8. プラズマエレクトロニクス

12a-E1 - 1〜9

• 1Amine groups functionalization of ZnO produced by Pulsed Laser AblationGRADUATE SCHOOL OF SCIENCE AND TECHNOLOGY, SHIZUOKA UNIV.¹，RESEARCH INSTITUTE OF ELECTRONICS, SHIZUOKA UNIV.²，DEPARTMENT OF PHYSICS, AL.I.CUZA UNIVERSITY^{3 ○}MIHAI ALEXANDRU CIOLAN^1,3，IULIANA MOTRESCU²，AKIHISA OGINO¹，DUMITRU LUCA³，MASAAKI NAGATSU¹
• 2マイクロキャピラリー大気圧プラズマジェットを用いたポリマー表面のマスクレス表面修飾マイクロパター二ングResearch Institute of Electronics, Shizuoka Univ.¹，Graduate School of Science and Technology, Shizuoka Univ.^{2 ○}Iuliana Motrescu¹，Masaaki Nagatsu²
• 3高速噴流を用いた低温PECVDプロセスによる高圧狭ギャップ成膜の特異現象の解明岐阜大院工 ^○三和寛之，西田　哲，牟田浩司，栗林志頭眞
• 4Study on synthesis mechanisms of nano-graphene materials employing alcohol in-liquid plasma名大院工¹，NUエコエンジニアリング^{2 ○}近藤博基¹，萩野達也¹，石川健治¹，関根　誠¹，加納浩之²，堀　　勝¹
• 5TEOSで作製したa-Si膜のPL発光特性のマイクロ波電力依存性早大院先進理工 ^○東山晃平，加藤　勇
• 6SiH₄＋N₂ガスを用いたVHF-PECVD法によるSiN_x膜の構造変化東京工芸大工 ^○小林信一
• 7衝突噴流群と局所排気を用いた非平衡プラズマCVDによる高速シリコン成膜岐阜大院工 ^○加藤大典，カルロス ジェレナ，三和寛之，西田　哲，牟田浩司，栗林志頭眞
• 8バラン給電法を用いたVHF プラズマによる界面不活性化膜の作製岐阜大院工 ^○猪飼　剛，牟田浩司，西田　哲，栗林志頭眞
• 9大気圧プラズマジェットによるシリコン表面の超親水化東海大工¹，東海大理^{2 ○}桑畑周司¹，三上一行²

13a-E2 - 1〜11

• 1Surface Modification of Medical Polymer Films by Atmospheric Microplasma静岡大イノベーション社会連携推進機構 ^○福永穂高，Blajan Marius，清水一男
• 2スパッタ製膜におけるプラズマ電位制御成蹊大理工 ^○中野武雄，馬橋琢哉，馬場　茂
• 3有効放電空間拡大による高真空DC平板マグネトロンスパッタの成膜速度の向上東理大工 ^○柳生大輔，伊藤勝利，大野泰典，三浦　勉，斉藤　茂
• 4プラズマ支援反応性スパッタリング法を用いた長尺基板対応大面積プラズマスパッタシステムの開発阪大接合研¹，イー・エム・ディー^{2 ○}竹中弘祐¹，節原裕一¹，江部明憲²
• 5大気圧近傍のプラズマ処理によるガラス基板上へのSi膜形成用Ge核の形成阪大院工 ^○尾下勇太，垣内弘章，安武　潔，大参宏昌
•  休憩　10:15〜10:30
• 6水素ラジカル注入型プラズマ源を用いた微結晶シリコン成膜のRFパワーによる膜質変化名大 ^○陸　　雅，福島敦史，阿部祐介，金　淵俊，竹田圭吾，石川健治，近藤博基，関根　誠，堀　　勝
• 7SiH₄/H₂プラズマ化学気相堆積法におけるHラジカル・成膜前駆体フラックス比とシリコン薄膜膜質の関係性名大院工 ^○福島敦史，阿部祐介，竹田圭吾，近藤博基，石川健治，関根　誠，堀　　勝，陸　　雅
• 8反応性プラズマ蒸着法を用いた微細結晶窒化チタン薄膜の作製と解析三菱マテ中研 ^○田中耕一，田中裕介，高岡秀充，長田　晃
• 9RFバイアススパッタ法によるc軸平行配向AlN及びScAlN薄膜の形成同志社大¹，名工大^{2 ○}高柳真司¹，柳谷隆彦²，松川真美¹
• 10プラズマ励起化学気相堆積法で成長したアモルファスカーボン膜の膜構造に対するパルスバイアス印加効果名大院工 ^○九鬼　淳，于　楽泳，近藤博基，関根　誠，堀　　勝
• 11プラズマ異方性CVD による窒化レジスト上への硬質カーボン膜の製膜九大システム情報¹，阪大接合研²，名大院工^{3 ○}鳥越隆平¹，浦川達也¹，山下大輔¹，内田儀一郎¹，古賀一憲¹，白谷正治¹，節原裕一²，関根　誠³，堀　　勝³
•  昼食　12:00〜13:30

13p-E2 - 1〜5

• 1二酸化チタン薄膜を用いた光電気化学効果セルの基礎検討京都大院工 ^○秋山知英，中村敏浩，酒井　道
• 2大気圧アルゴン/アンモニアプラズマによるヒドラジン生成と微小構造体の還元処理京大院工 ^○平岡　悠，占部継一郎，酒井　道
• 3プリンタブルエレクトロニクスに向けた大気圧ミスト化学気相堆積技術の構築名大¹，東京エレクトロン^{2 ○}孫　昿達¹，竹田圭吾¹，近藤博基¹，田嶋聡美¹，石川健治¹，関根　誠¹，堀　　勝¹，伊藤　仁²
• 4プラズマ支援ミストCVDを用いた酸化亜鉛薄膜の形成と表面形状評価阪大接合研 ^○竹中弘祐，奧村祐介，節原裕一
• 5大気圧非平衡プラズマを用いて低温成長したZnO薄膜の配向制御阪府大¹，積水化学^{2 ○}野瀬幸則¹，吉村　武¹，芦田　淳¹，上原　剛²，藤村紀文¹
•  6〜21　14:45〜19:00（8.4 プラズマエッチング）

13p-E1 - 14〜18

ENGLISH SESSION

•  1〜4　13:30〜14:30（8.4 Plasma Etching）
•  5〜13　14:30〜17:00（8.5 Plasma Nanotechnology）
• 14Deposition of Cu Thin Film on Polyimide Using Atmospheric Pressure Plasma Jet (II)Shizuoka Univ.¹，Yazaki Corp.^{2 ○}Peng Zhao¹，Hisashi Nakahiro¹，Akihisa Ogino¹，Wei Zheng²，Masaaki Nagatsu¹
• 15Diagnostics of Pulsed Filament Discharge at Around Atmospheric Pressure Using Laser Thomson ScatteringInterdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu Univ. ^○（D）Nima Bolouki，Kentaro Tomita，Yukihiko Yamagata，Kiichiro Uchino
• 16Measurement of SiH₃ Radicals in SiH₄/H₂ Plasma for Silicon Thin-Film Solar CellsNagoya Univ. ^○（D）Yusuke Abe，Atsushi Fukushima，Ya Lu，Youn Joon Kim，Keigo Takeda，Hiroki Kondo，Kenji Ishikawa，Makoto Sekine，Masaru Hori
• 17Effect of nitrogen doping on photoconductivity of amorphous carbon films grown by radical-injection plasma-enhanced chemical vapor depositionDept. of Electrical Engineering and Computer Science, Nagoya Univ. ^○（M2）Leyong Yu，Jun Kuki，Hiroki Kondo，Kenji Ishikawa，Makoto Sekine，Masaru Hori
• 18Study on reaction mechanism of plasma-enhanced atomic layer deposition of SiO₂ using in-situ ATR-FTIRNagoya University¹，ASM Japan K.K.^{2 ○}Yi Lu¹，Akiko Kobayashi²，Youn Joon Kim¹，Kenji Ishikawa¹，Hiroki Kondo¹，Makoto Sekine¹，Masaru Hori¹