15. 結晶工学

15.7 エピタキシーの基礎

9月14日 9:00〜12:00  会場:J

14a-J - 1〜11

  • 1GaAs(001)表面上のN取り込みに対する量子論的アプローチ三重大院工 ○(M2)杉谷龍彦,秋山 亨,中村浩次,伊藤智徳
  • 2GaAs(001)表面におけるBi取り込みに対する量子論的アプローチ三重大院工 ○(M2)村瀬 功,秋山 亨,中村浩次,伊藤智徳
  • 3InAs/GaAs(001)-(n×3)ぬれ層表面構造に対する量子論的アプローチ三重大院工 平井健太郎,秋山 亨,中村浩次,伊藤智徳
  • 4GaAs(110)表面上へのMn原子の取り込み阿南高専 平山 基,塚本史郎
  • 5Mn吸着GaAs(001)表面の原子配列物質・材料研究機構1,電通大2 大竹晃浩1,萩原 敦2,中村 淳2
  •  休憩 10:15〜10:30
  • 6窒素ドープSiCの構造多形に関する理論的検討三重大院工 伊藤智徳,秋山 亨,中村浩次
  • 7GaNxAs1-x-yBiy混晶の混和性に関する理論的検討三重大院工 牧原敬宏,秋山 亨,中村浩次,伊藤智徳
  • 8パルスレーザー堆積法によるサファイア薄膜の室温におけるホモエピタキシャル成長の制御東工大1,神奈川県産技セ2 塩尻大士1,山内涼輔1,譚ゴオン1,金子 智1,2,松田晃史1,吉本 護1
  • 9Si(001)上のGaAs成長のその場X線回折兵庫県立大1,宮崎大2,豊田工大3,原子力機構4 仲田侑加1,鈴木秀俊2,池田和磨3,Wen Hu4,神津美和1,高橋正光1,4,大下祥雄3
  • 10低降温速度GaAsマイクロチャンネルエピタキシーにおけるマイクロチャネルパターンの検討による異常成長の解明名城大理工 菱田武重,杉浦高志,高倉宏幸,冨田将史,神林大介,成塚重弥,丸山隆浩
  • 11RFラジカル源を用いたGaN横方向成長におけるGa源としての金属GaおよびTMGの比較名城大 岩月剛徳,加藤浩直,山本菜緒,白井優也,廣田雄二郎,伊覇広夢,内山翔太,鈴木洋平,林 家弘,丸山隆浩,成塚重弥