11. 超伝導

31a-ZT - 1〜12

• 1電着法による超伝導FeSe膜の作製と物性評価中部大 ^○尾身竜乃介，高橋　誠，大木戸貞夫，田橋正浩，脇田紘一
• 2スコッチテープ法によるFeTe系単結晶薄膜の作成と物性評価首都大学東京¹，物質・材料研究機構^{2 ○}水口佳一¹，濱田健太朗¹，三浦大介¹，岡崎宏之²，山口尚秀²，高野義彦²
• 3構造相変態によるFeSe超伝導線材の新しい作製プロセス首都大学東京¹，物質・材料研究機構^{2 ○}井澤宏輝¹，水口佳一¹，尾崎壽紀²，高野義彦²，三浦大介¹
• 4Fe-Te-S系超伝導体のエピタキシャル薄膜の最適化九工大院¹，名大²，九大³，電中研⁴，JST-TRIP^{5 ○}永芳宏昭¹，藤田康平¹，山根　祥¹，パオロ メレ¹，松本　要^1,5，吉田　隆^2,5，一野祐亮²，木須隆暢^3,5，向田昌志^3,5，一瀬　中^4,5
• 5Fe-Te-Seエピタキシャル超伝導薄膜の作製と特性評価九工大院¹，名大²，九大³，電中研⁴，JST-TRIP^{5 ○}藤田康平¹，永芳宏昭¹，山根　祥¹，パオロ メレ¹，松本　要^1,5，吉田　隆^2,5，一野祐亮²，木須隆暢^3,5，向田昌志^3,5，一瀬　中^4,5
• 6フッ化物基板上に成長したFe(Se_1-xTe_x)薄膜の超伝導電中研¹，東大総合文化²，名大工³，JST TRIP^{4 ○}塚田一郎^1,4，花輪雅史^1,4，小宮世紀^1,4，一瀬　中^1,4，秋池孝則^2,4，鍋島冬樹^2,4，今井良宗^2,4，日影達夫³，川口昂彦^3,4，生田博志^3,4，前田京剛^2,4
•  休憩　11:15〜11:25
• 7酸化物およびフッ化物基板上のFe11系薄膜の微細構造電中研¹，JST-TRIP²，東大総合文化³，名大工⁴，九工大工⁵，九大工^{6 ○}一瀬　中^1,2，塚田一郎^1,2，花輪雅史^1,2，小宮世紀^1,2，秋池孝則^3,2，鍋島冬樹^3,2，今井良宗^3,2，前田京剛^3,2，吉田　隆^4,2，松本　要^5,2，木須隆暢^2,6，向田昌志^2,6
• 8MBE法によるBaFe₂(As,P)₂超伝導薄膜の成長名大工¹，名大VBL²，JST-TRIP^{3 ○}坂上彰啓^1,3，川口昂彦^1,3，田渕雅夫^2,3，宇治原徹^1,3，竹田美和^1,3，生田博志^1,3
• 9NdFeAs(O,F)薄膜の超伝導特性の基板依存性名大院工¹，名大VBL²，JST-TRIP^{3 ○}上村彦樹^1,3，川口昂彦^1,3，大野俊也^1,3，田渕雅夫^2,3，宇治原徹^1,3，竹田美和^1,3，生田博志^1,3
• 10MBE成長したNdFeAsO薄膜へのフッ素ドーピング名大工¹，名大VBL²，JST-TRIP^{3 ○}川口昂彦^1,3，上村彦樹^1,3，大野俊也^1,3，田渕雅夫^2,3，宇治原徹^1,3，竹田美和^1,3，生田博志^1,3
• 11金属テープ基板上への高臨界電流密度Co添加BaFe₂As₂薄膜の作製東工大応セラ研¹，ロスアラモス国立研²，超電導工研³，東工大フロンティア研^{4 ○}平松秀典¹，片瀬貴義¹，ヴラディミル マティアス²，クリス シーハン²，石丸喜康³，神谷利夫¹，田辺圭一³，細野秀雄^3,4
• 12「論文奨励賞受賞記念講演」（20分）
  High Critical Current Density 4MA/cm² in Co-Doped BaFe₂As₂ Epitaxial Films Grown on (La,Sr)(Al,Ta)O₃ Substrates without Buffer Layers東工大応セラ研 ^○片瀬貴義
•  昼食　13:00〜15:00

分科内シンポジウム：超伝導デバイスを支える高品質薄膜作製技術

31p-ZT - 1〜14

• 1「超伝導分科内招待講演」（30分）
  超伝導薄膜・接合技術の半世紀の歴史と今後の展望超電導工研 ^○田辺圭一
• 2SIS接合用Nb/NbN/MgOヘテロエピタキシャル成長薄膜の作製と評価山形大工¹，情報通信研究機構^{2 ○（M2）}紺野槙子¹，澤田俊宏¹，村田光茂¹，川上　彰²，齊藤　敦¹，大嶋重利¹
• 3アモルファス焼成法によるデバイス用高品質YBCO薄膜の作製と評価山大工 ^○六鎗　潤，小林巨卓，高橋峻平，林　賢人，齊藤　敦，大嶋重利
• 4積層YBCO/CeO2薄膜の作製と評価山形大工 ^○高橋峻平，遠藤之正，武田和幸，六鎗　潤，齊藤　敦，大嶋重利
• 5デカボラン（B₁₀H₁₄）の熱分解を用いた超高品質MgB₂薄膜の成長（２）農工大院工¹，東大院工² 西雪和樹¹，山本明保²，上田真也¹，山崎圭介¹，^○内藤方夫¹
•  休憩　16:30〜16:45
• 6F 拡散による SmFeAsO エピタキシャル薄膜の超伝導化 (2)農工大工¹，JST-TRIP^{2 ○}武田宗一郎^1,2，上田真也^1,2，高野志郎¹，内藤方夫^1,2
• 7Sm-1111 薄膜のエピタキシャル歪みによる効果東京農工大¹，JST-TRIP^{2 ○}高野志郎¹，上田真也^1,2，武田宗一郎^1,2，内藤方夫^1,2
• 8As-grown SmFeAs(O,F)超伝導薄膜のMBE成長（２）東京農工大工¹，JST-TRIP^{2 ○}上田真也^1,2，武田宗一郎^1,2，高野志郎¹，内藤方夫^1,2
• 9イオン溶液を用いた塗布法によるBi-2201薄膜の作製宮教大物理 ^○（M2）大友博世，内山哲治
• 10MOD法によるサファイア基板上へのBi-2212薄膜の作製茨城大¹，情報通信研究機構²，山形大³，静岡大^{4 ○（M1）}鈴木渉太¹，島影　尚¹，川上　彰²，齊藤　敦³，武田正典⁴
• 11塗布溶融法によるBi-2212厚膜の作製宮教大教育 ^○内山哲治，大竹佑樹
• 12PDDA/Bi2212多層膜作製における分散媒の効果阪電通大 ^○（M2）出口達樹，岩崎雅司，榎本博行
• 13RF スパッタ法により作製したBi,Pb2223 薄膜の組織と超伝導特性物質・材料研究機構¹，京大²，九大^{3 ○}松本明善¹，北口　仁¹，土井俊哉²，波多　聰³
• 14衝撃圧縮法による種結晶を含むBi系超伝導体微粒子への固化と評価東京工科大¹，防衛大²，物質・材料研究機構^{3 ○（M2）}木岡正利¹，毛塚博史¹，松本　仁²，岸村弘明²，有沢俊一³

1a-ZT - 1〜13

• 1Ba_xSr_1-xTiO₃格子整合バッファ層を用いた無限層Sr_1-xLa_xCuO₂薄膜の作製とその特性名大院工 ^○作間啓太，赤塚寛之，植田研二，浅野秀文
• 2ハイブリット人工欠陥導入(Y,Gd)BCO線材の高温領域における超伝導特性成蹊大¹，ロスアラモス国立研究所²，超工研^{3 ○}三浦正志^1,2，Civale Leonardo²，Willis Jeffrey²，和泉輝郎³，塩原　融³
• 3Nd:YAG-PLD法を用いたナノロッド導入YBa₂Cu₃O_y薄膜における磁束ピンニング特性の成膜温度依存性高知工大環境理工 ^○春田正和，藤田夏斗，前田敏彦，堀井　滋
• 4BaZrO₃ナノロッドよるSmBa₂Cu₃O_y薄膜の磁束ピンニング特性の制御物材機構¹，名大工²，電中研^{3 ○}尾崎壽紀¹，吉田　隆²，一野祐亮²，一瀬　中³，高野義彦¹
• 5ナノロッド長を制御したPLD-YBCO超伝導薄膜の超伝導特性九工大¹，電中研²，名大^{3 ○}田中　敢¹，本田泰崇¹，パオロ メレ¹，松本　要¹，一瀬　中²，吉田　隆³
• 6IBAD基板上に作製した人工ピン導入YBa₂Cu₃O_7-x薄膜の超伝導特性九工大院¹，超工研^{2 ○}中川陽介¹，永野賢成¹，松本　要¹，吉積正晃²，和泉輝郎²，塩原　融²
• 7{100}<001>圧延再結晶集合組織Cuテープを基材としたY系超電導線材京大エネ科 ^○土井俊哉，三宅正男，平藤哲司
•  休憩　11:15〜11:30
• 8フッ素フリーMOD法によるバッファ層の形成静大工¹，田中貴金属工業²，中部電力³，JFCC^{4 ○}伊藤基治¹，喜多隆介¹，窪田秀一²，嶋　邦弘²，中安昭夫²，鹿嶋直二³，渡辺智則³，長屋重夫³，加藤丈晴⁴
• 9装飾基板上へのMOD-GdBCO膜形成の検討静大工¹，首都大工²，九大工^{3 ○}竹内稔晃¹，喜多隆介¹，三浦大介²，山田和広³，金子賢治³
• 10MOD法によりBaZrO₃を添加したYBCO膜の結晶成長過程九大¹，超電導工研^{2 ○}寺西　亮¹，紺屋和樹¹，木須隆暢¹，山田和広¹，宗藤伸治¹，吉積正晃²，和泉輝郎²
• 11溶融水酸化物法により作製したRE124膜におけるCaドープ効果島大総理工 ^○舩木修平，中山文也，山田容士
• 12分子動力学法によるナノ粒子/YBa2Cu3O7-x界面の解析九工大 ^○松本　要，山口圭介，山根正博
• 13Y系高温超電導線材の細線加工の高速化と品質向上超電導工研 ^○町　敬人，中尾公一，田辺圭一