第5回(2011年度) 応用物理学会フェロー表彰者

フェロー表彰受賞者

受賞者表彰タイトル
安達 正利(富山県立大学 名誉教授)高性能圧電体・強誘電体材料の研究開発と圧電デバイスへの応用
石川 浩((独)産業技術総合研究所 ネットワークフォトニクス研究センター 研究センター長)半導体レーザーの実用化と超高速光信号処理デバイスの研究開発
大森 達夫(三菱電機(株) パワーデバイス製作所 副所長)SiCパワーデバイスの研究開発とその実用化
小川 真人(神戸大学 大学院工学研究科 教授,工学研究科長・工学部長)原子論的ナノデバイスシミュレーターに関する先駆的研究
川上 養一(京都大学 大学院工学研究科 教授)ワイドバンドギャップ半導体の光物性解明と新光機能性探索
岸尾 光二(東京大学 大学院工学系研究科 教授)新しい高温超伝導体開発に関する先駆的研究と高性能化
酒井 忠司((株)東芝 研究開発センター 電子デバイスラボラトリー 研究主幹)カーボン系材料の電子源およびLSI配線応用技術の開発
澤邊 厚仁(青山学院大学 理工学部 教授)へテロエピタキシャル成長による大面積ダイヤモンドウェハー開発
瀬恒 謙太郎(大阪大学 大学院工学研究科 教授)機能性酸化物薄膜化技術およびデバイスの研究開発
高井 幹夫(大阪大学 極限量子科学研究センター 教授)ビームプロセス分析技術と真空ナノエレクトロニクス研究
髙井 吉明(豊田工業高等専門学校 校長)応用物理学部門における科学教育・啓発活動
藤井 俊夫((株)富士通研究所 基盤技術研究所 専任研究員)III-V族混晶の分子線結晶成長と光・電子素子応用に関する研究
三島 友義(日立電線(株) 技術研究所 先端電子材料研究部 部長)III-V族化合物半導体の結晶成長およびデバイス化に関する研究
持木 幸一(東京都市大学 工学部 教授)放射線イメージングシステムの開発と応用
望月 孝晏(兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 特任教授)レーザー生成プラズマX線源の物理とその実用化研究
望月 康則(日本電気(株) 情報・メディアプロセッシング研究所 所長)半導体中の点欠陥・界面の微視的物性解明とデバイス工学
八瀬 清志((独)産業技術総合研究所 ナノシステム研究部門 研究部門長)有機薄膜と有機分子・バイオエレクトロニクスにおける先駆的研究
山崎 聡((独)産業技術総合研究所 エネルギー技術研究部門 主幹研究員)IV族半導体薄膜の構造評価とデバイス応用

以上18名(五十音順)

※所属は表彰時のものを掲載