第5回(2011年度) 応用物理学会フェロー表彰者
フェロー表彰受賞者
受賞者 | 表彰タイトル |
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安達 正利(富山県立大学 名誉教授) | 高性能圧電体・強誘電体材料の研究開発と圧電デバイスへの応用 |
石川 浩((独)産業技術総合研究所 ネットワークフォトニクス研究センター 研究センター長) | 半導体レーザーの実用化と超高速光信号処理デバイスの研究開発 |
大森 達夫(三菱電機(株) パワーデバイス製作所 副所長) | SiCパワーデバイスの研究開発とその実用化 |
小川 真人(神戸大学 大学院工学研究科 教授,工学研究科長・工学部長) | 原子論的ナノデバイスシミュレーターに関する先駆的研究 |
川上 養一(京都大学 大学院工学研究科 教授) | ワイドバンドギャップ半導体の光物性解明と新光機能性探索 |
岸尾 光二(東京大学 大学院工学系研究科 教授) | 新しい高温超伝導体開発に関する先駆的研究と高性能化 |
酒井 忠司((株)東芝 研究開発センター 電子デバイスラボラトリー 研究主幹) | カーボン系材料の電子源およびLSI配線応用技術の開発 |
澤邊 厚仁(青山学院大学 理工学部 教授) | へテロエピタキシャル成長による大面積ダイヤモンドウェハー開発 |
瀬恒 謙太郎(大阪大学 大学院工学研究科 教授) | 機能性酸化物薄膜化技術およびデバイスの研究開発 |
高井 幹夫(大阪大学 極限量子科学研究センター 教授) | ビームプロセス分析技術と真空ナノエレクトロニクス研究 |
髙井 吉明(豊田工業高等専門学校 校長) | 応用物理学部門における科学教育・啓発活動 |
藤井 俊夫((株)富士通研究所 基盤技術研究所 専任研究員) | III-V族混晶の分子線結晶成長と光・電子素子応用に関する研究 |
三島 友義(日立電線(株) 技術研究所 先端電子材料研究部 部長) | III-V族化合物半導体の結晶成長およびデバイス化に関する研究 |
持木 幸一(東京都市大学 工学部 教授) | 放射線イメージングシステムの開発と応用 |
望月 孝晏(兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 特任教授) | レーザー生成プラズマX線源の物理とその実用化研究 |
望月 康則(日本電気(株) 情報・メディアプロセッシング研究所 所長) | 半導体中の点欠陥・界面の微視的物性解明とデバイス工学 |
八瀬 清志((独)産業技術総合研究所 ナノシステム研究部門 研究部門長) | 有機薄膜と有機分子・バイオエレクトロニクスにおける先駆的研究 |
山崎 聡((独)産業技術総合研究所 エネルギー技術研究部門 主幹研究員) | IV族半導体薄膜の構造評価とデバイス応用 |
以上18名(五十音順)
※所属は表彰時のものを掲載