7. ビーム応用

12p-C3 - 1〜15

• 1熱インプリントにおけるレジスト中での応力解析(II)大府大工 ^○西倉直紀，塩津隆弘，安田雅昭，川田博昭，平井義彦
• 2二層レジストによるリフトオフ用ナノインプリントプロセスの開発大阪府大院工 ^○野間隼史，川田博昭，安田雅昭，平井義彦
• 3異なる分子鎖長の離型剤を混合して成膜した離型膜の離型特性の評価兵庫県立大¹，JST-CREST^{2 ○（B）}若葉　瞳^1,2，岡田　真^1,2，伊吉就三^1,2，春山雄一^1,2，松井真二^1,2
• 4動的滑落法を用いたUVナノインプリントレジストとF-SAMの相互作用評価兵庫県立大¹，AIST²，JST-CREST³，JSPS^{4 ○}知念美佳^1,3，姜　有志^{1, 3, 4}，岡田　真^{1, 3}，春山雄一^{1, 3}，廣島　洋^{2, 3}，松井真二^{1, 3}
• 5フッ素系添加剤含有UVナノインプリントレジスト離型特性の添加剤濃度依存性兵庫県立大¹，ダイセル²，JST-CREST^{3 ○（B）}大山貴弘^1,3，岡田　真^1,3，伊吉就三^1,3，春山雄一^1,3，湯川隆生²，三宅弘人²，松井真二^1,3
• 6破壊力学に基づく離型メカニズムの考察(II)大阪府立大¹，JST-CREST^{2 ○}西野朋季^1,2，藤川仙大^1,2，川田博昭^1,2，平井義彦^1,2
• 7最表面に自発的に無機化層を形成するナノインプリントフィルムの開発日本曹達 ^○熊澤和久，芝田大幹，木村信夫
• 8UVナノインプリント薄膜における重合効率の膜厚依存性評価兵庫県立大院¹，ダイセル²，東洋合成工業³，産総研⁴，JST-CREST^{5 ○}澤田陽平^1,5，三宅弘人²，大幸武司³，岡田　真^1,5，伊吉就三^1,5，春山雄一^1,5，廣島　洋^4,5，松井真二^1,5
•  休憩　15:30〜15:45
• 9短時間ゲル-ナノインプリント法によるナノパターン形成とその評価奈良先端大¹，JST-CREST^{2 ○}荒木慎司¹，堀田昌宏^1,2，石河泰明^1,2，浦岡行治^1,2
• 10溶融微細転写プロセスによる高アスペクト比ナノパターンの成形‐パターンサイズが転写挙動に及ぼす影響‐日本製鋼所 ^○内藤章弘，越智昭太，古木賢一，伊東　宏，焼本数利
• 11光反応性高分子液晶上に作製した段差構造パターンの配向性兵県大高度研¹，兵県大工²，AIST³，長岡技科大^{4 ○}岡田　真¹，西岡江美²，近藤瑞穂²，江本顕雄³，佐々木友之⁴，春山雄一¹，小野浩司⁴，川月喜弘²，松井真二¹
• 12HSQ転写パターンを用いたPSL粒子の自己整列兵庫県立大¹，JSPS^{2 ○（D）}姜　有志^1,2，高橋　亮¹，福岡隆夫¹，内海裕一¹，岡田　真¹，春山雄一¹，松井真二¹
• 13ポーラスアルミナを用いた光ナノインプリント法によるマイクロ流路パターンの形成とDNA分離デバイスへの応用首都大都市環境¹，神奈川科学技術アカデミー^{2 ○}柳下　崇^1,2，山本　孟¹，益田秀樹^1,2
• 14ナノポーラスシリコンの室温インプリント加工によるテラヘルツ帯ワイヤグリッド偏光子作製神戸大工 ^○鎌田　威，今北健二，藤井　稔，林　真至
• 15In-line型離型処理を適用したシートナノインプリントによるパターン連続転写日立日立研 ^○長谷川満，荻野雅彦，宮内昭浩