8. プラズマエレクトロニクス

8.3 プラズマ成膜・表面処理

9月1日 会場:基盤2-ZC
ショートプレゼンテーション(2分)10:30〜11:16
ポスター掲示時間13:00〜15:00 (会場:第1)

1a-ZC - 1〜23

  • 1高圧力SiH4/H2マイクロ波プラズマによるシリコン製膜名大工1,名大プラズマナノ2 伊藤裕紀1,近藤将吾1,石島達夫2,豊田浩孝1,2
  • 2マルチホロー放電プラズマCVDを用いて作製したクラスターフリーa-Si:Hの膜質の基板温度依存性九大 中原賢太,波戸崎浩介,松永剛明,佐藤宗治,内田儀一郎,山下大輔,松崎秀文,板垣奈穂,古閑一憲,白谷正治
  • 3窒化Siナノ粒子含有薄膜の光導電率の波長依存性九大 佐藤宗治,王 玉亭,中原賢太,松永剛明,山下大輔,松崎秀文,内田儀一郎,鎌滝晋礼,古閑一憲,白谷正治
  • 4TEOSを用いて作製した膜のPL発光特性の酸化温度依存性早大院先進理工 長谷川裕也,東山晃平,加藤 勇
  • 5大気圧VHFプラズマにより常温・高速形成したシリコン酸化膜の構造評価阪大院工 横山京司,岡村康平,山田高寛,大参宏昌,垣内弘章,安武 潔
  • 6プラズマジェットにより常温・大気開放下で形成したシリコン酸化膜の特性阪大院工1,パナソニック電工2 東田皓介1,中村 慶1,柴田哲司2,山田高寛1,大参宏昌1,垣内弘章1,安武 潔1
  • 7SiH4/H2を用いたPE-CVDにおける超音速噴流内の化学反応解析岐阜大院工 野村祐希,田中直也,西田 哲,牟田浩司,栗林志頭眞
  • 8非平衡プラズマCVDに於けるガス流速がSi製膜に及ぼす影響岐阜大院工 岡本直樹,安藤大輔,田中 翔,中村次郎,西田 哲,牟田浩司,栗林志頭眞
  • 9衝突噴流列を用いた均一薄膜の研究岐阜大院工 Carlos Llerena,加藤大典,西田 哲,牟田浩司,栗林志頭眞
  • 10プラズマCVD中の化学反応を組み込んだCFD解析岐阜大院工 田中直也,野村祐希,西田 哲,牟田浩司,栗林志頭眞
  • 11パルスアーク型大気圧プラズマジェットによる鉄鋼表面の硬化大分大工 市來龍大,永松寛和,安松勇太,岩男忠典,赤峰修一,金澤誠司
  • 12タングステン表面に注入された不純物窒素の化学状態と深さ分布計測阪府大院理1,日本原子力機構2 上浦良友1,梅澤憲司1,寺岡有殿2,吉越章隆2
  • 13反応性プラズマ支援蒸着法を用いたニッケル薄膜のイオン窒化東京高専 一戸隆久,島 龍洋,田中悠浩,新田武父
  • 14大気圧プラズマによるアルミニウム膜の窒化処理に対するガス圧依存性阪大工 西窪明彦,大塚裕介,上田良夫
  • 15アトム窒化処理における試料バイアス電位の影響豊田工大 ○(PC)大嶋伸明,原 民夫
  • 16SiO2膜上Hfナノ粒子への窒素プラズマ照射によるHfSiON膜作製〜 N原子表面反応へのHfのサイズ効果防衛大 北嶋 武,中野俊樹
  • 17シード層による自己組織化Agナノドット薄膜の微細構造制御芝浦工大1,東大生研2,韓国光云大3 ○(M2)末永 亮1,神子公男2,野瀬健二2,具 正祐3,弓野健太郎1,光田好孝2,河 在根3
  • 18粉体をターゲットに用いたスパッタ法によるTiO2薄膜の作製佐世保高専 川崎仁晴,大島多美子,荒舩健人,柳生義人,須田義昭
  • 19イオン照射を用いたTiNi合金薄膜の低温合成におけるプラズマパラメータの影響金工大 高材研 宮山太郎,倉地祐也,池永訓昭,岸 陽一,矢島善次郎,作道訓之
  • 20磁場分布可変型対向スパッタによるニオブ薄膜の作製II山口大院1,神港精機2 諸橋信一1,升元佑一1,田中浩三1,碓井圭太1,葛尾寛之1,小松永治2
  • 21大気圧プラズマCVD法を用いたZnO薄膜の形成と真空アニール処理効果の検討阪大院工1,シャープ2 峰 執大1,山田高寛1,大参宏昌1,垣内弘章1,安武 潔1,岡崎真也2
  • 22非中性プラズマトラップを用いたZnOクラスター生成方法の検討III京都工繊大 比村治彦,西岡祐司,岡本 崇,廣田聖典
  • 23酢酸亜鉛を含むミストを用いたプラズマ支援による酸化亜鉛薄膜形成阪大接合研 竹中弘祐,奥村祐介,節原裕一

8.3 プラズマ成膜・表面処理

9月1日 会場:基盤2-ZC
ショートプレゼンテーション(2分)11:16〜11:54
ポスター掲示時間15:30〜17:30(会場:第1)

1a-ZC - 24〜42

  • 24ULSI低誘電率層間絶縁膜に対する真空紫外光誘起ダメージの評価北大工1,名大工2,東芝3 菊地瞬也1,財満和典2,栗原一彰3,佐々木浩一1
  • 25ガス流を用いた誘電体窓への膜堆積抑制の検討名大工1,名大プラズマナノ2 ○(M2)毛家村一樹1,石島達夫2,豊田浩孝1,2
  • 26PETフィルムの高密度プラズマ処理によるITO層の密着性向上IV中部大工1,東洋紡2 小川恭史1,加藤公孝1,中村圭二1,伊関清司2,菅井秀郎1
  • 27マイクロ波酸素プラズマ下流域におけるシリコントレンチ酸化のアスペクト比依存性東海大工 谷内康行,山田利宣,内海倫明,磯村雅夫,進藤春雄
  • 28プラズマ励起化学気相堆積法で成長したアモルファスカーボン膜の欠陥密度に対するRFバイアス印加の効果名大院工 九鬼 淳,于 楽泳,近藤博基,石川健治,関根 誠,堀  勝
  • 29微細溝への炭素薄膜の製膜形状制御における水素フラックスの効果九大1,阪大2,名大3,JST,CREST4 浦川達也1,鳥越隆平1,松崎秀文1,山下大輔1,内田儀一郎1,古閑一憲1,4,白谷正治1,4,節原裕一2,4,関根 誠3,4,堀  勝3,4
  • 30フルオロカーボン凝縮層の低速電子線照射によるa-C:Fの極低温合成山梨大クリーンエネルギー研1,アスカインデックス2 胡 雪冰1,鍋田貴大1,土屋新平1,石川政彦1,2,川上浩一2佐藤哲也1
  • 31大気圧プラズマによるポリカーボネート上へのDLC膜の形成名工大1,中部大2 ○(M1)浜田浩史1,中田鉄兵1,安井晋示1,野田三喜男2
  • 32タングステン合金めっきを中間層に利用した超硬合金工具へのDLC成膜三重大工 ○(M1)西川直輝,鈴木裕人,河村貴宏,小竹茂夫,鈴木泰之
  • 33ホウ酸の水素還元とスパッタ蒸着によるBN薄膜の摩擦特性三重大工 ○(M1)松本佑太,河村貴宏,小竹茂夫,鈴木泰之
  • 34水素還元プラズマによるTiN/TiB2薄膜の生成三重大院 ○(M1)小屋大輔,河村貴宏,小竹茂夫,鈴木泰之
  • 35CVDダイヤモンドの水素プラズマ処理による表面形状神奈川工科大 ○(M2)比嘉 司,三栖貴行,後藤みき,荒井俊彦
  • 36大気圧プラズマ表面処理によるカーボンナノウォール表面の超親水性・超撥水性発現機構名大院1,名城大2 ○(D)渡邊 均1,近藤博基1,平松美根男2,関根 誠1,堀  勝1
  • 37カーボンナノツイスト膜のフィラメント放電起毛に及ぼすPtオーバーコートの影響豊橋技術科学大1,東海カーボン2,湘南合成樹脂製作所3,東邦ガス4 杉岡由基1,須田善行1,田上英人1,滝川浩史1,植 仁志2,清水一樹3,梅田良人4
  • 38L-システイン固定化のためのPEG重合ポリマー表面へのヒドロキシル基添加の最適化とエイジング効果静岡大 Zhenyi Shao,荻野明久,永津雅章
  • 39プラスチック製マイクロ流路チップ内壁の放電プラズマ処理[2]鶴岡高専 吉木宏之
  • 40リモート大気圧プラズマによる還元反応場の生成京都大工 秋山知英,酒井 道
  • 41大気圧誘電体バリア放電による窒素化合物生成京都大工 平岡 悠,占部継一郎,酒井 道
  • 42大気圧マイクロ波プラズマによる懸濁液溶射豊橋技科大 安井利明,近藤俊樹,福本昌宏