7. ビーム応用

7.4 ナノインプリント

8月30日　10:00〜18:00　　会場：基盤3-ZN

30a-ZN - 1〜10

  • 1ガスクラスターイオンビームによるインプリントモールドの離型性向上不二越1，富山県工業技術センター2，兵庫県立大3 ○佐藤嗣紀1，廣瀬智博1，小幡　勤2，豊田紀章3，山田　公3
  • 2ポリジメチルシロキサン薄膜を離型膜として用いたUVナノインプリント兵県大院1，JST-CREST2，JSPS3 ○（D）岡田　真1,2,3，春山雄一1,2，松井真二1,2
  • 3酸化によるパターン縮小を用いた高アスペクト比Siナノモールドの作製大府大工1，JST CREST2 ○藤川仙大1,2，阪本隼志1,2，西倉直紀1,2，川田博昭1,2，安田雅昭1,2，平井義彦1,2
  • 4硼珪酸ガラスの熱インプリントに対応した電鋳金型の解発神奈川産技セ1，産総研2 ○安井　学1，高橋正春2，金子　智1，平林康男1，小沢　武1，前田龍太郎2
  • 5SiOx成分含有有機光硬化樹脂を用いたUVナノインプリントレプリカモールドの作製兵県大1，JST-CREST2，JSPS3，トクヤマ4 ○大本慎也1,2，岡田　真1,2,3，姜　有志1,2,3，春山雄一1,2，梅川秀喜4，松井真二1,2
  •  休憩　11:15〜11:30
  • 6ナノインプリント向けシームレスロールモールド製作技術の確立パルステック工業 ○石田雄三，須山洋行，浅沼礼二，西島直樹
  • 7フッ素系添加剤含有カチオン重合系UVナノインプリントレジストの評価兵県大院1，ダイセル化学工業2，JST-CREST3，JSPS4 ○岡田　真1,3,4，三宅弘人2，伊吉就三2，湯川隆夫2，竹内秀和2，春山雄一1,3，松井真二1,3
  • 8FT-IR測定によるUVナノインプリントレジストへのPFPガスの溶解現象の観測兵庫県立大1，AIST2，JST-CREST3，JSPS4 ○知念美佳1,3，岡田　真1,3,4，春山雄一1,3，廣島　洋2,3，松井真二1,3
  • 9PFPガス雰囲気下UVナノインプリントにより作製したレジストパターンの重合度評価兵庫県立大院1，ダイセル化学工業2，東洋合成工業3，大阪府立大4，産総研5，JST-CREST6，JSPS7 ○澤田陽平1,6，岡田　真1,6,7，三宅弘人2，大幸武司3，春山雄一1,6，平井義彦4,6，廣島　洋5,6，松井真二1,6
  • 10UV-NILレジストの硬化特性評価III大阪府立大　院工1，サムソン横浜研2，東洋合成工業3，リソテックジャパン4，JST-CREST5 ○（M2）鈴木亮佑1,5，坂井信支2，大幸武司3，関口　淳4，川田博昭1,5，平井義彦1,5
  •  昼食　12:45〜15:00

30p-ZN - 1〜11

  • 1エッジリソグラフィで作製されたナノパターンの強化と熱インプリントへの応用大府大工1，JST CREST2 ○阪本隼志1,2，野間隼史1，藤川仙大1,2，川田博昭1,2，安田雅昭1,2，平井義彦1,2
  • 2溶融樹脂の塗布による高アスペクト比ナノ形状の転写成形日本製鋼所 ○内藤章弘，古木賢一，伊東　宏，焼本数利
  • 3UVナノインプリントにおける凝縮性気体中でのレジスト充填性解析II大阪府立大　院工1，産総研2，JST-CREST3 ○鈴木亮佑1,3，川田博昭1,3，廣島　洋2,3，平井義彦1,3
  • 4光ナノインプリントにおける充填課程のフルフィールド観察産総研集積マイクロ1，JST-CREST2 ○廣島　洋1,2，王　　清1,2
  • 5極浅Siエッチングによる45nm-hp-UV-NILパターンの実効線幅の評価日大1，産業技術総合研究所2，JST-CREST3 ○鈴木健太1,2,3，尹　成圓2,3，王　　清2,3，廣島　洋2,3，西岡泰城1
  • 6ナノキャスティングによる有機太陽電池材料の高アスペクト比構造形成府立大工 ○友廣航平，穂藤規人，川田博昭，平井義彦
  •  休憩　16:30〜16:45
  • 7ナノインプリントによるガラス基板上への雲母へき開面の原子パターン転写の検討東工大物創1，栃木産技センター2，協同インターナショナル3，並木精密宝石4，東工大・弁理士5 ○譚ゴオン1，宮宅ゆみ子1，秋田泰志1，竹澤信隆2，大井秀雄2，三田正弘3，砂川和彦4，吉本　護1,5
  • 8ナノインプリントによって作製された微細構造のヤング率のアニール効果兵庫県立大1，CREST-JST2，JSPS3 ○（D）姜　有志1,2,3，岡田　真1,2,3，春山雄一1,2，松井真二1,2
  • 9高規則性ポーラスアルミナを用いた光ナノインプリント法によるレジストパターンの形成首都大都市環境1，神奈川科学技術アカデミー2 ○成山哲平1，柳下　崇1,2，西尾和之1,2，益田秀樹1,2
  • 10高規則性ポーラスアルミナにもとづく射出成形による100nm周期微細構造の形成と反射防止特性評価首都大都市環境1，神奈川科学技術アカデミー2，パナソニック電工3 ○柳下　崇1,2，桝井幹夫3，池川直人3，益田秀樹1,2
  • 11ナノインプリントリソグラフィーによる微細電極作製とFET測定農工大院BASE ○岩井久尚，下村武史