第41回(2016年秋季)応用物理学会講演奨励賞 受賞者

所属の表記は予稿集掲載内容より引用

大分類分科ごとの講演発表日・講演番号のアルファベット順/敬称略

受賞者
(講演時の所属)
大分類分科名 講演番号 講演題目
(受賞者以外の共著者,所属)
天野 みなみ(産総研) 応用物理学一般 16a-C42-9 多種ガス用微量水分発生装置におけるガス流量制御の安定性向上に関する研究(阿部 恒 (産総研))
佐伯 啓一郎(東北大院工) 放射線 15a-A37-1 タリウム系塩化物結晶シンチレータの研究(藤本 裕1,越水 正典1,柳田 健之2,中内 大介2,浅井 圭介1 (1.東北大院工,2.奈良先端大))
生田 拓也(NTT物性研) 光・フォトニクス 13p-B2-9 高次元Time-bin量子もつれに対する量子状態トモグラフィの実装(武居 弘樹 (NTT物性研))
横山 喬大(物材機構/JST-CREST) 光・フォトニクス 13p-C302-3 高融点材料を用いたプラズモニック波長選択熱輻射体(Thang Duy Dao1,2,Kai Chen1,2,石井 智1,2,Ramu Pasupathi Sugavaneshwar1,2,長尾 忠昭1,2,3 (1.物材機構,2.JST-CREST,3.北大院理))
後藤 太一(豊橋技科大/JSTさきがけ) 光・フォトニクス 14a-B3-10 磁気ドメインを利用した薄膜Qスイッチレーザー(森本 凌平1,プリチャード ジョン2,高木 宏幸1,中村 雄一1,リム パンボイ1,内田 裕久1,ミナ マニ2,平等 拓範3,井上 光輝1 (1.豊橋技科大,2.アイオワ州立大,3.分子研))
韓 在勲(東大院工/JST-CREST/学振特別研究員) 光・フォトニクス 14p-B4-2 貼り合わせInGaAsP/Si ハイブリッド MOS型光変調器に関する検討(竹中 充1,2,高木 信一1,2 (1.東大院工,2.JST-CREST))
萩谷 将人(東京農工大) 光・フォトニクス 14p-C31-8 シリコン表面のフェムト秒レーザー励起プラズモンとアブレーション形状の変化の観測(宮地 悟代 (東京農工大))
信川 輝吉(和歌山大院システム工) 光・フォトニクス 15a-C42-4 ディジタルホログラム技術を導入したホログラフィックメモリによる位相多値情報の多層記録(野村 孝徳 (和歌山大院システム工))
Ryo Kato(Osaka Univ.) JSAP-OSA Joint Symposia 2016 14a-C302-7 Near-field absorption imaging by two color nano-light source(Yuika Saito1,2,Prabhat Verma1 (1.Osaka Univ.,2.Gakusyuin Univ.))
Yuko Nakatsuka(Kyoto Univ.) 薄膜・表面 13a-D62-6 Large Faraday effect of amorphous iron silicate thin films by metallic iron(Kilian Pollok2,Falko Langenhorst2,Lothar Wondraczek2,Shunsuke Murai1,Koji Fujita1,Katsuhisa Tanaka1 (1.Kyoto Univ.,2.Univ. of Jena))
苅谷 健人(阪府大工院) 薄膜・表面 13p-A23-2 BiFeO3薄膜の正圧電応答におけるドメイン壁の寄与(吉村 武,藤村 紀文 (阪府大工院))
露崎 活人(早大理工) 薄膜・表面 14p-A26-13 追成長を用いたステップエッジ構造ジョセフソン接合によるボロンドープダイヤモンド超伝導量子干渉計(蔭浦 泰資1,日出幸 昌邦1,笹間 陽介2,山口 尚秀2,高野 義彦2,川原田 洋1,3 (1.早大理工,2.物材機構,3.早大材研))
枝 真住(宇都宮大院工) ビーム応用 13p-P3-1 ミクロ相分離単分子膜を鋳型としたシリカ前駆体による垂直成長構造体のX線構造解析(奈須野 恵理,加藤 紀弘,飯村 兼一 (宇都宮大院工))
佐藤 祐太(九大総理工) プラズマエレクトロニクス 13a-B7-10 軟X線光源用レーザー生成多価電離プラズマの診断手法の開発(富田 健太郎,江口 寿明,築山 晶一,内野 喜一郎 (九大総理工))
鈴木 陽香(名大) プラズマエレクトロニクス 15a-B7-1 改良型導波管構造によるマイクロ波励起純窒素大気圧ラインプラズマの生成(田村 宥人1,伊藤 仁1,2,関根 誠1,堀 勝1,豊田 浩孝1 (1.名大,2.東京エレクトロン))
上野 慎太郎(山梨大院) 応用物性 15a-D62-8 低温プロセスによる導電体/絶縁体ファインコンポジットの開発(服部 優哉1,垣内 博行1,中島 光一2,和田 智志1 (1.山梨大院,2.茨城大院))
玉置 洋正(パナソニック) 応用物性 15p-A35-10 データ駆動スクリーニングによる高性能熱電変換材料n型Mg3(Sb,Bi)2の発見(佐藤 弘樹,菅野 勉 (パナソニック))
金澤 直輝(豊橋技科大) スピントロニクス・マグネティクス 15a-C41-8 イットリウム鉄ガーネットを用いたΨ型スピン波位相干渉器の作製(後藤 太一1,2,高木 宏幸1,中村 雄一1,ロス キャロライン3,グラノフスキー アレクサンダー4,関口 康爾5,2,内田 裕久1,井上 光輝1 (1.豊橋技科大,2.JSTさきがけ,3.マサチューセッツ工科大,4.モスクワ大,5.慶応大))
谷口 壮耶(名大院工/学振特別研究員) 超伝導 15p-D61-11 磁性体を用いた二線式SFQ回路に基づくルックアップテーブルの評価(伊藤 大,田中 雅光,赤池 宏之,藤巻 朗 (名大院工))
丹生 隆(東工大物質理工) 有機分子・バイオエレクトロニクス 13a-B10-4 振幅変調型原子間力顕微鏡を用いた分子認識イベントの高速ナノスケールマッピング(大橋 りな1,林 智広1,2 (1.東工大物質理工,2.理研))
宮澤 佳甫(金大院) 有機分子・バイオエレクトロニクス 14a-B5-4 3D-SFMを用いたハードディスク用潤滑剤の3次元分子吸着構造解析(中嶋 脩貴1,豊田 真理子1,相方 良介2,清水 豪2,福間 剛士1,3 (1.金大院,2.(株)MORESCO,3.ACT-C))
松井 一真(日立研開) 有機分子・バイオエレクトロニクス 14a-B10-2 液槽外の静電気によるソリッドナノポアメンブレンの絶縁破壊(後藤 佑介,柳 至,柳川 善光,石毛 悠,武田 健一 (日立研開))
荒井 俊人(東大院工) 有機分子・バイオエレクトロニクス 14p-B11-3 層間フラストレーションを用いた大面積単一分子層有機半導体超薄膜の作製とTFT動作(井上 悟2,3,浜井 貴将1,峯廻 洋美2,熊井 玲児4,長谷川 達生1,2 (1.東大院工,2.産総研,3.日本化薬,4.高エネ研))
横田 知之(東大工) 有機分子・バイオエレクトロニクス 15a-B13-6 有機光デバイスを用いたフレキシブル血中酸素濃度計(ザーラー ピーター,カルテンブルーナー マーティン,甚野 裕明,松久 直司,北之迫 浩輝,立花 勇太郎,雪田 和歌子,小泉 真里,染谷 隆夫 (東大工))
高部 涼太(筑波大学) 半導体 15p-B3-10 大気暴露時間およびa-Siキャップ層の膜厚がp-BaSi2/n-Siヘテロ太陽電池性能に与える効果(谷内 卓,都甲 薫,末益 崇 (筑波大学))
永冨 雄太(九大) 半導体 15p-B9-15 Al/SiO2/GeO2/Geゲートスタックに於ける界面ダイポールの生成と消失(建山 知輝,坂口 大成,山本 圭介,王 冬,中島 寛 (九大))
當間 拓矢(九州大工) 半導体 15p-B10-14 F2レーザー堆積法によるナノポーラスSiO2膜の形成(諏訪 輝,中村 大輔,池上 浩 (九州大工))
岡本 隼人(九大・大学院総合理工学府/研究院) 半導体 16a-B10-4 非晶質Zr-Ge-N層上への金属堆積による低抵抗Geコンタクトの形成(山本 圭介2,王 冬1,中島 寛2 (1.九大・大学院総合理工学府/研究院,2.九大・産学連携センター))
藤本 吏輝(阪大院工) 結晶工学 14p-A25-18 溶媒媒介相転移による医薬化合物アセトアミノフェンの準安定形成長(森 陽一朗1,高橋 義典1,2,丸山 美帆子1,吉川 洋史1,3,岡田 詩乃2,安達 宏昭1,2,杉山 成4,高野 和文2,5,村上 聡2,6,松村 浩由2,7,井上 豪1,2,吉村 政志1,森 勇介1,2 (1.阪大院工,2.創晶,3.埼玉大院理工,4.阪大院理,5.京府大院生命環境,6.東工大院生命理工,7.立命館大生命科学))
飯島 彬文(京大院工) 結晶工学 15p-C302-9 4H-SiCエピタキシャル層中におけるショックレー型積層欠陥と基底面転位構造の関係(須田 淳,木本 恒暢 (京大院工))
高橋 恒太(名大院工/学振特別研究員(DC)) 結晶工学 16p-D61-7 水中パルスレーザアニールを用いた多結晶GeSnへの高濃度n型ドーピング(黒澤 昌志1,2,3,池上 浩4,坂下 満男1,中塚 理1,財満 鎭明1,2 (1.名大院工,2.名大未来研,3.JSTさきがけ,4.九大院シス情))
加藤 高士(東理大理) ナノカーボン 15p-A25-4 蛍光分光法により観察した単層カーボンナノチューブ内包水の相(吉野 数基1,齋藤 裕太1,千足 昇平2,本間 芳和1 (1.東理大理,2.東大工))
鈴木 弘朗(東北大院工) ナノカーボン 16a-A33-5 架橋グラフェンナノリボンアレイのウェハースケール高集積化合成(子 俊郎1,澁田 靖2,大野 宗一3,前川 侑毅2,加藤 俊顕1 (1.東北大院工,2.東大院工,3.北大院工))
内田 貴之(京大院工) 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 16a-A22-8 Siドープα-Ga2O3薄膜の作製とその電気特性解析(神野 莉衣奈,竹本 柊,金子 健太郎,藤田 静雄(京大院工))
黒子 めぐみ(NTT物性研/東北大理) 合同セッションM「フォノンエンジニアリング」 15a-B12-9 フォノニック結晶導波路におけるフォノン伝搬波の非線形分散効果(畑中 大樹1,小野光 恒二1,山口 浩司1,2 (1.NTT物性研,2.東北大理))