8. プラズマエレクトロニクス

8.2 プラズマ診断・計測

8月31日 9:00〜13:00  会場:基盤3-ZJ

31a-ZJ - 1〜15

  • 1新しい再構成法を用いた時間依存プラズマ熱流束の解析大府大地域連携1,核科研2 松浦寛人1,永岡賢一2
  • 2窒素混合プラズマにおけるFe発光のガス組成依存性産総研1,島根産技センター2 鈴木 淳1,朝比奈秀一2
  • 3マイクロ波共振器プローブを用いた密度計測における精度向上中部大工 熊崎恵未,中村圭二,菅井秀郎
  • 4カーリングプローブによる電子密度測定中部大工 梁 以資,加藤公孝,中村圭二,菅井秀郎
  • 5容量結合型プラズマにおける負の直流カソードバイアス印加の効果東海大工 山田利宜,谷内康行,磯村雅夫,進藤春雄
  • 6加熱プローブを用いた狭ギャップVHF SiH4/H2プラズマパラメータの調査岐阜大院工 水野健太,松岡正典,西田 哲,牟田浩司,栗林志頭眞
  • 7ガス流れ環境下におけるH2/SiH4プラズマの気相診断名大1,名大プラズマナノ2 池田昌平1,石島達夫2,豊田浩孝1,2
  • 8シリコン表面の水素プラズマ処理における基板温度の効果長崎大院生産科学1,長崎大院工2 原幸治郎1,高見佳生2,高木雄也2篠原正典2,松田良信2,藤山 寛2
  •  休憩 11:00〜11:15
  • 9周波数領域型低コヒーレンス干渉計を用いたSi基板の非接触温度分布計測和歌山大学システム工1,名城大理工2,名大院工3 堤 隆嘉1,太田貴之2,菊池邦友1,土谷茂樹1,伊藤昌文2,堀  勝3
  • 10薄膜シリコン太陽電池プラズマプロセスにおけ水素ラジカル表面反応名大院工 ○(D)阿部祐介,竹田圭吾,石川健治,近藤博基,関根 誠,堀  勝
  • 11対向ターゲットスパッタプラズマ内におけるTi原子のa5F5→z5D4遷移スペクトルのガス圧・放電電流依存性東京工芸大工学研究科 山口智功,渡邉健太,小野裕輔,西宮信夫,鈴木正夫
  • 12SiH4/H2プラズマ化学気相堆積法における気相ラジカルとシリコン薄膜結晶性の関係性名大院工 福島敦史,阿部祐介,竹田圭吾,近藤博基,石川健治,関根 誠,堀  勝
  • 13レーザ吸収分光法を用いたマイクロホロカソード放電中の準安定He原子密度と温度測定和歌山大シス工1,名城大理工2,名大院工3 井上真里1,太田貴之2,家苗毅司1,堤 隆嘉1,菊地邦友1,土谷茂樹1,伊藤昌文2,堀  勝3
  • 14大気開放誘電体バリア放電中での電界測定阪大院工 伊藤剛仁,金澤龍也,浜口智志
  • 15大気圧ヘリウムプラズマジェットの周辺空気の混合比とOHラジカル密度の関係東大新領域1,東大工2 米森星矢1,中川雄介2,寺本慶之1,小野 亮1,小田哲治2