6. 薄膜・表面

11a-PA2 - 1〜8

• 1Microcavity with Iron-garnet/PLZT defect layer for multiferroic optical modulationToyohashi Univ. of Tech. ^○Ryosuke Hashimoto，Taichi Goto，Ryosuke Isogai，Hiroyuki Takagi，Alexander Baryshev，Yuichi Nakamura，Mitsuteru Inoue
• 2水酸化処理したMg-C薄膜の誘電特性の周波数依存性東海大開発工¹，東海大産業工^{2 ○}千葉雅史¹，斎藤雄次¹，後藤祐斗¹，清田英夫²
• 3プラスチック基板上ITO薄膜の機械的特性に及ぼすアニール処理の効果日東電工 ^○待永広宣，上田恵梨，水池敦子，武田雄希，下北啓輔，宮崎　司
• 4In-Sn合金薄膜の水蒸気処理によるITOの合成東海大工 ^○武田純輝，本城貴充，久慈俊郎
• 5DCマグネトロンスパッタリングによるMg系透明導電膜の合成と特性評価東海大工 ^○加藤誉高，高橋拓也，本城貴充，久慈俊郎
• 6調光ミラー特性を有するMg系薄膜への添加材料の検討新潟大 ^○（M1）跡部雅富，津野大輔，清水英彦，岩野春男，川上貴浩
• 7Zrを添加した水酸化Co薄膜の作製とそのエレクトロクロミック特性の評価北見工大 ^○鯉野翔伍，李　慶武，阿部良夫，川村みどり，金　敬鎬
• 8二層凝集現象を用いた自己組織化Ag 薄膜の微細構造制御東大生研¹，芝浦工大²，筑波大³，産総研⁴，光云大^{5 ○}神子公男¹，末永　亮²，野瀬健二¹，具　正祐^3,4，弓野健太郎²，光田好孝¹，河　在根⁵

12a-C9 - 1〜9

ENGLISH SESSION

• 1「Invited lecture of overseas researcher」（30 min.）
  Continuously graded anisotropy in single [Fe₅₃Pt₄₇]_100-xCu_x filmsCampus UAB¹，Univ. of Gothenburg²，Royal Institute of Technology (KTH)³，National Institute of Standards and Technology^{4 ○}Josep Nogues¹，R. Dumas²，Y. Fang³，B. Kirby⁴，C. Zha³，V. Bonanni³，S. Bonetti³，J. Åkerman^2,3
• 2Study the thickness dependence of the perpendicular magnetic anisotropy with the annealing temperatureTohoku Univ. ^○Mohammed N I Khan，Hiroshi Naganuma，Nobuhito Inami，Mikihiko Oogane，Yasuo Ando
• 3Improvement of photoacoustic emission from Au nanoparticlesKyoto Univ.¹，JSPS Research Fellow^{2 ○}Kyoko Namura^1,2，Motofumi Suzuki¹，Kaoru Nakajima¹，Kenji Kimura¹
• 4Morphology of Pt nano-particles coated on a carbon substrate prepared by APD method and its application for electrochemistryKITC¹，ULVAC-RIKO²，Keio Univ.^{3 ○}Takeshi Ito¹，Masayuki Kunimatsu¹，Satoru Kaneko¹，Yasuo Hirabayashi¹，Masayasu Soga¹，Yoshiaki Agawa²，Koji Suzuki³
•  Break　10:15〜10:30
• 5「Invited lecture of overseas researcher」（30 min.）
  Quantifying Spin Hall Effects in Metals Argonne National Lab.¹，Hitachi Global Storage Tech.²，Delft Univ. of Tech.³，Tohoku Univ.^{4 ○}Axel Hoffmann¹，Oleksandr Mosendz^1,2，Goran Mihajlović^1,2，Vlaminck Vincent¹，Helmut Schulthei ¹，Pearson John E¹，Frank Y Fradin¹，Samuel D Bader¹，Gerrit E. W Bauer^3,4
• 6Selected Deposition of High-Quality Aluminum Film by Liquid ProcessJapan Adv. Inst. Sci. & Tech.¹，JST-ERATO Shimoda Nano Liquid Process Project²，JSR^{3 ○}Zhongrong Shen^1,2，Yasuo Matsuki^2,3，Tatsuya Shimoda^1,2
• 7Rapid Synthesis of Highly Ordered Mesoporous Silica with Dense Hydroxyl Group Using Solution Plasma Processing for Thin Layer Carbon CoatingNagoya Univ. ^○Panuphong Pootawang，Nagahiro Saito
• 8Persistent Oxygen Plasma Effect on PET Film Lamination, and Influence of Water on Bonding StrengthMie Univ.¹，Adwel R&D Co.,Ltd²，Stech³，S.V.D College, India⁴，Tokyo Univ.⁵，Kanazawa Inst. Tech.^{6 ○}Miyoshi Yokura^1,2，Kenichi Uehara^1,2，Kazuya Hanada¹，Masatsugu Nagashima³，Reddy Lakshmi⁴，Yoshinobu Nakamura⁵，Yuichi Nakamura¹，Kazuhiro Endo⁶，Tamio Endo¹
• 9Fabrication and Electrical Characterization of Metal/MoS₂/Metal) Structures under SEM ObservationAIST¹，CIT^{2 ○}Atsushi Ando¹，Tetsuo Shimizu¹，Hiroshi Suga^2,1，Yukinori Morita¹
•  Lunch　12:00〜13:15

12p-C9 - 1〜17

ENGLISH SESSION

• 1「Invited lecture in Thin Films and Surfaces Session」（15 min.）
  Effectiveness of a closed CVD method for preparation of CrO₂ thin filmsOkayama Univ.¹，KEK²，Univ. of Tokyo^{3 ○}Yuji Muraoka¹，Syo Yoshida¹，Takanori Wakita¹，Takayoshi Yokoya¹，Hiroshi Kumigashira²，Masaharu Oshima³
• 2Flexible Atomic Switches using a Thin Polymer Electrolyte FilmNational Institute for Materials Science (NIMS) ^○（PC）Saumyaranjan Mohapatra，Tohru Tsuruoka，Tsuyoshi Hasegawa，Kazuya Terabe，Masakazu Aono
• 3Fabrication of epitaxially grown thin films of perovskite type titanate on flexible polymer materialsFac. Bio.- Sci. Technol., Kinki Univ.¹，Grad. Sch. Eng., Mie Univ.²，ISIR-Sanken, Osaka Univ.^{3 ○}Hiroaki Nishikawa¹，Yuusuke Morita¹，Tamio Endo²，Hidekazu Tanaka³，Masanobu Kusunoki¹，Shigeki Hontsu¹
• 4Low Temperature Growth and Patterning of Metal Oxide Thin Film by Photo-induced Chemical Solution DepositionAIST ^○Tetsuo Tsuchiya，Kentaro Shinoda，Tomohoko Nakajima
• 5Low Temperature Growth of CaTiO₃:Pr Thin Film on PET Substrate by Photo-Induced Chemical Solution DepositionAIST ^○Tetsuo Tsuchiya，Kentaro Shinoda，Tomohiko Nakajima
• 6In Situ Measurement of Fabrication of La-Ba-Mn-O Films by ELAMOD ProcessAIST ^○Kentaro Shinoda，Tomohiko Nakajima，Tetsuo Tsuchiya
• 7Structural Function on Nanostructure Self-Organized on Amorphous Si Layer by High Speed Scanning of CW LasersKanagawa Ind. Tech. Center¹，Phoeton²，Osaka Kyoiku Univ.³，Osaka Inst. of Tech.⁴，Tokyo Inst. of Tech.^{5 ○}Satoru Kaneko^1,4,5，Takeshi Ito¹，Manabu Yasui¹，Takeshi Ozawa¹，Yasuo Hirabayashi¹，Satomi Tanaka¹，Chihiro Kato¹，Akira Matsuno²，Takashi Nire²，Hiroyasu Nakata³，Tokuo Yodo⁴，Akifumi Matsuda⁵，Mamoru Yoshimoto⁵
• 8Electrodeposition of Ga-O Thin Films from Aqueous Gallium Sulfate SolutionsNagoya Inst. of Tech. ^○JunieJhon Vequizo，Masaya Ichimura
• 9Well-ordered Zinc Oxide Nanostructures Fabrication by Reducing AnnealingKochi Univ. Tech. Nano Inst.¹，Kochi Tech. Univ. , School of Environment Science and Engineering^{2 ○}Chaoyang Li¹，Dapeng Wang¹，Xin Li¹，Toshiyuki Kawaharamura¹，Mamoru Furuta²，Akimitsu Hatta¹
•  Break　15:30〜15:45
• 10Optical properties of Nd³⁺:LuF₃ thin film grown by pulsed laser depositionNagoya Inst. of Tech.¹，Osaka Univ.²，Tohoku Univ.^{3 ○}Takayuki Tsuji¹，Mirai Ieda¹，Tatsuya Ishimaru¹，Shingo Ono¹，Kohei Yamanoi²，Cadatal-Raduban Marilou²，Toshihiko Shimizu²，Nobuhiko Sarukura²，Yuui Yokota³，Takayuki Yanagida³，Akira Yoshikawa³
• 11ゾルゲル法で作製した金属ナノ粒子分散MgF₂薄膜の光学特性解析東海大工 ^○荒井日向，横山英佐，若木守明
• 12貴金属ナノ粒子を含んだZnO薄膜の作製と光学特性の解析東海大工 ^○石黒　拡，横山英佐，若木守明
• 13二層凝集現象を用いた自己組織化Agナノロッドの作製東大生研¹，芝浦工大²，筑波大³，産総研⁴，光云大^{5 ○}神子公男¹，末永　亮²，野瀬健二¹，具　正祐^3,4，弓野健太郎²，光田好孝¹，河　在根⁵
• 14Lattice Matching Calculations of ZnO Single Layer and LSMO/ZnO Double Layer (Polar Consideration)三重大工¹，アドウェル²，マドラス大³，東京工科大⁴，タテホ化学⁵，豊島製作所^{6 ○}岡本晃暢¹，岡田　聡¹，與倉三好^1,2，Rita John³，毛塚博史⁴，庭野一久⁵，本林秀文⁶，遠藤民生¹
• 15PLD法によるSiCホモエピタキシャル成長におけるSi-Ni系フラックス薄膜の効果東工大応セラ研 ^○小沼碧海，丸山伸伍，松本祐司
• 16デュアルビームPLD法を用いたSrTiO₃-Ba_0.6Sr_0.4TiO₃面直方向組成傾斜薄膜の作成トゥール大¹，CNRS^{2 ○}坂井　穣¹，Cecile Autret¹，Blandine Courtois²，Thierry Sauvage²，Jerome Wolfman¹，Francois Gervais¹
• 17反応性DCスパッタリング法による(0001)Sapphire基板上(111)TiN膜のエピタキシャル成長北見工大 ^○李　継鵬，雅楽代一臣，柳沢英人，佐々木克孝，阿部良夫

14a-C9 - 1〜11

• 1プラズマ照射・非照射PET表面の水の吸着・脱離と表面活性三重大¹，アドウェル²，エステック³，近畿大⁴，Texas Christian Univ.⁵，Nat.Inst.Chemistry (Slovenia)^{6 ○}花田和哉¹，與倉三好^1,2，永島正嗣³，松井正仁¹，西川博明⁴，Yuri Strzhemechny⁵，Zorica Orel⁶，遠藤民生¹
• 2ポリピロールフィルムの電解重合における電極表面粗さの影響産技大 ^○矢口雄大，高野加緒香，雲土雅史，加瀬雅人，菅野　文，管野善則
• 3二種類の金属EDTA錯体を原料とした金属酸化物膜の作製長岡技科大¹，中部キレスト^{2 ○}関矢徹雄¹，外山　歩¹，中村　淳^1,2，大塩茂夫¹，戸田育民¹，齋藤秀俊¹
• 4フレーム溶射装置を用いた酸化物厚膜の作製１長岡技科大¹，中部キレスト^{2 ○}外山　歩¹，中村　淳^1,2，大塩茂夫¹，戸田育民¹，齋藤秀俊¹
• 5フレーム溶射装置を用いた酸化物厚膜の作製２長岡技科大¹，中部キレスト^{2 ○}外山　歩¹，中村　淳^1,2，大塩茂夫¹，戸田育民¹，齋藤秀俊¹
• 6新規ルチル型TaO₂薄膜の作製と物性評価岡山大院自然 ^○藤本佑樹，村岡祐治，脇田高徳，横谷尚睦
•  休憩　10:30〜10:45
• 7塗布光照射法による酸化バナジウム薄膜への異種金属ドーピング効果産総研¹，長岡技大^{2 ○}石崎晴朗¹，西川雅美²，中島智彦¹，篠田健太郎¹，土屋哲男¹
• 8マイクロ波加熱を用いたIZO透明導電膜の作製と評価静岡大工 武藤　栄，川畑陽輔，^○奥谷昌之
• 9基板温度を変えて作製したWO₃薄膜の水溶液電解質中におけるエレクトロクロミック特性北見工大 ^○東藤亮佑，細川　亮，阿部良夫，川村みどり，金　敬鎬
• 10スパッタ法により形成したAl添加CeO₂薄膜の結晶性評価法政大工¹，コメット^{2 ○}蒲田大生¹，岡崎拓也¹，野谷祐貴¹，原　健太¹，鈴木　摂²，石橋啓次²，山本康博¹
• 11RFマグネトロンスパッタリング法により形成したAl添加CeO₂薄膜の電気特性評価法政大工¹，コメット^{2 ○}岡崎拓也¹，蒲田大生¹，野谷裕貴¹，原　健太¹，鈴木　摂²，石橋啓次²，山本康博¹
•  昼食　12:00〜13:00

14p-C9 - 1〜8

• 1沿面放電による常温大気圧下での酸化スズ薄膜の作製静岡大工 ^○丹　祐人，花井利通，伊豫田正彦，奥谷昌之
• 2In-situイオンビームスパッタによる各種基板上における立方晶系La(Ba)MnO3/六方晶系ZnOのヘテロ構造の作製と接合特性三重大¹，アドウェル研究所²，日大³，Raman Res. Inst.(インド)⁴，U. California(USA)⁵，U. Central Florida⁶，産総研^{7 ○（M1）}岡田　聡¹，三好與倉²，岩田展幸³，Reji Philip⁴，Kai Liu⁵，Jayan Thomas⁶，土屋哲男⁷，遠藤民生¹
• 3Co₃O₄エピタキシャル薄膜の輸送特性中部大工 ^○出原聡一，伊藤弘志，二宮善彦，佐藤　厚，多賀康訓，山田直臣
• 4Bi^2-二次元正方格子を含むY₂O₂Bi薄膜のエピタキシャル成長東大院理¹，JST-CREST^{2 ○}清　良輔¹，福村知昭^1,2，長谷川哲也^1,2
• 5CuO/ZnOエピタキシャル積層膜の作製中部大 ^○世古良太，三輪純也，二宮善彦，佐藤　厚，山田直臣
• 6Epitaxial Growth of Li_3xLa_2/3-xTiO₃ Thin Films on Perovskite Substrates by Pulsed Laser Deposition東大院理¹，JST-CREST²，KAST^{3 ○}Jie Wei¹，福村知昭^1,2，長谷川哲也^1,2,3
• 7BeO thin film growth on Sapphire東大物性研 ^○Thomas Peltier，Ryota Takahashi，Mikk Lippmaa
• 8アモルファスIZO薄膜の光学的バンドギャップの解析青学大 ^○賈　軍軍，高崎愛子，岡　伸人，重里有三