8. プラズマエレクトロニクス

• 7「プラズマエレクトロニクス分科内招待講演」（30分）
  常識になっていないプラズマ現象２題（シース・対流）名大工 ^○河野明廣
• 8「プラズマエレクトロニクス分科内招待講演」（30分）
  プラズマ応用ナノカーボンナノバイオトロニクス東北大院工 ^○畠山力三

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• 1粉体スパッタリング法を用いたTiOx薄膜の作製佐世保高専 ^○川崎仁晴，荒舩健人，大島多美子，柳生義人，須田義昭
• 2低圧Ar/O₂プラズマによる二酸化チタンの構造制御東北大 ^○山崎陽介，飯塚　哲
• 3RFマグネトロンスパッタ法で作成した二酸化チタン薄膜を用いた広帯域光デバイスの基礎検討京都大院工 ^○秋山知英，酒井　道
• 4新しい磁石を用いた高真空マグネトロンスパッタ装置の開発理科大工 ^○柳生大輔，伊藤勝利，大野泰典，斉藤　茂
• 5マイクロ波酸素プラズマ下流域におけるシリコントレンチの異方性酸化東海大 ^○谷内康行，山田利宜，内海倫明，磯村雅夫，進藤春雄
• 6SiH₄＋N₂ガスを原料とするVHF-PECVD法によるSiN_x低温成膜東京工芸大工 ^○小林信一
• 7プラズマ重合を利用する三次元ナノ構造の作製芝浦工大工 ^○中村竜介，入江　亮，六車仁志
• 8窒化スズ薄膜の結晶相に対する基板角度条件の影響千葉工大¹，名大^{2 ○}細貝健史¹，井上泰志¹，高井　治²
• 9水素プラズマを用いた遷移金属加熱技術の開発(II)山梨大¹，SST^{2 ○}中村浩之¹，池田礼隆¹，川口裕樹¹，荒井哲司¹，高松利行²，有元圭介¹，山中淳二¹，佐藤哲也¹，中川清和¹
• 10a-SiN薄膜の製膜条件を変化させる事によるPL発光強度への影響早大院先進理工 ^○（M1）梶山　裕，船津友希，加藤　勇
• 11C3F8凝縮層の低速電子線衝撃によるa-C:F薄膜の極低温合成山梨大クリーンエネルギー研¹，アスカインデックス^{2 ○}胡　雪冰¹，山田竜太郎¹，小林直樹¹，川上浩一²，佐藤哲也¹
• 12大気圧パルスプラズマによる沿面放電を利用したDLC膜の形成名工大 ^○浜田浩史，橋本賢治，中田鉄兵，安井晋示
• 13CCP-CVDにおけるAr-有機シリコン化合物プラズマの反応過程千葉工大¹，名古屋大^{2 ○}根岸正樹¹，星野隆史¹，井上泰志¹，高井　治²
• 14InPのICP-RIE加工表面の粗さ評価千葉大院・融合 ^○（M1）小林大樹，角田勝健，坂東弘之，松末俊夫
• 15狭ギャップマイクロ波水素プラズマによるSi高速エッチングにおけるSiH4再分解の影響阪大院工¹，JST CREST^{2 ○}山田高寛^1,2，岡本康平¹，大参宏昌^1,2，垣内弘章^1,2，安武　潔^1,2
• 16HラジカルによるSi表面プラズマエッチングにおける表面H拡散の役割阪大院工¹，JST-CREST^{2 ○}稲垣耕司^1,2，森川良忠¹，安武　潔^1,2
• 17NH₃/CH₄マイクロ波プラズマを用いたポリイミド基板上数層グラフェンシートの低温合成静大院¹，ゴメル大^{2 ○}Raman Bekarevich^1,2，三浦彰太¹，荻野明久¹，Alexander Rogachev²，永津雅章¹
• 18プラズマ支援熱フィラメントCVD法で作製したナノカーボン微粒子の水素貯蔵特性京都工繊大 ^○山田竜平，木村佳史，林　康明
• 19大気圧から高圧力液中レーザアブレーションによるナノ粒子合成阪大院工¹，産総研^{2 ○（PC）}Sergei Kulinich¹，近藤崇博¹，清水禎樹²，伊藤剛仁¹
• 20ソリューションプラズマにより合成したPdナノ粒子の構造研究名大院工¹，名大エコ研²，CREAT-JST^{3 ○}趙　星彪¹，斎藤永宏^1,2，高井　治^2,3

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• 1Disinfection with streamer discharge at normal atmospheric pressure- end point and carrier damage山梨大院¹，University of Malaysia-Perlis²，日本ガイシ^{3 ○}秋津哲也¹，シティーカディジャ ザアバ²，長幡昌平¹，渡部　俊¹，大川博司¹，平山けい子¹，清水尚博³，今西雄一郎³
• 2マイクロ波空気トーチプラズマを用いた小型歯科用器材の滅菌特性佐賀大理工¹，佐賀大医²，琉球大工^{3 ○}綾部孝之¹，林　信哉¹，山下佳雄²，後藤昌昭²，米須　章³
• 3プラズマ照射による農作物の殺菌消毒佐世保高専¹，佐賀大理工^{2 ○}柳生義人¹，坂本翔太¹，野田美菜子¹，山崎隆志¹，林　信哉²，川崎仁晴¹，大島多美子¹，須田義昭¹
• 4酸素ラジカル照射による植物細胞内の酸化還元応答と成長促進効果佐賀大理工¹，九大シス情報²，九大農^{3 ○}秋吉雄介¹，林　信哉¹，北崎　訓²，古閑一憲²，白谷正治²，松下智直³
• 5パルス放電によるフェノール分解と分解生成物の詳細分析室蘭工大 塩田晴基，^○佐藤孝紀，伊藤秀範
• 6Characteristics of Microdischarges in Microplasma静岡大 Marius Blajan，^○清水一男
• 7大気圧直流コロナ放電中のo-, m-およびp-キシレン分解過程室蘭工大 酒井誠二，^○佐藤孝紀，伊藤秀範
• 8Effect of growth temperature on chemical bonding structures of amorphous carbon films prepared by radical-injection plasma-enhanced chemical vapor depositionDept. of Electrical Engineering and Computer Science, Nagoya University ^○（M1）于　楽泳，九鬼　淳，近藤博基，石川健治，関根　誠，堀　　勝
• 9Simulation of Plasma Assisted Combustion (2) Electron energy distribution functions in methane, oxygen and argon mixture gasN.D.A.¹，Hokkaido Univ.^{2 ○}明石治朗¹，Koichi Sasaki²，Tomokazu Yoshinaga¹
• 10Conversion of Biomass to Ethanol by Solution Plasma名大エコトピア科学所¹，名大工学研究科マテリアル理工学専攻^{2 ○}李　靄倫¹，齋藤永宏^1,2，高井　治¹
• 11CZTSターゲットマグネトロンスパッタリングプラズマ気相における金属原子の化学反応の可能性北大工 ^○（M1）菊地瞬也，佐々木浩一
• 12Diagnostics of Nano Seconds Pulsed Discharge Plasmas Using Laser Thomson Scattering九大総理工 ^○Nima Bolouki，富田健太郎，山形幸彦，内野喜一郎
• 13大気圧プラズマジェットの基礎特性大阪府大放射線センタ ^○松浦寛人
• 14水素プラズマが誘起するシリコン(110)面への水素吸着における基板温度の効果長崎大院生産科学¹，長崎大院工² 原幸治郎¹，高見佳生²，高木雄也²，^○篠原正典²，松田良信²，藤山　寛²
• 15単極磁場配位によるRFマグネトロンスパッタのターゲット利用改善佐大院工 ^○大津康徳，執行正和，三沢達也
• 16大気開放プラズマCVD法による硬質膜の生成 - 雰囲気ガスの膜質に及ぼす影響 -愛媛大工 ^○柴田裕介，八木秀次，川上二郎，八原将時
• 17Effects of Silicon Nano-par ticles on Pr oper ties of Micr ocr ystalline Silicon Thin Films Fr abr icated using Multi-hollow Dischar ge CVD Plasmas九大 ^○Yeonwon Kim，松永剛明，徐　鉉雄，鎌滝晋礼，内田儀一郎，板垣奈穂，古閑一憲，白谷正治
• 18マイクロ波を用いた大気圧空気プラズマの生成産総研¹，東大²，放送大^{3 ○}金　載浩¹，ドンミン キム²，桂井　誠³，大崎博之²
• 19マイクロ波伝搬と負誘電率プラズマ生成の同時進行現象京都大工 飯尾　聡，^○中村嘉浩，酒井　道
• 20空気を用いた空間的アフターグロープラズマによる低温高速滅菌早大院先進理工 ^○田端　究，神山貴洋，加藤　勇
• 21液体陽極を用いた大気圧プラズマによる金属ナノ粒子生成の制御首都大東京 ^○芝崎翔悟，杤久保文嘉，内田　諭，白井直機
• 22Characteristics of pulsed discharges using a parallel plate type electrodes with a bubble generating porous ceramic dielectric inside water静大創造科技院 ^○Sonia Muradia，荻野明久，永津雅章
• 23水電極を有する大気圧直流放電の検討東工大 ^○池田　圭，安藤瑞基，竹内　希，安岡康一