8. プラズマエレクトロニクス

11p-E2 - 1〜17

• 1AEセンサ内蔵ウエハステージによる異常放電の検出産総研¹，クリエイティブテクノロジー²，崇城大工³，ルネサスセミコンダクタ九州・山口^{4 ○}笠嶋悠司¹，田原竜夫¹，小林由和²，八坂三夫³，山口信介⁴，秋山守人¹，上杉文彦¹
• 2プラズマプロセス下における薄膜半導体材料のダメージとアニーリング産総研太陽光センター ^○布村正太，坂田　功，吉田郵司，近藤道雄
• 3プロセスプラズマ放電中におけるリアルタイム高精度プラズマインピーダンス測定法の開発産総研 生産計測技術研究センター¹，アドバンテスト^{2 ○}本村大成¹，笠嶋悠司¹，上杉文彦¹，栗田裕之²，木村直也²
• 4プラズマCVDおよび壁面クリーニングにおけるカーリングプローブの周波数シフト中部大 ^○Anil Pandey，加藤公孝，池澤俊治郎，中村圭ニ，菅井秀郎
• 5高出力パルスマグネトロンスパッタ蒸発源から放出されたイオン種と中性種の飛行時間質量分析東北大院理¹，東北大理²，アヤボ^{3 ○}塚本恵三^1,3，田村哲郎¹，松崎浩美²，小安喜一郎¹，山本宏晃³，石原太樹³，戸名正英³，美齊津文典¹
• 6プラズマに曝された窒化ガリウム薄膜のフォトルミネッセンスその場観測中部大工 ^○中村圭二，陳　苗根，中野由崇，菅井秀郎
• 7プラズマ計測用真空紫外発光分光計測装置の波長感度較正北大工¹，東芝^{2 ○}相馬俊太郎¹，佐々木浩一¹，栗原一彰²
• 8窒化ガリウム（GaN）向けサファイア基板の周波数領域型低コヒーレンス干渉計による温度計測名大¹，名城大^{2 ○}堤　隆嘉¹，竹田圭吾¹，石川健治¹，近藤博基¹，太田貴之²，伊藤昌文²，関根　誠¹，堀　　勝¹
• 9Ni-Y触媒を用いたカーボンナノチューブ合成アークプラズマ中の微粒子の挙動名城大理工¹，名大院工^{2 ○}安藤　睦¹，竹田圭吾²，太田貴之¹，伊藤昌文¹，平松美根男¹，鈴木智子¹，井上　栄¹，安藤義則¹，堀　　勝²
•  休憩　15:45〜16:00
• 10対向ターゲットスパッタプラズマ内におけるTi原子のa⁵F_J→z⁵D_J遷移スペクトルのJ依存性東京工芸大工 ^○山口智功，渡邉健太，小野裕輔，安田洋司，西宮信夫，鈴木正夫
• 11高エネルギー準安定状態a¹G_J,a³G_J及びa³H_JにおけるTiI原子の密度評価東京工芸大工 ^○渡邉健太，山口智功，小野裕輔，西宮信夫，鈴木正夫
• 12Cu₂ZnSnS₄ターゲットマグネトロンスパッタリングプラズマにおけるZn原子密度測定北大工 ^○菊地瞬也，佐々木浩一
• 13TDLASによるICP支援DCマグネトロン放電の気体温度計測(I)長崎大院工¹，長崎大院生産科学^{2 ○}松田良信¹，平嶋彰典²，橋本卓宏¹，篠原正典¹
• 14飽和吸収分光計測による水素原子バルマーアルファ線の微細スペクトル構造北大院工¹，核融合研^{2 ○}西山修輔¹，後藤基志²，佐々木浩一¹
• 15マイクロ波リモート窒素プラズマのダウンフローにおける準安定状態窒素分子密度測定北大工¹，名大プラズマナノ^{2 ○}堀川佳峰¹，林　俊雄²，佐々木浩一¹
• 16VHF容量結合プラズマのトムソン散乱におけるレーザー擾乱回避九大総理工 ^○陳　韋廷，神家幸一郎，荻原公平，富田健太郎，内野喜一郎，河合良信
• 17協同的トムソン散乱によるレーザー生成EUVプラズマ診断九大総理工 ^○富田健太郎，井上和哉，下田　諒，内野喜一郎

13a-E1 - 11〜19

• 11Arガスを用いた容量結合型RFプラズマ中における金属の電流電圧特性VI広国院大工 ^○久保　隆
• 12新型浮遊プローブ法による酸素プラズマの測定東海大 ^○谷内康行，時枝孝典，内海倫明，進藤春雄
• 13水晶振動子センサーによる窒素‐水素プラズマ中の活性種計測産総研¹，島根産技センター^{2 ○}鈴木　淳¹，朝比奈秀一²
• 14ICP支援DCマグネトロン放電における基板入射熱流束の測定長崎大院工¹，長崎大院生産科学^{2 ○}松田良信¹，嶺　健二²，脇山信太郎¹，篠原正典¹
• 15エチレンプラズマを使ったアモルファス炭素膜堆積反応の赤外分光解析長崎大院工 高木雄也，高見佳生，八木翔平，津村高成，^○篠原正典，松田良信，藤山　寛
• 16多重内部反射赤外吸収分光法を用いた液中プラズマの診断法の開発長崎大院工 深江陽大，天野勝裕，^○篠原正典，松田良信，藤山　寛
• 17光周波数コム干渉分光法の開発とプラズマ診断 (II)東大院新領域¹，京大院工^{2 ○（P）}占部継一郎^1,2，酒井　道²
• 18微細放電マイクロプラズマの時空間分布分析静岡大イノベーション社会連携推進機構 ^○Marius Blajan，清水一男
• 19狭ギャップマイクロ波水素プラズマによるSi高速エッチングから生成したSiH4分子の再分解に関する研究阪大院工¹，JST CREST^{2 ○}山田高寛^1,2，大参宏昌^1,2，垣内弘章^1,2，安武　潔^1,2