第5回（1998年秋季）応用物理学会講演奨励賞 受賞者
大分類分科ごとの講演発表日・講演番号のアルファベット順／敬称略
| 受賞者 （講演時の所属） |
大分類分科名 | 講演番号 | 講演題目 （受賞者以外の共著者，所属） |
|---|---|---|---|
| 布村 正太（名大工） | 放射線・プラズマエレクトロニクス | 15a-Q-25 | プラズマ-シース境界での微粒子の不安定振動（名大工：三沢達也，浅野和仁，大野哲靖，高村秀一） |
| 藤田 克昌（阪大工） | 光 | 15a-N-5 | 実時間観察可能なレーザー走査2光子励起蛍光顕微鏡（阪大工：イグナー・アレックス，中村 収，河田 聡） |
| 大坊 真洋（岩手大・岩手県工技セ） | 光 | 17a-ZA-7 | 計算機ホログラフィと計算機断層法を結合した立体透視方法（岩手大：田山典男） |
| 藤田 澄（広大工） | 量子エレクトロニクス | 17a-T-11 | 分布帰還型微小共振器中の層状ペロブスカイト半導体薄膜におけるポラリトン効果（広大工：北林和大，石原照也） |
| 桑田 真宏（近畿大理工） | 量子エレクトロニクス | 17p-Z-16 | 生体インプラント用HAp-Al2O3 複合材料作成の一方法（近畿大理工：熊崎建二，松谷貴臣，中山斌義） |
| 阪本 匡（NTT光エレ研） | 光エレクトロニクス | 17p-P-3 | テルライト系EDFAにおけるspectral hole-burningの観測（NTT光エレ研，NTTエレクトロニクス*：森 淳，島田俊之，金森照寿，山田 誠*，大石泰丈*，清水 誠） |
| 中津原 克己（東工大） | 光エレクトロニクス | 17p-X-13 | GaInAsP-DFB導波路を用いた全光学的AND動作（東工大，東大*：水本哲弥，ホセイン サイヌル，朴 己煥，鄭 錫煥，馬 炳真*，中野義昭*） |
| 山中 貞則（電総研・筑波大連携大） | 薄膜・表面 | 15a-P-7 | Bドープホモエピタキシャルダイヤモンド薄膜の合成と評価（III）（電総研*，筑波大連携大**，東海大***：渡辺幸志*,**，政井茂雄*,***，竹内大輔*，大串秀世*，梶村皓二*,**） |
| 大西 秀朗（科技団高柳プロ） | 薄膜・表面 | 15a-X-8 | STM探針と金属表面間に形成された量子ワイヤのTEM観察（科技団高柳プロ*，東工大総理工**：近藤行人*，高柳邦夫*,**） |
| 尹 聖民（東工大精研） | 薄膜・表面 | 17p-G-23 | SrBi2Ta2O9 薄膜を用いたMFSFETマトリックス構造の作製（東工大精研：徳光永輔，石原 宏） |
| 中野 武雄（成蹊大工） | 薄膜・表面 | 18a-W-5 | 高圧力下のスパッタ製膜における膜厚分布のシミュレーション（成蹊大工：馬場 茂） |
| 福手 隆仁（名大工） | ビーム応用 | 15p-C-3 | 基板へのCFx＋イオンビーム照射により生成された中性ラジカルの検出（名大工：森島寿之，豊田浩孝，菅井秀郎） |
| 眞子 祥子（NEC基礎研） | ビーム応用 | 16a-B-4 | Poly(α-methylstyrene)レジストによるサブ10nm電子ビームリソグラフィ（NEC基礎研：藤田淳一，落合幸徳，野村英一） |
| Xia Sheng（農工大工） | ビーム応用 | 17a-A-9 | Effcient and Stable Cold Electron Emission form Porous Poly-crystalline Silicon Diodes（農工大工，松下電器*：Takashi Hatai*，Takuya Komoda*，Nobuyoshi Koshida） |
| 秋山 守人（九州工技研） | 応用物性 | 15p-L-4 | 応力活性化Sr3Al2O6：Euからの強い可視光放出（九州工技研：徐 超男，野中一洋，渡辺忠彦） |
| 間瀬 淳（名大工） | 超伝導 | 15p-ZM-3 | 銀添加Sm-Ba-Cu-O溶融バルクの作製とその超伝導特性（II）（名大工，イムラ材研*，名大理工総研**：細川哲央，吉川雅章*，伊藤佳孝*，柳 陽介*，岡 徹雄*，生田博志**，水谷宇一郎） |
| 朝日 昇（北大工） | 超伝導 | 17p-ZQ-16 | 二分決定グラフ形の磁束転送論理回路（北大工：赤澤正道，雨宮好仁） |
| 小林 毅之（慶大理工・KAST） | 有機分子・バイオエレクトロニクス | 16a-ZP-10 | 屈折率分布型ポリマー光ファイバーアンプおよびレーザー（慶大理工・KAST：栗木 研，今井奈々，田村藤嗣彦，佐々木敬介，小池康博） |
| 遠藤 潤（山形大工） | 有機分子・バイオエレクトロニクス | 16a-YH-10 | 金属錯体を陰極界面層として用いた有機EL素子（山形大工，アイメス*：城戸淳二，松本敏男*） |
| 中尾 聡（東工大工） | 有機分子・バイオエレクトロニクス | 17p-P8-11 | ミスフィットの小さいアルカリハライド基板上でのバナジルフタロシアニンの2次元的成長（東工大工：星 肇，石川 謙，竹添秀男） |
| 武田 健一（日立中研） | 半導体A（シリコン） | 16p-ZL-4 | Cu電界ドリフトによる時間依存性絶縁破壊現象（日立中研，日立基礎研*，日立デバ開セ**：日野出憲治，大嶽一郎*，大橋直史**，山口日出**） |
| S. P. Lee（東工大） | 半導体A（シリコン） | 16a-P10-8 | Non-volatile Single Electron Memory Cell with Multiple Tunnel Junctions（東工大：A. Dutta，Y. Hayafune，K. Nishiguchi，K. Amano，S. Hatatani，S. Oda） |
| 遠藤 和彦（NECシリコンシステム研） | 半導体A（シリコン） | 17p-ZG-14 | フッ素化アモルファスカーボン膜の低誘電率化メカニズム（NECシリコンシステム研，NEC ULSIデバ開研*：篠田啓介，辰巳 徹，松原義久*，井口 学*） |
| 岡本 保（東工大量エレ研） | 半導体B（シリコン以外） | 15p-ZE-7 | 製膜初期過程の制御によるCdTe薄膜太陽電池の高効率化（東工大工：原田幸範，山田 明，小長井誠） |
| 伊藤 敏洋（NTTシステムエレ研） | 半導体B（シリコン以外） | 16p-ZK-5 | 共鳴トンネル素子を用いた多値量子化回路の超高速動作（NTTシステムエレ研，現名大工*：和保孝夫，前澤宏一*，山本眞史） |
| 林 稔晶（東大工） | 半導体B（シリコン以外） | 17p-ZN-12 | 磁性半導体三層構造GaMnAs/AlAs/GaMnAsにおける磁気的結合（東大工*，東大低温セ**，科技団さきがけ***：島田 宏**，清水大雅*，田中雅明*,***） |
| 田舎中 博士（ソニー中研） | 結晶工学 | 15a-YB-1 | 高温水素アニールによる多孔質Si層の再結晶化（ソニー中研：山内一志，松下孟史） |
| 竹内 哲也（名城大理工） | 結晶工学 | 16a-YC-9 | 歪制御したGaN/AlGaN量子井戸の成長および光学的特性（名城大理工：C. Wetzel，林 伸亮，岩谷素顕，山口栄雄，天野 浩，赤﨑 勇） |
| 久保 百司（東北大工） | 結晶工学 | 16p-YD-3 | 粗視化結晶成長分子動力学シミュレーションの理論構築とプログラム開発（東北大工*，東工大総理工**，東工大応セラ研***，科技団戦略研****：近江靖則*，三浦隆治*，寺石和夫*，S. Salai Cheettu Ammal*，宮本 明*，川崎雅司**，吉本 護***，鯉沼秀臣***,****） |
| 角谷 正友（静大工） | 結晶工学 | 17a-YA-8 | CAICISSによるサファイア基板上GaN薄膜の成長方位の観察（静大工，東工大応セラ研*，東工大総理工**，科技団戦略研***，サンケン電気****：大西 剛*，田中勝治，川崎雅司**，吉本 護*，鯉沼秀臣*，***，大塚康二****，福家俊郎） |
| 須田 淳（京大工） | 結晶工学 | 17p-YB-3 | サファイア(0001)基板上への立方晶GaNのMOMBE成長（京大工：黒部立郎，松波弘之） |
| 蟹江 智彦（住友電工） | 非晶質 | 16p-P13-5 | X線誘起屈折率変化を用いた石英系光導波路（住友電工：新里 剛，片山 誠） |
| 久保山 敬一（京大VBL） | 応用物理一般 | 17p-ZB-11 | 有機無機複合材料におけるフォトクロミック機能発現に関与する構造変化（京大工：松重和美） |
| 竹岡 慎治（神戸大自然科） | 合同セッションB「ナノ構造の作製・評価・物性」 | 15a-YG-1 | Geナノ結晶の近赤外発光：発光寿命測定（神戸大自然科*，神戸大工**：藤井 稔**，林 真至*,**，山本恵一*,**） |
