7. ビーム応用

12a-C5 - 1〜12

• 1屈折率分布型レンズアレイの投影露光特性東京電機大院工¹，エプソン²，東京電機大^{3 ○}高田直貴¹，関根幸太郎²，堀内敏行³
• 2プロジェクタを利用した液晶マトリックス投影露光技術の研究東京電機大院工¹，東京電機大^{2 ○}小山宗一郎¹，斉藤健二¹，堀内敏行^1,2
• 3レーザ描画による細径管へのパターン形成東京電機大院工¹，西川計測²，東京電機大^{3 ○}坂部展士¹，佐野孝明²，堀内敏行³
• 4小径円筒試料への同期走査投影露光東京電機大院工¹，東京電機大工^{2 ○}藤井勇人¹，安永かほり²，堀内敏行^1,2
• 5FIB-CVDの実時間走査速度制御による空中水平ナノワイヤの長尺形成東大工 ^○（D）郭　登極，米谷玲皇，割澤伸一，石原　直
• 6FIB/EB複合リソグラフィーによるHSQからの３次元ナノ構造作製東大工 ^○米谷玲皇，黒田耕平，割澤伸一，石原　直
•  休憩　10:30〜10:45
• 7Siブロックの真横からのエッチングと3次元ナノ構造作成NTT物性基礎研 ^○山崎謙治，山口浩司
• 8超並列電子線描画装置用アクテイブマトリクスnc-Si面電子源の開発（II）東京農工大¹，東北大²，クレステック^{3 ○}池上尚克¹，吉田　孝²，小島　明³，大井英之³，越田信義¹，江刺正喜²
• 9半導体露光用高出力ＡｒＦエキシマレーザ（１２０Ｗ）の開発ギガフォトン ^○長島孝行，浅山武志，増田浩幸，熊崎貴仁，對馬弘朗，黒須昭彦，柿崎弘司，松永　隆，溝口　計
• 10EUV光学素子用照射耐性評価装置の開発兵庫県立大 ^○江村和也，田中祐輔，原田哲男，渡邊健夫，木下博雄
• 11ポリマーバウンドPAGレジストとポリマーブレンドPAGレジストのレジスト性能評価に関する研究阪大産研¹，JST-CREST^{2 ○}山本洋揮^1,2，Tuan Dang-nguyen^1,2，田川精一^1,2
• 12フォトレジスト溶解過程のその場観察 4EUVL基盤開発センター ^○ジュリウスジョセフ サンティリャン，井谷俊郎