
  •  休憩　17:00〜17:15
  • 15大気圧VHFプラズマを用いたSiの低温・高速形成とその特性評価阪大 ○平野　亮，對馬哲平，山田高寛，大参宏昌，垣内弘章，安武　潔
  • 16狭ギャップマイクロ波水素プラズマによるSi高速エッチングにおける水素ガス流量の影響阪大院工1，JST CREST2 ○岡本康平1，山田高寛1,2，大参宏昌1,2，垣内弘章1,2，安武　潔1,2
  • 17大気圧VHFプラズマにより常温・高速形成したシリコン酸化膜の特性評価阪大 ○横山京司，岡村康平，山田高寛，大参宏昌，垣内弘章，安武　潔
  • 18プラズマCVD法を用いたSiOxNy膜における耐熱性の検討山口大院理工 ○（B）弘田雄太郎，内田聡充，山根啓輔，岡田成仁，只友一行，中山雅晴
  • 19ポーラスシリコン層を用いたマイクロ熱プラズマジェット照射結晶成長における面方位制御広大院先端研 ○林　将平，松原良平，池田弥央，東清一郎
  • 20プラズマスプレーPVDを用いたSiOx系ナノ複合化材料によるLiイオン電池のサイクル特性向上東大院工 ○本間啓一郎，秀島　輔，神原　淳，吉田豊信

8.3 プラズマ成膜･表面処理

3月18日　9:00〜12:00　　会場：B8

18a-B8 - 1〜11

  • 1シュラウドを有するN2/H2大気圧メゾプラズマジェットを用いた銅表面の広範囲還元処理豊橋技科大1，大研化学工業2，金属技研3 ○（M1）西尾　啓1，鹿又大資1，田上英人1，須田善行1，滝川浩史1，志岐　肇2，尾ノ井正裕3
  • 2キャピラリープラズマジェットを用いたバイオイメージング用ポリマー表面の官能基パターニングResearch Institute of Electronics, Shizuoka Univ.1，Graduate School of Engineering, Shizuoka Univ.2，Graduate School of Sci and Technol., Shizuoka Univ.3 ○Iuliana Motrescu1，Michiyoshi Naito2，Akihisa Ogino3，Futoshi Iwata3，Masaaki Nagatsu3
  • 3大気圧プラズマジェットを用いたポリイミド上の銅薄膜堆積静大創造科技院1，矢崎総業2 ○趙　　鵬1，中廣尚志1，荻野明久1，鄭　　偉2，永津雅章1
  • 4パルス放電を用いたカーボンナノチューブの表面処理中部大工1，TMP2 ○中村圭二1，宮内　謙1，小澤慶記1，北　克哉1，幅上茂樹1，橋本和昭2
  • 5プラズマ処理によるカーボンナノチューブの機能化と水溶化静岡大・理 菅谷由美子，○三重野哲
  •  休憩　10:15〜10:30
  • 6磁束分布可変型対向スパッタのターゲット間磁束密度測定山口大 ○諸橋信一，升元佑一，伊藤將司，高木史博
  • 7準大気圧下での反応性ガスを用いたマイクロ波プラズマの数値計算産総研ダイヤラボ ○山田英明，茶谷原昭義，杢野由明，坪内信輝，鹿田真一
  • 8マイクロ波プラズマCVD法を用いたグラフェン膜の作製名城大理工1，名大院工2 ○内藤全晃1，平松美根男1，近藤博基2，堀　　勝2
  • 9プラズマ励起化学気相堆積法で成長したアモルファスカーボン膜の電気的特性名大院工 ○九鬼　淳，于　楽泳，近藤博基，関根　誠，堀　　勝
  • 10プラズマ異方性CVDカーボン膜の硬度のイオンエネルギー依存性九大シス情1，阪大接合研2，名大院工3，JST,PRESTO4，JST,CREST5 ○浦川達也1，鳥越隆平1，徐　鉉雄1，内田儀一郎1，板垣奈穂1,4，古閑一憲1,5，白谷正治1,5，節原裕一2,5，関根　誠3,5，堀　　勝3,5
  • 11マイクロ波を用いた内面DLC成膜中のチューブ内における原料ガス枯渇の観察名大院工機械 松井良輔，○上坂裕之，梅原徳次