公益社団法人 応用物理学会

第23回(2001年度)応用物理学会論文賞 受賞者

JJAP論文賞

受賞者受賞対象論文
梁瀬 直子(東芝)
阿部 和秀(東芝)
福島 伸(東芝)
川久保 隆(東芝)
Thickness Dependence of Ferroelectricity in Heteroepitaxial BaTiO3Thin Film Capacitors Naoko Yanase, Kazuhide Abe, Noburu Fukushima, Takashi Kawakubo Jpn. J. Appl. Phys. Vol.38 (1999) Pt.1 No.9B pp.5305-5308

JJAP論文奨励賞

受賞者受賞対象論文
石井 雄三(NTT) Ink-Jet Fabrication of Polymer Microlens for Optical-I/O Chip Packaging Yuzo Ishii, Shinji Koike, Yoshimitsu Arai, Yasuhiro Ando Jpn. J. Appl. Phys. Vol.39 (2000) Pt.1 No.3B pp.1490-1493
河村 賢一(科学技術振興事業団) Holographic Encoding of Permanent Gratings Embedded in Diamond by Two Beam Interference of a Single Femtosecond Near-Infrared Laser Pulse Ken-ichi Kawamura, Nobuhiko Sarukura, Masahiro Hirano, Hideo Hosono Jpn. J. Appl. Phys. Vol.39 (2000) Pt.2 No.8A pp.L767-L769 EXP
渡邊 幸志(電総研) Nonlinear Effects Excitonic Emission from High Quality Homoepitaxial Diamond Films Hideyuki Watanabe, Hideyo Okushi Jpn. J. Appl. Phys. Vol.39 (2000) Pt.2 No.8B pp.L835-L837 EXP
末益 崇(筑波大) Room Temperature 1.6μm Electroluminescence from a Si-Based Light Emitting Diode with β-FeSi2 Active Region Takashi Suemasu, Yoichiro Negishi, Ken’ichiro Takakura, Fumio Hasegawa Jpn. J. Appl. Phys. Vol.39 (2000) Pt.2 No.10B pp.L1013-L1015 EXP
舟橋 良次(大阪工技研) An Oxide Single Crystal with High Thermoelectric Performance in Air Ryoji Funahashi, Ichiro Matsubara, Hiroshi Ikuta, Tsunehiro Takeuchi, Uichiro Mizutani, Satoshi Sodeoka Jpn. J. Appl. Phys. Vol.39 (2000) Pt.2 No.11B pp.L1127-L1129 EXP

解説論文賞

受賞者受賞対象論文
寒川 誠二(NEC)
Vincent M. Donnelly(Bell Laboratories)
Mikhail V. Malyshev(Bell Laboratories)
Effects of Discharge Frequency in Plasma Etching and Ultrahigh-Frequency Plasma Source for High-Performance Etching for Ultralarge-Scale Integrated Circuits Jpn. J. Appl. Phys. Vol.39 (2000) Pt.1 No.4A pp.1583-1596

御所属は受賞論文執筆当時のものです.