7. ビーム応用

30a-ZM - 1〜11


• 1原子サイズに先鋭化したＷ＜111＞エミッタの特性評価日本電子 ^○庭田　章，笠原春生，長谷川憲一，佐藤智重，北村真一
• 2モリブデン白金合金針からの電界電子放出早大院 ^○中島　恵
• 3Noble-metal-covered W tip単原子電子源の作製歩留まり向上の検討名城大理工¹，早大先進理工^{2 ○（M1）}中川達裕¹，六田英治¹，橋本　剛¹，村田英一¹，下山　宏¹，大島忠平²
• 4Nd oxide/W(100)低仕事関数陰極の検討室工大情電¹，香川高専通信^{2 ○}中根英章¹，川久保貴史²
• 5電界放出電子スピン分光法による単結晶マグネタイトウィスカー表面でのVerwey転移観測三重大院工¹，三重大極限ナノエレセ²，静大電研^{3 ○}永井滋一^1,2，畑　浩一^1,2，岡田守弘³，三村秀典³
• 6電子ビーム誘起堆積三極構造Ptナノ電子源からの縞状電子放出パターンの観測阪大 ^○北山智久，阿保　智，若家富士男，高井幹夫
•  休憩　11:30〜11:45
• 7赤外レーザ励起によるLiNbO₃とLiTaO₃からの電子放出とX線源への応用阪大極限 ^○（M1）中浜弘介，加賀英一，木佐俊哉，阿保　智，若家冨士男，高井幹夫
• 8微小電子源のためのガラス基板酸化チタンナノ構造の作製阪大極限センター ^○中谷卓央，若家冨士男，阿保　智，高井幹夫
• 9還元した単層酸化グラフェンエッジからの電界電子放出米国ラトガーズ大¹，大阪大²，英国インペリアル大³，東北大⁴，米国テキサス大⁵ 山口尚登¹，村上勝久²，江田剛輝³，藤田武志⁴，ペンフェイ グァン⁴，ウェイチャオ ワン⁵，チェン ゴン⁵，ジュリアン ボッセ¹，スティーブ ミラー¹，^○若家冨士男²，ムゲ アシック⁵，キョンジェ チョ⁵，イベス シャバル⁵，陳　明偉⁴，高井幹夫²，マニッシュ チョワラ¹
• 10n型ダイヤモンド負の電子親和力表面からの電界電子放出機構産総研ナノチューブRC¹，国際基督教大　^{2 ○}山田貴壽¹，長谷川雅考¹，工藤唯義²，増澤智昭²，岡野　健²
• 11n型多孔質Si断面電子放出素子の電気化学酸化処理効果沖縄高専 ^○儀間弘樹，比嘉勝也
•  昼食　13:00〜15:00

30p-ZM - 1〜10

• 1オールシリコンフィールドエミッタアレイの電子放出特性改善京大院工¹，住友精密工業²，日新イオン機器³，中部大工^{4 ○}後藤康仁¹，松岡　元²，小巻賢治²，酒井滋樹³，辻　博司¹，石川順三⁴
• 2大規模フィールドエミッタアレイのための電子減速電極系の開発京大院工¹，中部大工²，日新イオン機器^{3 ○}後藤康仁¹，田口周平¹，北川貴之¹，石川順三²，池田啓太¹，辻　博司¹，酒井滋樹³
• 3窒化ハフニウムフィールドエミッタアレイの高温下における絶縁性評価京大・院工 ^○大上　航，安友佳樹，後藤康仁，辻　博司
• 4真空トランジスタを用いた周波数混合器の実現に向けた制御電極の動作特性測定京大・院工 ^○安友佳樹，大上　航，後藤康仁，辻　博司
• 5静電レンズ一体型フィールドエミッタの作製II産総研¹，静大電研^{2 ○}長尾昌善¹，吉田知也¹，西　　孝¹，神田信子¹，小池昭史²，根尾陽一郎²，三村秀典²
• 6直立薄膜電子源作製プロセスの改良産総研 ^○吉田知也，長尾昌善
•  休憩　16:30〜16:45
• 7苛酷環境下における転写モールド法アモルファスカーボンエミッタアレイの表面物性と電界電子放出安定性静岡大電研 ^○文　宗鉉，中本正幸
• 8転写モールド法極微小モリブテンエミッタアレイの電界電子放出特性静岡大電研 ^○黒田　渉，文　宗鉉，中本正幸
• 9導電性セラミックエミッタ用薄膜の熱処理静岡大電研 ^○佐野恭央，文　宗鉉，中本正幸
• 10耐環境性導電性セラミックエミッタアレイの電界電子放出安定性静岡大電研 ^○鈴木謙太，文　宗鉉，中本正幸