16. 非晶質・微結晶

16.1 基礎物性・評価

8月31日 10:00〜19:00  会場:基盤3-ZH

31a-ZH - 1〜11

  • 1光熱偏向分光法によるGe2Sb2Te5薄膜のギャップ内準位の評価群馬大工 後藤民浩
  • 2カルコゲナイド系アモルファス蒸着未処理膜における光電流変化岐阜大工 林 浩司
  • 3アモルファスAgAsS2薄膜光蓄電池:諸特性とメカニズム北大 工研 寺門信明,田中啓司
  • 4アモルファスシリコン固相結晶化の成膜条件依存性神戸大工1,パナソニック2 西野 諭1,川島孝啓2,西谷 輝2,小森一徳2,齊藤 徹2,藤井 稔1,林 真至1
  • 5CaF2/Si 量子ドット超格子を用いたp-i-n セル構造の作製東工大総理工 古関千寛,大木 洋,渡辺正裕
  • 6W内包Siクラスタ薄膜のSi(100)表面上での界面形成産総研ナノエレ部門1,産総研2 Sungjin Park1,内田紀行1,多田哲也1,金山敏彦2
  •  休憩 11:30〜11:45
  • 7BoronドーピングによるSiliconナノ結晶の非線形光学特性の向上神戸大院工 今北健二,伊藤雅彦,藤井 稔,林 真至
  • 8STEM-EELSを用いた非晶質薄膜のバンドギャップ測定三菱電機1,京大化研2 本谷 宗1,古畑武夫1,治田充貴2,倉田博基2
  • 9真空蒸着法で作成した一酸化シリコンの構造特性石巻専修大理工 佐々木美穂,平山誉典,伊藤正浩,恵原貴志
  • 1060Co γ線照射による高純度α-石英における真性欠陥形成首都大1,ラトビア大2,東工大3 梶原浩一1,Linards Skuja2,細野秀雄3
  • 11超音波マイクロスペクトロスコピー技術による合成石英ガラスインゴットの仮想温度分布評価東北大院工1,東ソー・エスジーエム2 櫛引淳一1荒川元孝1,大橋雄二1,丸山由子1,貝賀俊介1,堀越秀春2,森山賢二2
  •  昼食 13:00〜15:00

31p-ZH - 1〜15

  • 1「論文奨励賞受賞記念講演」(20分)
    Snドープリン酸塩低融点ガラスからの高効率な発光特性
    東北大 正井博和
  • 2変調アドミタンス法を用いた酸化物半導体InGaZnO4の欠陥評価(III)日本大生産工 刀根 仁,清水耕作
  • 3変調アドミッタンス法を用いたMIS界面の欠陥密度評価日大 小林浩二,清水耕作
  • 4MgO微結晶の加熱処理による発光挙動変化神戸大理 上中友希,内野隆司
  • 5水酸基B2O3ガラスの可視発光特性神戸大理 安食麻子,内野隆司
  • 6Li2O-GeO2系ガラスの結晶化挙動と発光特性東北大院工 国友 潤,井原梨恵,高橋儀宏,藤原 巧
  • 7Sb3+発光中心を有する酸化物ガラス蛍光体の作製京大化研1,東北大院工2,旭硝子中研3 正井博和1,藤原 巧2,松本修治3,徳田陽明1,横尾俊信1
  • 8Sn2+含有酸化物ガラス蛍光体における発光特性京大化研1,東北大院工2 正井博和1,藤原 巧2,山田泰裕1,高橋儀宏2,徳田陽明1,横尾俊信1
  •  休憩 17:05〜17:15
  • 9SrO-TiO2-SiO2系透明結晶化ガラスの電気光学係数 r13, r33の測定東北大院工 山岡一樹,山崎芳樹,岩渕直樹,井原梨恵,高橋儀宏,藤原 巧
  • 10Nb2O5高含有強誘電体ナノ結晶化ガラスの作製東北大院工 藤江将啓,高橋儀宏,井原梨恵,藤原 巧
  • 11LiMnxFe1-xPO4ガラスの構造解析と電気伝導性長岡技科大 本間 剛,小松高行
  • 12ビスマスリン酸塩ガラスにおける光学特性への第三成分の影響産総研1,北大電子研2 北村直之1,福味幸平1,西井準治2
  • 13Eu3+添加TeO2-TiO2系ゾル-ゲル薄膜の光学特性名古屋工大1,リモージュ大2 早川知克1,児山英樹1,野上正行1,トーマス フィリップ2
  • 14ゾル-ゲル法によるBaO-TiO2-SiO2ガラス薄膜の作製とその結晶化東北大院工1,京大化研2 佐藤恵斗1,井原梨恵1,高橋儀宏1,正井博和2,藤原 巧1
  • 15高エネルギーX線回折を用いたPDF解析によるITOゲルの微細構造解析北陸先端大1,JST下田液体P2,高輝度光科学研3 ○(D)廣瀬大亮1,小原真司3,藤原明比古3,尾原幸治3,塚田博一2,下田達也1,2