シンポジウム

29p-ZC - 1〜10


• 1開会の辞（5分）ソニー ^○岩元勇人
• 2はじめに（10分）東芝研開セ ^○冨田　寛
• 3電解水から機能水へ--青木先生と探ったエコ洗浄（20分）オルガノ ^○山中弘次
• 4青木先生と研究開発した洗浄プロセス（20分）ルネサスエレ　プロ技括 ^○富盛浩昭，笠間佳子，田中盛光
• 5まとめ（10分）東芝研開セ ^○冨田　寛
•  休憩　14:35〜14:45
• 6電解硫酸によるレジスト剥離（Part2）（20分）栗田工業 ^○永井達夫，山川晴義，大津　徹，内田　稔，塚本和巳
• 7枚葉洗浄プロセスにおける基板表面の液挙動解析（その2）（20分）東芝研開セ¹，芝メカ^{2 ○}冨田　寛¹，菊池　勉²
• 8レジスト膜の機械的強度測定と蒸気二流体による剥離（20分）静大工¹，金沢工大^{2 ○}真田俊之¹，益子岳史¹，橋本健太郎¹，堀邊英夫²
• 9水のチャージアップWGの総括2（20分）大日本スクリーン製造¹，ルネサスエレクトロニクス²，オルガノ³，阪大^{4 ○}宮城雅宏¹，田中盛光²，齋藤俊介²，山中弘次³，佐藤雅伸¹，荒木浩之¹，青木秀充⁴
• 10閉会の辞（10分）ソニー ^○岩元勇人