3.光

3.2 材料光学

8月30日 15:00〜18:00  会場:基盤3-ZL

30p-ZL - 1〜10

  • 1「光分科内招待講演」(30分)
    光重合性ナノコンポジットポリマー −その特性とホログラフィー、非線形光学、中性子光学への応用−
    電気通信大院 富田康生
  • 2統計熱力学モデルに基づくホログラフィック高分子分散液晶中のホログラフィック格子形成過程のモンテカルロシミュレーション電通大 ○(M1)福田吉晃,大平隆一郎,富田康生
  • 3光加工したアゾベンゼン膜を用いるITO薄膜のウェットエッチング新潟大院自然科学1,新潟超域研究機構2 関 貴紀1,大平泰生1,2,清水英彦1,2,金子双男1,2,川上貴浩1
  • 4光リソグラフィによるレジスト3次元加工技術の開発日立製作所マイクロデバイス事業部1,日立ハイテク2 角田和之1,小野塚利彦1,松井 繁2,江畠佳定2,長谷川昇雄2
  •  休憩 16:15〜16:30
  • 5光ガルバノ効果によるフェムト秒パルスレーザーの相関計測東大生研1,東フィンランド大2 ○(M2)吉峯 功1,Alexei A. Kamshilin2,藤村隆史1,佐藤琢哉1,志村 努1,黒田和男1
  • 6低ガラス転移温度フォトリフラクティブポリマーにおける連続DC電界印加の影響理研 ○(PC)藤原 隆,佐々高史
  • 7金属-絶縁体相転移物質を用いた環境応答型波長選択制熱輻射の環境熱制御への適用東北大院工 清水 信,井口史匡,湯上浩雄
  • 8面内に屈折率異方性を有するポーラスシリコンの三次元構造解析神戸大院工1,大阪大超高圧電顕2 志智慎介1,藤井 稔1,林 真至1,西田倫希2,保田英洋2
  • 9モルフォ蝶型構造発色体の大面積・高速作製 〜FDTD解析を援用した乱雑さ制御〜阪大院工1,日機装2,キヤノンマシナリー3,理研/SPring-84 ○(M2)米澤 賢1,村瀬淳一1,渡辺弘行2,野口俊司3,二宮孝文3,赤井 恵1,桑原裕司1,4,齋藤 彰1,4
  • 10半導体デバイス微細周期構造の光学特性サムスン横浜研究所1,三星電子2 沼田光徳1,関谷晴隆1,富樫光宏1,宇佐見康継1,Suejin Cho2,Yongdeok Jeong2,Yusin Yang2