応用物理ONLINE

最新号
Vol.95 No.3 | 2026

  • 静電加速器の歴史とその展望
  • 金属元素を使わないカーボン系材料のみの集積回路
  • 無線電力伝送技術の基盤原理と応用展望
ほか

お知らせ
2026-03-04

『応用物理』月間アクセスランキング(2026年2月)

※ここでのランキングは,J-STAGE『応用物理』の資料トップページに掲載されているものとは集計方法が異なります.集計結果は本文PDFと書誌情報(アブストラクトページ)へのアクセス数の合計です.

魅力的な図表の描き方 <基礎講座>
田中 佐代子
2024 年 93 巻 8 号 p. 496-500
https://doi.org/10.11470/oubutsu.93.8_496

Rapidus 徹底解剖 <今月のトピックス>
石丸 一成, 木本 恒暢, 安達 千波矢, 吾郷 浩樹, 石川 剛
2026 年 95 巻 1 号 p. 1-6
https://doi.org/10.11470/oubutsu.95.1_1

半導体産業の利益率はどうして高いのか? <Coffee Break>
近藤 誠一
2025 年 94 巻 6 号 p. 331-335
https://doi.org/10.11470/oubutsu.94.6_331

今更聞けないresearchmapと学術情報の利活用 <基礎講座>
新井 紀子
2024 年 93 巻 6 号 p. 362-366
https://doi.org/10.11470/oubutsu.93.6_362

明るい半導体―LED,半導体レーザー― <基礎講座>
波多腰 玄一
2026 年 95 巻 2 号 p. 99-104
https://doi.org/10.11470/oubutsu.95.2_99

2026-02-05

『応用物理』月間アクセスランキング(2026年1月)

※ここでのランキングは,J-STAGE『応用物理』の資料トップページに掲載されているものとは集計方法が異なります.集計結果は本文PDFと書誌情報(アブストラクトページ)へのアクセス数の合計です.

魅力的な図表の描き方 <基礎講座>
田中 佐代子
2024 年 93 巻 8 号 p. 496-500
https://doi.org/10.11470/oubutsu.93.8_496

半導体産業の利益率はどうして高いのか? <Coffee Break>
近藤 誠一
2025 年 94 巻 6 号 p. 331-335
https://doi.org/10.11470/oubutsu.94.6_331

シリコンフォトニクス―どうやって作るの? <基礎講座>
土澤 泰
2011 年 80 巻 11 号 p. 994-998
https://doi.org/10.11470/oubutsu.80.11_994

Rapidus 徹底解剖 <今月のトピックス>
石丸 一成, 木本 恒暢, 安達 千波矢, 吾郷 浩樹, 石川 剛
2026 年 95 巻 1 号 p. 1-6
https://doi.org/10.11470/oubutsu.95.1_1

熱電変換の基礎と応用 <総合報告>
吉野 淳二, 篠原 嘉一
2013 年 82 巻 11 号 p. 918-927
https://doi.org/10.11470/oubutsu.82.11_918

2026-01-06

『応用物理』月間アクセスランキング(2025年12月)

※ここでのランキングは,J-STAGE『応用物理』の資料トップページに掲載されているものとは集計方法が異なります.集計結果は本文PDFと書誌情報(アブストラクトページ)へのアクセス数の合計です.

魅力的な図表の描き方 <基礎講座>
田中 佐代子
2024 年 93 巻 8 号 p. 496-500
https://doi.org/10.11470/oubutsu.93.8_496

半導体産業の利益率はどうして高いのか? <Coffee Break>
近藤 誠一
2025 年 94 巻 6 号 p. 331-335
https://doi.org/10.11470/oubutsu.94.6_331

遺伝子工学の基礎 I <基礎講座>
田村 隆明
2005 年 74 巻 1 号 p. 60-64
https://doi.org/10.11470/oubutsu.74.1_60

薄膜X線回折測定の基礎と応用 <基礎講座>
稲葉 克彦, 小林 信太郎
2022 年 91 巻 10 号 p. 635-639
https://doi.org/10.11470/oubutsu.91.10_635

今更聞けないresearchmapと学術情報の利活用 <基礎講座>
新井 紀子
2024 年 93 巻 6 号 p. 362-366
https://doi.org/10.11470/oubutsu.93.6_362

2025-12-05

『応用物理』月間アクセスランキング(2025年11月)

※ここでのランキングは,J-STAGE『応用物理』の資料トップページに掲載されているものとは集計方法が異なります.集計結果は本文PDFと書誌情報(アブストラクトページ)へのアクセス数の合計です.

魅力的な図表の描き方 <基礎講座>
田中 佐代子
2024 年 93 巻 8 号 p. 496-500
https://doi.org/10.11470/oubutsu.93.8_496

半導体産業の利益率はどうして高いのか? <Coffee Break>
近藤 誠一
2025 年 94 巻 6 号 p. 331-335
https://doi.org/10.11470/oubutsu.94.6_331

遺伝子工学の基礎 I <基礎講座>
田村 隆明
2005 年 74 巻 1 号 p. 60-64
https://doi.org/10.11470/oubutsu.74.1_60

薄膜X線回折測定の基礎と応用 <基礎講座>
稲葉 克彦, 小林 信太郎
2022 年 91 巻 10 号 p. 635-639
https://doi.org/10.11470/oubutsu.91.10_635

高度化するイメージング技術のキーデバイス <基礎講座>
大池 祐輔
2025 年 94 巻 11 号 p. 607-612
https://doi.org/10.11470/oubutsu.94.11_607

2025-11-10

『応用物理』月間アクセスランキング(2025年10月)

※ここでのランキングは,J-STAGE『応用物理』の資料トップページに掲載されているものとは集計方法が異なります.集計結果は本文PDFと書誌情報(アブストラクトページ)へのアクセス数の合計です.

薄膜X線回折測定の基礎と応用 <基礎講座>
稲葉 克彦, 小林 信太郎
2022 年 91 巻 10 号 p. 635-639
https://doi.org/10.11470/oubutsu.91.10_635

洗浄技術のコツ <基礎講座>
有馬 健太
2015 年 84 巻 11 号 p. 1009-1012
https://doi.org/10.11470/oubutsu.84.11_1009

遺伝子工学の基礎 I <基礎講座>
田村 隆明
2005 年 74 巻 1 号 p. 60-64
https://doi.org/10.11470/oubutsu.74.1_60

量子もつれ(エンタングルメント)って何? <基礎講座>
枝松 圭一
2010 年 79 巻 10 号 p. 935-939
https://doi.org/10.11470/oubutsu.79.10_935

今更聞けないresearchmapと学術情報の利活用 <基礎講座>
新井 紀子
2024 年 93 巻 6 号 p. 362-366
https://doi.org/10.11470/oubutsu.93.6_362

2025-10-08

『応用物理』月間アクセスランキング(2025年9月)

※ここでのランキングは,J-STAGE『応用物理』の資料トップページに掲載されているものとは集計方法が異なります.集計結果は本文PDFと書誌情報(アブストラクトページ)へのアクセス数の合計です.

トポロジカル物質の物性物理研究からスタートアップの事業化への変遷 <応物系スタートアップ>
佐藤 太紀
2025 年 94 巻 9 号 p. 513-516
https://doi.org/10.11470/oubutsu.94.9_513

半導体研究者・技術者の1日 <Coffee Break>
前田 拓也
2025 年 94 巻 9 号 p. 509
https://doi.org/10.11470/oubutsu.94.9_509

薄膜X線回折測定の基礎と応用 <基礎講座>
稲葉 克彦, 小林 信太郎
2022 年 91 巻 10 号 p. 635-639
https://doi.org/10.11470/oubutsu.91.10_635

今更聞けないresearchmapと学術情報の利活用 <基礎講座>
新井 紀子
2024 年 93 巻 6 号 p. 362-366
https://doi.org/10.11470/oubutsu.93.6_362

洗浄技術のコツ <基礎講座>
有馬 健太
2015 年 84 巻 11 号 p. 1009-1012
https://doi.org/10.11470/oubutsu.84.11_1009

2022-07-26

JSAP Review が創刊されました

『応用物理』の良質なレビュー記事を英訳したゴールドオープンアクセスジャーナル “JSAP Review“ が創刊されました.

下記URLから閲覧することができます.

https://www.jstage.jst.go.jp/browse/jsaprev/-char/en

2019-09-20

J-STAGEでの公開開始

機関誌『応用物理』の記事ページがJ-STAGEで公開されました.
J-STAGEでは以下のような機能が可能になります.

  • 記事の横断・詳細検索
  • 引用文献へのリンク
  • DOI(Digital Object Identifier)の付与

また,J-STAGEの「お気に入り」に登録することで,
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【注意】
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基礎講座
今が熱い! The 半導体 —基礎知識から最新動向まで—

未来の半導体
—シリコン量子コンピュータ—

森 貴洋
応物系スタートアップ
応物系スタートアップ

最短経路ではたどりつけない
—アメーバ発想の最適化半導体への挑戦

青野 真士
研究機関トップからのメッセージ
研究機関トップからのメッセージ

さまざまな分野の研究者間で刺激し合い,ワクワクする研究機関——情報通信研究機構(NICT)の将来ビジョンと若手研究者の育成について

徳田英幸,林智広
高性能分光装置のご紹介(ラボ実験用?生産品質管理用まで):(株)東京インスツルメンツ サニャック干渉計振動観察装置:ネオアーク(株) 電磁波解析ソフトウェア Advance/ParallelWaveの事例紹介:(株)アドバンスソフト
研究&開発に役立つ情報満載 科研費特集(応用物理 2025年7月号)