シンポジウム

Extended CMOSのためのDeterministicドーピングと単一ドーパントデバイス

8月29日 13:30〜16:30  会場:基盤3-ZM

29p-ZM - 1〜8

  • 1イントロダクトリートーク:Extended CMOSのためのDeterministicドーピングと単一ドーパントデバイス(10分)早大高等研 品田賢宏
  • 2STRJ ERD Extended CMOSコンセプト(25分)東工大院理工 内田 建
  • 3ITRS Emerging Research Materials [ERM] 概要と確定的ドーピング(35分)SRC ダニエル ハー
  • 4単一ドーパントデバイス:多様性と高温動作に向けて(25分)静大電子研 田部道晴,ダニエル モラル,水野武志
  • 5単一イオン注入プロセス:1nm精度への挑戦(25分)早大高等研1,早大理工2,NTT物性基礎研3,静大電子研4 品田賢宏1,堀 匡寛2,小野行徳3,田部道晴4
  • 6単一ドーパントキャラクタリゼーション -電界効果による荷電状態制御とその物理-(25分)NTT 小野行徳,登坂仁一郎,ガブリエル ランスバーゲン,藤原 聡
  • 7単一ドーパントシミュレーション - ナノ構造内ドーパント原子の状態と電子輸送 -(25分)静大電研1,サザンプトン大2,北陸先端大3 ダニエル モラル1,葛屋陽平1,水野武志1,田部道晴1,水田 博2,3
  • 8クロージングトーク(10分)UJTラボ 水野文二