7. ビーム応用

30a-ZL - 1〜20

• 1「第12回光・量子エレクトロニクス業績賞（宅間宏賞）受賞記念講演」（35分）
  位相シフト法の発明と光学系の結像理論東京工芸大 ^○渋谷眞人
•  休憩　11:05〜11:20
• 2FIB/EB複合リソグラフィによるHSQ3次元ナノ構造作製東京大工 ^○黒田耕平，米谷玲皇，割澤伸一，石原　直
• 330-KeV電子線描画法を用いた3 Tbit/in.²（ピッチ15 nm）超高密度磁気記録用ドット列の形成群馬大工 ^○小森琢哉，張　　慧，赤羽隆志，モハマド ズルファクリ，尹　　友，保坂純男
• 4半導体3次元ナノ構造作製のためのSiブロック垂直側面上電子ビーム描画NTT物性基礎研 ^○山崎謙治，山口浩司
• 5超並列電子線露光装置用アクテイブマトリクス型nc-Si面電子源の開発東京農工大¹，東北大²，クレステック^{3 ○}池上尚克¹，吉田　孝²，小島　明³，太田敢行¹，大井英之³，越田信義¹，江刺正喜²
• 6プロトンビーム描画による圧電性ポリ乳酸薄膜の微細加工と評価芝浦工大工 ^○（M1）萩原央紀，小池義和，竹内　均，小倉智裕，青木大地，石川拓也，熊谷　研，西川宏之，原島勇気
• 7粒子線露光量が誘電体薄膜パターンに及ぼす影響芝浦工大工 ^○山口正樹，西川宏之
• 8内面リソグラフィを用いた空気軸受溝パターンの形成東京電機大院工 ^○鈴木裕哉，堀内敏行
• 9レジスト側壁制御を応用したマイクロレンズ金型の製作東京電機大院工 ^○小野博史，堀内敏行
• 10密着露光によるレジスト深溝流露を持つマイクロリアクターの製作東京電機大院工¹，東京電機大工^{2 ○}吉野真平¹，宮西　尉²，堀内敏行^1,2
• 11屈折率分布型レンズアレイ要素レンズ単体の投影露光特性東京電機大院工¹，東京電機大工^{2 ○}高田直貴¹，関根幸太郎²，堀内敏行^1,2
• 12半導体露光用ArFエキシマレーザのガス交換レス技術開発ギガフォトン ^○増田浩幸，松本慎一，鈴木　徹，吉田紘展，草間高史，田中洋志，黒須昭彦，松永　隆，藤本准一，溝口　計
• 13画像認識を用いた半導体マスク検査のための高次局所自己相関特徴抽出方法の検討千葉工大院工¹，産総研^{2 ○}高田英知¹，野里博和²，坂無英徳²，高橋栄一²，久保田一¹
• 14両親媒性液晶型ブロック共重合体のグラフォエピタキシ(2)NTT物性基礎研¹，東工大資源研^{2 ○}山口　徹¹，山口浩司¹，彌田智一²
• 15EUVレジスト用酸発生剤の電子受容性に及ぼす効果阪大産研¹，JST-CREST^{2 ○}遠藤政孝^1,2，田川精一^1,2
• 16EUV化学増幅型レジストの現像解析阪大産研¹，東京応化^{2 ○}山本洋揮¹，田川精一¹，三村岳由²，岩井　武²，小野寺純一²
• 17極端紫外線干渉露光による1X nm 級レジストパタン形成兵県大 ^○浦山拓郎，山口裕也，原田哲男，渡邊健夫，木下博雄
• 18極端紫外リソグラフィ用パルスＣＯ２レーザ装置の開発小松製作所¹，ギガフォトン^{2 ○}大賀　仁¹，川筋康文¹，太田　毅¹，Nowak Krzysztof¹，菅沼　崇¹，横塚俊雄¹，住谷　明²，藤本准一²，溝口　計²
• 19極微パタン構造計測のためのコヒーレント13nm高次高調波光源の開発　III理研 ASI¹，兵庫県立大²，JST CREST^{3 ○}永田　豊^1,2,3，原田哲男^2,3，木下博雄^1,2,3，緑川克美¹
• 20EUVLマスク用無変形チャッキング技術の開発防大 ^○宇根篤暢，小笠原永久，吉冨健一郎，餅田正秋