6. 薄膜・表面

12a-PB1 - 1〜21

• 1Si(113)表面上におけるK吸着構造のSTM観察横国大院工 ^○（M1）成重卓真，大野真也，田中正俊
• 2入射電子線の局在プラズモン励起による非弾性散乱理論東大院工 ^○市川昌和
• 3PDP用保護膜の不純ガスによる影響の評価パナソニック¹，阪大²，物質・材料研究機構^{3 ○}森田幸弘^1,2，寺内正治¹，吉野恭平¹，辻田卓司^1,2，中山貴仁¹，岩本章伸¹，山内康弘¹，山内　泰³，西谷幹彦^1,2
• 4PDPの低電圧化に向けた保護膜材料の解析パナソニック¹，阪大^{2 ○}辻田卓司^1,2，寺内正治¹，中山貴仁¹，岩本章伸¹，森田幸弘^1,2，西谷幹彦^1,2，北川雅俊²
• 5HOPG上に形成したLi 薄膜の電子構造広大放射光¹，マツダ 技研^{2 ○}Galif kutluk¹，仲武昌史¹，有田将司¹，住田弘祐²，生天目博文¹，谷口雅樹¹
• 6ナノクラスター形成によるSi(110)表面再構成構造の変化原研先端基礎¹，原研量子ビーム^{2 ○（P）}横山有太¹，山崎竜也²，朝岡秀人^1,2
• 7基板のヤケが光学薄膜の特性に与える影響2東海大院工¹，シンクロン^{2 ○}中山　俊¹，室谷裕志¹，高橋智明¹，奥田　良¹，松本繁治²，本田博光²
• 8Fe表面腐食の第一原理計算による研究富山大情セ¹，富山大理工^{2 ○}布村紀男¹，砂田　聡²
• 9SrTiO₃上Niクラスターのエピタキシーと特性評価物材機構 ^○田中美代子
• 10Si/Ag(111)の表面形態のSTM観察芝浦工大 ^○稲瀬陽介，柴田和宏，弓野健太郎
• 11基板の表面粗さがTiO₂光学薄膜に与える光散乱への影響4東海大¹，シンクロン^{2 ○}原田敏憲¹，奥田　良¹，室谷裕志¹，松本繁治²，本多博光²
• 12Ｘ線反射率法による多層膜表面解析の改良神戸大研基セ ^○藤居義和
• 13Ｘ線反射率測定による電気化学成長の時分割観察KEK-PF¹，東京学芸大²，近畿大^{3 ○}Wolfgang Voegeli¹，松下　正¹，荒川悦雄²，矢野陽子³
• 14Si(100)表面での水素吸着/脱離に関する研究：残された課題とは山形大工¹，九州工大工^{2 ○}成田　克¹，稲永征司²，並木　章²
• 15UVオゾンによるSiおよび極薄Si酸化膜上の酸化膜成長産総研計測標準 ^○東　康史，黒河　明，藤本俊幸
• 16Ni(111)面上に形成した単層及び2層グラフェンのLEEDによる構造解析九大院総理工 ^○佐々木均，水野清義
• 17可視光透過性超撥水膜の耐久性向上慶大院理工 ^○上村　渉，白鳥世明
• 18光電子分光法による希薄磁性半導体GaGdAsの電子状態評価香川大工¹，香川大教育^{2 ○}舩城　央¹，佐伯有三²，南　武志²，宇田雄気¹，松本翔太郎¹，宮川勇人¹，高橋尚志²，小柴　俊¹
• 19気体飽和水溶液と接したシリコン基板界面における気体層の形成埼玉大¹，Univ. of Twente^{2 ○}篠崎良平¹，中林誠一郎¹，吉川洋史¹，James Seddon²，Detlef Lohse²
• 20Ne固体表面上に凝縮した水とメタンの光化学反応学習院大 ^○武隈真一，山川紘一郎，三浦　崇，荒川一郎
• 21低温銅表面に物理吸着した水素の吸着等温線学習院大 ^○清水英行，伊野瀬奈々，三浦　崇，荒川一郎

12p-C12 - 1〜18

• 1金属偏析予測システムSurfSeg物質・材料研究機構 ^○吉武道子
• 2第一原理計算によるCu(111)表面-塩基分子の分子指紋の解析阪大・産研 ^○田中裕行，川合知二
• 3プラズマ処理による金属酸化物前駆体を用いたテクスチャ構造の形成リンテック ^○永縄智史，近藤　健
• 4Ge(100)-2×1表面に対する酸素分子の初期吸着確率の並進運動エネルギーによる変化原子力機構¹，筑波大院数物²，兵県大院物質理学^{3 ○}吉越章隆¹，岡田隆太^1,2，寺岡有殿^1,3，神農宗徹^1,3，山田洋一²，佐々木正洋²
• 5Ge(111)-c(2×8)表面の飽和酸化膜におけるGe³⁺成分の並進運動エネルギーによる変化原子力機構¹，筑波大院数物²，兵県大院物質理学^{3 ○（D）}岡田隆太^1,2，吉越章隆¹，寺岡有殿^1,3，神農宗徹^1,3，山田洋一²，佐々木正洋²
• 6Ti吸着によるSi(001)表面酸化促進反応の解析横浜国大¹，佐賀大シンクロトロン^{2 ○}大野真也¹，安部壮祐¹，高橋和敏²，鎌田雅夫²，田中正俊¹
•  休憩　15:00〜15:15
• 7ルチルTiO₂(110)上に担持したAuナノ粒子の触媒活性化機構I立命館大理工¹，九州大工^{2 ○}光原　圭¹，田上正崇¹，松田太志¹，Visikovskiy Anton²，城戸義明¹
• 8ルチルTiO₂(110)上に担持したAuナノ粒子の触媒活性化機構II立命館大理工¹，九州大工^{2 ○}光原　圭¹，田上正崇¹，松田太志¹，Visikovskiy Anton²，城戸義明¹
• 9湿度制御雰囲気下でのGeO₂/Ge構造のXPS観測：吸着水がGe3dスペクトルに与える影響阪大院工¹，バークレー国立研^{2 ○}有馬健太¹，村　敦史¹，秀島伊織¹，細井卓治¹，渡部平司¹，Zhi Liu²
• 10Si高指数面熱酸化過程における温度依存性の解析 II横国大工¹，原子力機構²，産総研^{3 ○}安部壮祐¹，大野真也¹，兼村瑠威¹，吉越章隆²，寺岡有殿²，尾形祥一¹，安田哲二³，田中正俊¹
• 11STM/STSによるLi_xCoO₂単結晶表面観察東北大WPI-AIMR¹，理研²，東北大融合研³，島根大^{4 ○}岩谷克也¹，湊　丈俊^2,3，三好清貴⁴，竹内　淳⁴，金　有洙²，一杉太郎¹
• 12BRAESプロファイルの入射電子エネルギー依存性大同大工¹，東北大多元研^{2 ○}堀尾吉已¹，高桑雄二²，小川修一²
• 13仕事関数のEUPSによる評価への分析室内の汚染の影響産総研 計測フロンティア ^○富江敏尚，石塚知明
• 14MnAs初期成長のGaAs(001)基板表面再構成依存性東工大院理工 ^○平岡聖啓，加来　滋，吉野淳二
•  休憩　17:15〜17:30
• 15反応条件下におけるAu/TiO₂触媒の表面・界面構造阪大産研¹，阪大院理²，産総研ユビキタス³，首都大東京^{4 ○（D）}桑内康文^1,2，吉田秀人¹，秋田知樹³，春田正毅⁴，竹田精治¹
• 16低温CO酸化触媒Au/TiO₂界面に成長するTi_1-xO₂ピラー東工大院理工¹，東工大院総理工²，CREST, JST^{3 ○}田中崇之^1,3，佐野健太郎¹，炭屋亜美²，安藤雅文¹，高柳邦夫^1,3
• 17Pd30Au70(111)表面の電子状態と水素との反応性東大生研 ^○ディー ウェン，小倉正平，深田啓介，福谷克之
• 18Si基板上エピタキシャルb-FeSi₂ナノドットの積層技術開発阪大院基礎工¹，PRESTO-JST^{2 ○}五十川雅之¹，中村芳明^1,2，吉川　純¹，竹内正太郎¹，酒井　朗¹