第7回（2013年度） 応用物理学会フェロー表彰者
第7回（2013年度）国際フェロー表彰者
| 受賞者 | 表彰タイトル |
|---|---|
| Umesh K. Mishra（カリフォルニア大学サンタバーバラ校 教授） | GaNパワーデバイスの先駆的研究と日本の応用物理学への貢献 |
| Klaus H. Ploog（ポール・ドルーデ研究所 元所長） | 分子線エピタキシャル成長法の開発と日欧学術交流促進への貢献 |
| Colin J. R. Sheppard（イタリア工科大学 上級研究員） | 共焦点レーザー顕微鏡の先駆的研究と日本の応用物理学への貢献 |
以上3名（アルファベット順）
第7回（2013年度）フェロー表彰者
| 受賞者 | 表彰タイトル |
|---|---|
| 恵下 隆（富士通セミコンダクター(株) プロセス技術統括部 専任部長） | 高集積強誘電体メモリの量産化技術の開発 |
| 大森 裕（大阪大学 大学院工学研究科 教授） | 有機エレクトロニクスの開拓と有機発光ダイオードの研究 |
| 尾崎 雅則（大阪大学 大学院工学研究科 教授） | 液晶の多方面への応用展開に向けた先導的研究 |
| 斧 高一（京都大学 大学院工学研究科 教授） | プラズマ微細加工におけるプラズマ・表面相互作用の先駆的研究 |
| 尾松 孝茂（千葉大学 大学院融合科学研究科 教授） | トポロジカル光科学と高性能固体レーザーに関する研究 |
| 葛原 正明（福井大学 大学院工学研究科 教授） | 化合物半導体高周波トランジスタの研究と実用化開発 |
| 纐纈 明伯（東京農工大学 工学研究院 理事，副学長） | 化合物半導体の気相エピタキシャル成長の研究 |
| 笹子 勝（パナソニック(株) セミコンダクター事業部 プロセス開発センター グループマネージャ） | エキシマレーザーリソグラフィ技術の先駆的研究と工業化推進 |
| 白谷 正治（九州大学 システム情報科学研究院 教授，プラズマナノ界面工学センター長） | プロセスプラズマの制御による新機能ナノ材料の合成に関する研究 |
| 鈴木 義茂（大阪大学 大学院基礎工学研究科 教授） | 金属スピントロニクス機能の機構解明とそのデバイス応用の研究 |
| 内藤 方夫（東京農工大学 工学部 教授） | 新規高温超伝導材料の分子線エピタキシャル成長の研究 |
| 冷水 佐壽（国立高等専門学校機構 参与） | 分子線エピタキシャル成長法による高電子移動度ヘテロ構造の実現 |
| 松村 英樹（北陸先端科学技術大学院大学 ナノマテリアルテクノロジーセンター 特任教授，特別学長補佐） | 触媒化学気相堆積（Cat-CVD）法の先駆的研究とその実用化 |
| 山口 浩司（日本電信電話(株) 物性科学基礎研究所 量子・ナノデバイス研究統括／上席特別研究員） | 化合物半導体ヘテロ構造のメカニカル素子応用に関する先駆的研究 |
| 吉田 博（大阪大学 大学院基礎工学研究科 教授） | 計算機ナノマテリアルデザインに関する研究 |
以上15名（五十音順）
※所属は表彰時のものを掲載
