第59回（2025年秋季）応用物理学会講演奨励賞 受賞者
所属の表記は予稿集掲載内容より引用
大分類分科ごとの講演発表日・講演番号のアルファベット順／敬称略
| 受賞者 （講演時の所属） |
大分類分科名 | 講演番号 | 講演題目 （受賞者以外の共著者，所属） |
|---|---|---|---|
| 岡本 一真 （阪大院基礎工） | 1.応用物理学一般 | 10p-N406-4 | 磁気力顕微鏡を用いた非磁性体抵抗率計測の試料加振による感度向上の検証（居村 拓弥1，阿保 智1，若家 冨士男1，村上 勝久2，長尾 昌善2 (1.阪大基礎工，2.産総研)） |
| 伊師 大貴 （JAXA 宇宙研） | 2.放射線 | 10p-N107-5 | 高温塑性変形技術を用いた湾曲Siブラッグ結晶によるX線偏光撮像分光の実証（石牟礼 碧衣1，江副 祐一郎1，石川 久美1，沼澤 正樹1，森下 弘海1，森本 大輝1，宮内 俊英1，小笠原 勇翔1，世良 直也1，福島 優1，満田 和久2，森下 浩平3，中嶋 一雄4 (1.都立大理，2.国立天文台，3.九州大工，4.東北大金研)） |
| 岡本 章宏 （大阪大学） | 3.光・フォトニクス | 7a-N321-3 | テラヘルツエリプソメトリによる異方性のある表面伝導薄膜の解析（永井 正也1，芦田 昌明1，藤井 高志2 (1.阪大院基礎工，2.日邦プレシジョン)） |
| 山名 裕斗 （神戸大学） | 3.光・フォトニクス | 7p-N106-13 | 構造発色シリコンナノ粒子のインクジェット印刷技術（杉本 泰，藤井 稔 (神戸大院工)） |
| 小川 宏太朗 （東京大学） | 3.光・フォトニクス | 8a-N405-6 | 中空ファイバーを用いた二段階パルス圧縮による高強度広帯域マルチテラヘルツ光の発生（神田 夏輝1,2，室谷 悠太1，石井 順久3，松永 隆佑1 (1.東大物性研，2.理研光量子セ，3.量研関西)） |
| LEE HYUNJI （京都大学） | 3.光・フォトニクス | 8p-N204-7 | 異方性B81型金属間化合物ナノ粒子の局在表面プラズモン共鳴特性（竹熊 晴香1,2，佐藤 良太2，飯田 健二3，寺西 利治1,2 (1.京大院理，2.京大化研，3.北大触媒科学研)） |
| 山本 悠貴 （大阪大学） | 3.光・フォトニクス | 8p-N205-2 | 強度輸送方程式を用いたシングルショットベクトル光波イメージング手法の検討（下村 優，小倉 裕介 (阪大院情)） |
| 蟻生 高人 （東京大学） | 3.光・フォトニクス | 9p-N204-4 | GHz帯域プラズモニック有機ハイブリッド面入射型光変調器（相馬 豪，宮野 広基，唐木田 晴大，種村 拓夫 (東大院工)） |
| 遠藤沙恵 （慶應義塾大学） | 4.JSAP-Optica Joint Symposia | 7p-N203-7 | Landau Polaritons in Nanoslots in the Ultrastrong Coupling Regime: Breakdown of the Electric-Dipole Approximation（Dasom Kim1, Sunghwan Kim2, Dukhyung Lee3, Shuang Liang4, Geon Lee5,6, Michael J. Manfra4, Minah Seo5,7, Dai-Sik Kim2,6, Junichiro Kono1 (1.Rice Univ., 2.Ulsan National Inst. of Sci. and Tech., 3.Mohammed VI Polytechnic Univ., 4.Purdue Univ., 5.Korea Inst. of Sci. and Tech., 6.Seoul National Univ., 7.Korea Univ.)） |
| 萌出 大道 （電機大） | 6.薄膜・表面 | 8a-N321-6 | N-DLC電極の構造制御による電気化学応答と醸造製品の分類（赤坂 大樹2，青野 祐美3，針谷 達4，向山 義治1，平栗 健二1，大越 康晴1 (1.電機大，2.東京科学大，3.鹿児島大，4.岐阜大)） |
| 宇佐美 潤 （産総研） | 6.薄膜・表面 | 9p-N201-3 | 強誘電体薄膜における非反転分極の起源（岡本 有貴，井上 悠，小林 健，山田 浩之 (産総研)） |
| 浜砂 智 （九大） | 6.薄膜・表面 | 9p-N206-9 | 水素ガス圧に対するVO2相変化の研究（矢嶋 赳彬 (九大)） |
| 宮崎 俊明 （北大工） | 8.プラズマエレクトロニクス | 10a-N324-9 | 自己組織化した発光模様を伴うHe直流グロー放電での換算電界および平均電子エネルギーの推定および発光機構の考察（佐々木 浩一，白井 直機 (北大工)） |
| 睦 承源 （東大工） | 8.プラズマエレクトロニクス | 10p-N323-6 | トムソン散乱およびラマン散乱を用いた空気中ストリーマ放電の電子密度・ガス温度の計測：印加電圧の影響（富田 健太郎2，小野 亮1 (1.東大工，2.北大工)） |
| 関根 季織 （東京大学） | 9.応用物性 | 7a-N206-8 | ナノワイヤアレイQCMにおけるモノテルペンの反応副生成物の遅い吸着を利用したシトラス香分子の識別（細見 拓郎1，本田 陽翔1，劉 江洋1，田中 航1，高橋 綱己1，柳田 剛1,2 (1.東大院工，2.九大先導研)） |
| 辻本 卓哉 （名古屋大学） | 10.スピントロニクス・マグネティクス | 8p-N303-4 | Tuning of the anomalous Nernst effect in Co-based maze-like structures（Takeshi Fujita2, Toshio Miyamachi1, Masaki Mizuguchi1 (1.Nagoya Univ., 2.Kochi Univ. Tech.)） |
| 西村 俊亮 （東大理） | 11.超伝導 | 8a-N404-9 | 銅酸化物超伝導体の電流に誘起された量子渦状態の可視化（辻 赳行1,2，岩崎 孝之2，波多野 睦子2，佐々木 健人2，小林 研介2 (1.物材機構，2.科学大)） |
| 田附 冬帆 （千葉大学大学院） | 12.有機分子・バイオエレクトロニクス | 7a-N304-5 | アルミニウムとアクセプター分子との相互作用を利用した高仕事関数電極の開発（大原 正裕2，岡田 壮史3，新井 信道3，石井 久夫1,4,5，深川 弘彦1,4,5 (1.千葉大融合理工，2.信州大工，3.東ソー株式会社，4.千葉大先進，5.千葉大MCRC)） |
| 佐々木 陽向 （豊橋技術科学大学） | 12.有機分子・バイオエレクトロニクス | 7p-N305-17 | 低侵襲ニューロン計測に向けた直径5µmパリレンマイクロニードル電極デバイス（清水 快季，Rexy Alvian Nerchan，高橋 尚大，山下 幸司，沼野 利佳，鯉田 孝和，河野 剛士 (豊橋技科大)） |
| 粟倉 幸 （東京大学） | 12.有機分子・バイオエレクトロニクス | 7p-N307-8 | 可視光と近赤外光を選択的に検出可能な積層有機光検出器の開発（甚野 裕明1,2，多川 友作1，染谷 隆夫1，横田 知之1 (1.東大院工，2.JAXA宇宙研)） |
| 冨田 真由 （広島大学大学院） | 12.有機分子・バイオエレクトロニクス | 8a-S202-5 | チアゾール縮環骨格を有する新規半導体ポリマーの開発と有機薄膜太陽電池への応用（山中 滉大，三木江 翼，尾坂 格 (広島大学大学院)） |
| 千歳 洋平 （九州大学） | 12.有機分子・バイオエレクトロニクス | 10a-N321-6 | 近赤外2光子応答性TADF分子の創製と蒸着型OLEDへの展開（マゲスワリ ゴマチ ヴィナヤカム1，善家 良太1，井手 俊栄1，木幡 真太郎1，リン ジャホン3，土屋 陽一1，安達 千波矢1 (1.九大OPERA，2.九大CMS，3.NTUT)） |
| 村瀬 詩花 （阪大院工） | 13.半導体 | 8a-N403-1 | ウェットプロセスで形成したSiトレンチ構造底部の表面状態の観測（東 知樹，稲垣 耕司，有馬 健太 (阪大院工)） |
| 藤原 千隼 （東北大工） | 13.半導体 | 9a-N205-7 | 中性子検出に向けた新規ゼロ次元型Li2HfX6ハロゲン化物シンチレータの電子・発光特性（黒澤 俊介1,2,3,4，山路 晃広1,2，吉川 彰1,2 (1.東北大 金研，2.東北大 NICHe，3.阪大レーザー研，4.京都大 複合研)） |
| 住吉 壱心 （京大工） | 13.半導体 | 9p-N323-6 | Zn3P2をZn源に用いたZnSnP2/GaAsエピタキシャル成長（野瀬 嘉太郎 (京大工)） |
| 吉永 啓人 （東大工） | 13.半導体 | 10a-N302-9 | CMOS応用に向けた高不純物濃度Siの極低温伝導度モデリング（豊島 遼1，多田 宗弘2，内田 建1 (1.東大工，2.慶大)） |
| 高橋 俊 （東大院工） | 15.結晶工学 | 9p-N301-3 | 誘導ラマン散乱を用いたGaN結晶中転位の高速3Dイメージング（若本 裕介1，車 一宏2，前田 拓也1，小関 泰之1,2 (1.東大院工，2.東大先端研)） |
| 前田 亮太 （NTT物性研） | 15.結晶工学 | 9p-N321-14 | c-BScNエピタキシャル薄膜のスパッタリング成長機構（谷保 芳孝1，熊倉 一英1，二宮 翔2，西堀 麻衣子2，平間 一行1 (1.NTT物性研，2.東北大学)） |
| 峰久 恵輔 （北大量集セ） | 15.結晶工学 | 10a-N402-5 | 2インチSiOx/Si(111)ウエハ上垂直GaAsナノワイヤの100%収率に向けたドロップレットエッチングの活用（佐野 真浩，和島 颯汰，後藤 拓翔，中間 海音，石川 史太郎 (北大量集セ)） |
| 折原 周平 （東北大学） | 16.非晶質・微結晶 | 7a-N405-6 | スパッタリング法で成膜されたアモルファスVTe2薄膜の結晶化挙動（双 逸1,2，安藤 大輔1，須藤 祐司1,2 (1.東北大工，2.東北大AIMR)） |
| 榊原 涼太郎 （物質・材料研究機構） | 17.ナノカーボン・二次元材料 | 7p-N302-17 | グラフェン/SiC(0001)上のWSe2およびMoS2における歪み導入（平田 海斗3,4，高橋 康史4，乗松 航5，宮田 耕充1,2 (1.物材機構，2.都立大，3.名工大，4.名大，5.早大)） |
| 遠藤 幹大 （東京大学） | 17.ナノカーボン・二次元材料 | 8p-N302-2 | ゲート誘起トポロジカル磁性相転移の観測（松岡 秀樹2,3，岩佐 義宏1,3，中野 匡規1,3,4 (1.東大院工，2.東大生研，3.理研CEMS，4.芝浦工大工)） |
| Ilasin Mark （奈良先端科学技術大学院大学） | 21.合同セッションK（ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス） | 9a-N105-7 | Rare-Metal-Free Solution-Processed Source-Gated Transistors via Argon Plasma-induced Contact Optimization（Juan Paolo Soria Bermundo1, Pongsakorn Sihapitak1, Candell Grace Paredes Quino1, Magdaleno Jr. Rigodon Vasquez2, Senku Tanaka3, Hidenori Kawanishi1, Yukiharu Uraoka1 (1.NAIST, 2.UPD, 3.Kindai Univ.)） |
| 小松 裕明 （東京理科大学） | フォーカストセッション（AIエレクトロニクス) | 10a-N106-7 | 波長依存型双極性色素増感人工シナプス素子の創製と物理リザバー応用（細田 乃梨花，生野 孝 (東理大先進工)） |
| 関口 雄平 （横浜国立大学） | 研究会セッション（KS.2 量子情報工学研究会） | 9a-N304-3 | ダイヤモンドナノフォトニック構造中のSnV中心における電気機械変調（ナースィル アブドゥル1,2，黒川 穂高1,2，鎌田 幹也1,3，羽中田 祥司1,3，国井 昌樹1,3，玉貫 岳正1,2,3，石田 悟己4，松清 秀次5，ポンセン ナタチャック5，西岡 政雄5，池 尙玟5，大槻 秀夫4，木村 晃介6，竹中 康太6，小野田 忍2,6，馬場 俊彦1,2,3，岩本 敏2,4,5，小坂 英男1,2,3 (1.横国大IAS，2.横国大QIC，3.横国大院工，4.東大RCAST，5.東大IIS，6.量子科学技術研究開発機構)） |
| 辻 赳行 （物質・材料研究機構） | 研究会セッション（KS.1 固体量子センサ研究会） | 9p-N303-5 | ダイヤモンド中の転位のストレステンソルイメージング（原田 俊太2，寺地 徳之1 (1.物材機構，2.名古屋大)） |
