応用物理ONLINE

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Vol.94 No.11 | 2025

  • 電子デバイス材料へのプラズマ誘起ダメージとその分析技術
  • 熱マネージメント材料の創出に向けた有機熱輸送特性の理解
ほか

お知らせ

『応用物理』月間アクセスランキング(2025年10月)

2025-11-10

※ここでのランキングは,J-STAGE『応用物理』の資料トップページに掲載されているものとは集計方法が異なります.集計結果は本文PDFと書誌情報(アブストラクトページ)へのアクセス数の合計です.

薄膜X線回折測定の基礎と応用 <基礎講座>
稲葉 克彦, 小林 信太郎
2022 年 91 巻 10 号 p. 635-639
https://doi.org/10.11470/oubutsu.91.10_635

洗浄技術のコツ <基礎講座>
有馬 健太
2015 年 84 巻 11 号 p. 1009-1012
https://doi.org/10.11470/oubutsu.84.11_1009

遺伝子工学の基礎 I <基礎講座>
田村 隆明
2005 年 74 巻 1 号 p. 60-64
https://doi.org/10.11470/oubutsu.74.1_60

量子もつれ(エンタングルメント)って何? <基礎講座>
枝松 圭一
2010 年 79 巻 10 号 p. 935-939
https://doi.org/10.11470/oubutsu.79.10_935

今更聞けないresearchmapと学術情報の利活用 <基礎講座>
新井 紀子
2024 年 93 巻 6 号 p. 362-366
https://doi.org/10.11470/oubutsu.93.6_362

『応用物理』月間アクセスランキング(2025年9月)

2025-10-08

※ここでのランキングは,J-STAGE『応用物理』の資料トップページに掲載されているものとは集計方法が異なります.集計結果は本文PDFと書誌情報(アブストラクトページ)へのアクセス数の合計です.

トポロジカル物質の物性物理研究からスタートアップの事業化への変遷 <応物系スタートアップ>
佐藤 太紀
2025 年 94 巻 9 号 p. 513-516
https://doi.org/10.11470/oubutsu.94.9_513

半導体研究者・技術者の1日 <Coffee Break>
前田 拓也
2025 年 94 巻 9 号 p. 509
https://doi.org/10.11470/oubutsu.94.9_509

薄膜X線回折測定の基礎と応用 <基礎講座>
稲葉 克彦, 小林 信太郎
2022 年 91 巻 10 号 p. 635-639
https://doi.org/10.11470/oubutsu.91.10_635

今更聞けないresearchmapと学術情報の利活用 <基礎講座>
新井 紀子
2024 年 93 巻 6 号 p. 362-366
https://doi.org/10.11470/oubutsu.93.6_362

洗浄技術のコツ <基礎講座>
有馬 健太
2015 年 84 巻 11 号 p. 1009-1012
https://doi.org/10.11470/oubutsu.84.11_1009

『応用物理』月間アクセスランキング(2025年8月)

2025-09-05

※ここでのランキングは,J-STAGE『応用物理』の資料トップページに掲載されているものとは集計方法が異なります.集計結果は本文PDFと書誌情報(アブストラクトページ)へのアクセス数の合計です.

ニセ科学と科学者の社会への関わり方 <最近の展望>
菊池 誠
2012 年 81 巻 10 号 p. 841-844
https://doi.org/10.11470/oubutsu.81.10_841

「Japanese research is no longer world class」について <最近の展望>
五十嵐 杏南
2025 年 94 巻 8 号 p. 422-424
https://doi.org/10.11470/oubutsu.94.8_422

洗浄技術のコツ <基礎講座>
有馬 健太
2015 年 84 巻 11 号 p. 1009-1012
https://doi.org/10.11470/oubutsu.84.11_1009

日本の科学技術の現状・優位性・課題 <最近の展望>
川合 眞紀
2025 年 94 巻 8 号 p. 425-427
https://doi.org/10.11470/oubutsu.94.8_425

我が国の科学技術の再興に向けて――半導体のケース <最近の展望>
平本 俊郎
2025 年94 巻8 号 p. 428-430
https://doi.org/10.11470/oubutsu.94.8_428

『応用物理』月間アクセスランキング(2025年7月)

2025-08-04

※ここでのランキングは,J-STAGE『応用物理』の資料トップページに掲載されているものとは集計方法が異なります.集計結果は本文PDFと書誌情報(アブストラクトページ)へのアクセス数の合計です.

洗浄技術のコツ <基礎講座>
有馬 健太
2015 年 84 巻 11 号 p. 1009-1012
https://doi.org/10.11470/oubutsu.84.11_1009

薄膜X線回折測定の基礎と応用 <基礎講座>
稲葉 克彦, 小林 信太郎
2022 年 91 巻 10 号 p. 635-639
https://doi.org/10.11470/oubutsu.91.10_635

先端CMOSトランジスタアーキテクチャ <基礎講座>
山下 典洪
2025 年 94 巻 7 号 p. 395-400
https://doi.org/10.11470/oubutsu.94.7_395

コヒーレンスって何? <基礎講座>
森田 隆二
2010 年 79 巻 4 号 p. 352-356
https://doi.org/10.11470/oubutsu.79.4_352

遺伝子工学の基礎 I <基礎講座>
田村 隆明
2005 年 74 巻 1 号 p. 60-64
https://doi.org/10.11470/oubutsu.74.1_60

『応用物理』月間アクセスランキング(2025年6月)

2025-07-04

※ここでのランキングは,J-STAGE『応用物理』の資料トップページに掲載されているものとは集計方法が異なります.集計結果は本文PDFと書誌情報(アブストラクトページ)へのアクセス数の合計です.

遺伝子工学の基礎 I <基礎講座>
田村 隆明
2005年 74巻 1号 p.60-64
https://doi.org/10.11470/oubutsu.74.1_60

薄膜X線回折測定の基礎と応用 <基礎講座>
稲葉 克彦, 小林 信太郎
2022年 91巻 10号 p.635-639
https://doi.org/10.11470/oubutsu.91.10_635

コヒーレンスって何? <基礎講座>
森田 隆二
2010年 79巻 4号 p.352-356
https://doi.org/10.11470/oubutsu.79.4_352

量子もつれ(エンタングルメント)って何? <基礎講座>
枝松 圭一
2010年 79巻 10号 p.935-939
https://doi.org/10.11470/oubutsu.79.10_935

半導体産業の利益率はどうして高いのか? <Coffee Break>
近藤 誠一
2025年 94巻 6号 p.331-335
https://doi.org/10.11470/oubutsu.94.6_331

『応用物理』月間アクセスランキング(2025年5月)

2025-06-06

※ここでのランキングは,J-STAGE『応用物理』の資料トップページに掲載されているものとは集計方法が異なります.集計結果は本文PDFと書誌情報(アブストラクトページ)へのアクセス数の合計です.

遺伝子工学の基礎 I <基礎講座>
—DNA操作の基本から遺伝子組み換え実験まで—
田村 隆明
2005年 74巻 1号 p.60-64
https://doi.org/10.11470/oubutsu.74.1_60

量子もつれ(エンタングルメント)って何? <基礎講座>
枝松 圭一
2010年 79巻 10号 p.935-939
https://doi.org/10.11470/oubutsu.79.10_935

薄膜X線回折測定の基礎と応用 <基礎講座>
稲葉 克彦, 小林 信太郎
2022年 91巻 10号 p.635-639
https://doi.org/10.11470/oubutsu.91.10_635

コヒーレンスって何? <基礎講座>
森田 隆二
2010年 79巻 4号 p.352-356
https://doi.org/10.11470/oubutsu.79.4_352

2次電池の基礎・原理 <基礎講座>
安部 武志
2021年 90巻 8号 p.516-520
https://doi.org/10.11470/oubutsu.90.8_516

JSAP Review が創刊されました

2022-07-26

『応用物理』の良質なレビュー記事を英訳したゴールドオープンアクセスジャーナル “JSAP Review“ が創刊されました.

下記URLから閲覧することができます.

https://www.jstage.jst.go.jp/browse/jsaprev/-char/en

J-STAGEでの公開開始

2019-09-20

機関誌『応用物理』の記事ページがJ-STAGEで公開されました.
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  • 記事の横断・詳細検索
  • 引用文献へのリンク
  • DOI(Digital Object Identifier)の付与

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基礎講座
今が熱い! The 半導体 —基礎知識から最新動向まで—

高度化するイメージング技術の
キーデバイス —CMOSイメージセンサ—

大池 祐輔
応物系スタートアップ
応物系スタートアップ

トポロジカル物質の物性物理研究からスタートアップの事業化への変遷

佐藤 太紀
研究機関トップからのメッセージ
研究機関トップからのメッセージ

さまざまな分野の研究者間で刺激し合い,ワクワクする研究機関——情報通信研究機構(NICT)の将来ビジョンと若手研究者の育成について

徳田英幸,林智広
高性能分光装置のご紹介(ラボ実験用?生産品質管理用まで):(株)東京インスツルメンツ サニャック干渉計振動観察装置:ネオアーク(株) 電磁波解析ソフトウェア Advance/ParallelWaveの事例紹介:(株)アドバンスソフト
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