17. ナノカーボン

17.4 デバイス応用

9月13日 9:45〜18:45  会場:C2

13a-C2 - 4〜11

  •  1〜3 9:00〜9:45(17.3 新機能探索・基礎物性評価)
  • 4インクジェット法を用いた完全塗布型オールカーボンフレキシブルトランジスタ早大先進1,東北大理2,首都大理工3,東大工4 松崎怜樹1,蓬田陽平2,犬飼良太1,柳 和宏3,岩佐義宏4,竹延大志1
  • 5高速転写・フレキソ印刷技術を用いた高移動度カーボンナノチューブ薄膜トランジスタの作製名大工1,バンドー化学2 樋口健太郎1,中嶋勇太2,外村卓也2,武居正史2,岸本 茂1,水谷 孝1,畑 克彦2,大野雄高1
  •  休憩 10:15〜10:30
  • 6単一(6,5)カイラリティ単層カーボンナノチューブ厚膜におけるイオンゲルトランジスタ首都大理工1,早大先進2,産総研/CREST3 ○(M1)工藤 光1,野房勇希2,河合英輝1,片浦弘道3,竹延大志2,柳 和宏1
  • 7高純度半導体カーボンナノチューブを用いた高周波FETの特性評価名大工1,名大理2 稲垣正己1,畑 謙佑1,塩沢一成2,宮田耕充2,大野雄高1,岸本 茂1,篠原久典2,水谷 孝1
  • 8単層カーボンナノチューブトランジスタの圧縮・引張特性早大先進1,東北大理2,首都大理工3,東大工4,PRESTO5 野房勇希1,濱畑裕紀1,蓬田陽平2,柳 和宏3,岩佐義宏4,竹延大志1,5
  • 9軸方向引張歪みを加えたCNTトンネル電界効果トランジスタの特性解析神戸大院工 中野貴史,小川真人,相馬聡文
  • 10プラズマCVDによる原子置換単層カーボンナノチューブの創製及び電気特性評価東北大院工 村越幸史,加藤俊顕,安久津誠,畠山力三,金子俊郎
  • 11単層カーボンナノチューブ膜への連続的電子ドーピング早大先進1,首都大理工2 ○(M1)清水 諒1,松崎怜樹1,柳 和宏2,竹延大志1
  •  昼食 12:00〜13:30

13p-C2 - 1〜20

  • 1Pd,Ti被膜ドーピングによるCNTFETの伝導型制御名大工1,名大VBL2 ○(PC)石井 聡1,2,玉置聖人1,岸本 茂1,2,水谷 孝1
  • 2CNT/SiC界面の電流挙動早大1,名大2 渋谷 恵1,稲葉優文1,大原一慶1,落合拓海1,増田佳穂2,平岩 篤1,楠美智子2,川原田洋1
  • 3カーボンナノチューブを用いたPtナノ粒子の融点計測阪大院工 恵美健央,黒田圭介,平原佳織,中山喜萬
  • 4カーボンナノチューブ電界電子放出源の劣化機構阪大院工 恵美健央,黒田圭介,平原佳織,中山喜萬
  • 5フレキシブルMoS2薄膜トランジスタ早大先進1,東北大理2,Academia Sinica3,東大院工4 蒲  江1,蓬田陽平2,Keng-Ku Liu3,Lain-Jong Li3,岩佐義宏4,竹延大志1
  • 6合成MoS2単結晶を用いた電界効果トランジスタの作製と評価埼玉大院理工 田端祐輔,上野啓司
  • 7CVDグラフェンにおける電界効果移動度のグレインサイズ依存性産総研GNC1,産総研ICAN2,産総研NRI3 八木克典1,山田綾香1,林賢二郎1,原田直樹1,塚原雅宏2,小川真一3,佐藤信太郎1,横山直樹1
  • 8グラフェン/SiC/SiバックゲートFET特性とSiC層厚の関係東北大・通研1,JST-CREST2 ○(M1)江藤隆紀1,鷹林 将1,2,三本菅正太1,猪俣州哉1,吹留博一1,2,末光眞希1,2,末光哲也1,2,尾辻泰一1,2
  • 9ヘリウムイオン照射されたグラフェンシートの室温における電流のゲート変調産総研GNC1,産総研ICAN2,産総研NRI3,物材機構WPI-MANA4 中払 周1,飯島智彦2,小川真一3,鈴木真吾1,宮崎久生4,黎 松林4,塚越一仁4,佐藤信太郎1,横山直樹1
  • 10GNRFETにおけるリーク電流・移動度トレードオフの量子伝導計算産総研1,CEMES-CNRS & MANA Satellite2 伊藤正勝1,佐藤信太郎1,横山直樹1,Christian Joachim2
  •  休憩 16:00〜16:15
  • 111次元局所歪みを導入したグラフェンの電気伝導筑波大物理1,筑波大学際物質セ2 友利ひかり1,2,軽部大雅1,2,大塚洋一1,神田晶申1,2
  • 12第一原理シミュレーションによるグラフェン Dual-Double Gate トランジスタの特性評価富士通研 大淵真理
  • 13酸化物保護膜を用いたCVDグラフェン転写法とその有用性の検証産総研GNC 山口淳一,林賢二郎,佐藤信太郎,横山直樹
  • 14酸化グラフェンデバイスの性能支配要因解析阪大院工1,阪大産研2 根岸良太1,倉本一輝1,大野恭秀2,前橋謙三2,松本和彦2,小林慶裕1
  • 15グラフェン電界効果トランジスタを用いた抗原の高感度検出阪大産研 岡本翔伍,生田 昂,Zaifuddin Sakinah,大野恭秀,前橋兼三,井上恒一,松本和彦
  • 16グラフェンメゾスコピック構造における磁場を用いた単一ディラック電子制御物材機構1,群馬大工2 森山悟士1,守田佳史2,渡辺英一郎1,津谷大樹1
  • 17グラフェン/銀ナノワイヤー積層透明導電フィルム東芝研究開発センター 内藤勝之,吉永典裕,堤 栄史,赤坂芳浩
  • 18スパッタアモルファスカーボンの熱処理により成膜した多層グラフェン配線の電流耐性産総研/GNC 佐藤元伸,高橋 慎,中野美尚,二瓶瑞久,横山直樹
  • 19横方向グラフェンと縦方向高密度グラフェン構造[DVHG]の熱伝導および電気伝導評価産総研 村上 智,川端章夫,二瓶瑞久,横山直樹
  • 20グラフェン含有カーボン微粒子から作製したEDLC用電極中部大1,パルスプラズマ技研2 ○(M2)加藤公敏1,松島真央1,野田三喜男2,内田秀雄1

17.4 デバイス応用

9月14日 9:00〜12:00  会場:C2

14a-C2 - 1〜11

  • 1半導体単層カーボンナノチューブを用いた超高感度ガスセンサー阪大院工1,新コスモス電機2 ○(M1)鈴木雄登1,野本龍一1,板橋健太1,田畑博史1,片山光浩1,上田 剛2,嶋嵜僚太郎2,丹上博雅2,堀内雅司2
  • 2金属酸化物修飾単層カーボンナノチューブによる極微量酸素分子の高感度センシング阪大院工1,大陽日酸2,新コスモス電機3 松下八土史1,福田洋志1,鈴木雄登1,板橋健太1,田畑博史1,片山光浩1,菊池 勉2,佐藤哲也2,上村隆裕2,上田 剛3,嶋嵜僚太郎3,丹上博雅3,堀内雅司3
  • 3カーボンナノチューブ薄膜トランジスタを用いた圧力センシングTASC1,NEC2,東大工3 二瓶史行1,遠藤浩幸2,沼田秀昭1,井原和紀1,関谷 毅3,染谷隆夫3
  • 4High-k絶縁膜積層型カーボンナノチューブメモリ阪大産研1,CREST-JST2 藤井雄介1,清家康平1,上村崇史1,2,大野恭秀1,2,前橋兼三1,2,井上恒一1,2,松本和彦1,2
  • 5グリッド配線によるCNT透明導電膜の低抵抗化名大工1,東大工2 深谷徳宏1,片岡佑介2,金 東榮2,岸本 茂1,水谷 孝1,野田 優2,大野雄高1
  • 6n型半導体単層カーボンナノチューブ薄膜を用いた太陽電池の作製および特性評価法大院工1,法大生命科2 庄司真雄1,関根亮典1,伊藤寿之2,緒方啓典1,2
  •  休憩 10:30〜10:45
  • 7塗工型色素増感太陽電池のためのカーボンナノチューブ塗料の開発横国大院工 辻 雅也,杉山誠一,大矢剛嗣
  • 8単層カーボンナノチューブを対極に用いた色素増感太陽電池の評価東大工 千足昇平,山中俊平,木下英典,エリック エイナルソン,丸山茂夫
  • 9ドライスピニング法で紡績したMWCNT紡績糸の電気伝導特性静大院工1,静大電研2 萩坂文登1,榎本将規1,中野貴之1,三村秀典2,井上 翼1
  • 10CNT間クロスリンク技術によるCNT構造体の機械特性向上静大院工1,静大電研2 中村和通1,宮坂悠太1,中野貴之1,三村秀典2,井上 翼1
  • 11カーボンナノチューブ・バンプを用いたマイクロストリップ線路インダクタ(I) 高周波解析慶大院理工1,富士通研2 中村光貴1,岩井大介2,粟野祐二1