3.光

3.2 材料光学

9月13日 会場:PA7
ポスターセッション
ポスター掲示時間16:00〜18:00

13p-PA7 - 1〜2

  • 1ポリスチレン微粒子による非線形共焦点干渉顕微鏡のCTF測定静大工 大野雄平,和田口由樹,江上 力
  • 2ジアリールエテンPMMA膜を利用したマイクロホログラムの三次元記録静大工 志賀祐太,江上 力

3.2 材料光学

9月14日 9:00〜12:00  会場:F3

14a-F3 - 1〜11

  • 1音響光学結晶により波形制御した超短パルスレーザーと石英ガラスとの相互作用京大院工 浅井大我,下間靖彦,三浦清貴
  • 2酸化物におけるナノ凹凸ストライプ構造の自己組織化形成と光回折特性東工大物創1,阪大院工2,豊島製作所3,並木精密宝石4,神奈川産技セ5 山内涼輔1,渋谷拓人2,石橋幸成2,譚ゴオン1,塩尻大士1,土嶺信男3,小山浩司4,金子 智1,5,松田晃史1,齋藤 彰2,吉本 護1
  • 3液晶ディスプレイ用偏光バックライト慶應大理工1,KPRI2 佐久間剛一1,倉島高広1,多加谷明広1,2,小池康博1,2
  • 4集光型バックライトと散乱フィルムを用いた新規液晶ディスプレイ慶應大理工1,KPRI2 宗村直人1,多加谷明広1,2,小池康博1,2
  • 5フォトクロミズムによる高分子微粒子集積体の光学特性制御東北大多元研 田川典生,小野寺恒信,笠井 均,三ツ石方也,宮下徳治,及川英俊
  •  休憩 10:15〜10:30
  • 6ねじれネマティック配向を有する液晶偏光回折格子の光学設計秋田県立大 本間道則,能勢敏明
  • 7光リソグラフィによるレジスト3次元加工技術の開発(3)日立製作所MD事1,日立ハイテク2 角田和之1,杉 大作1,松井 繁2,江畠佳定2,渡邉哲也2,長谷川昇雄2
  • 8コロナ帯電処理を用いたガラスへのホログラム記録とそのメカニズム北見工大1,北海道大2 ○(PC)酒井大輔1,原田建治1,池田 弘2,西井準治2
  • 9エレクトロスプレー法による液晶ナノ粒子生成と配列制御法の検討新潟大 沓澤崇之,大平泰生,新保一成,馬場 暁,加藤景三,金子双男
  • 10半導体CdSe量子ドット-ポリマーコンポジット中の縮退多光波混合電通大1,日産化学2,奈良先端大3 ○(M2)安達佑亮1,劉 祥明1,富田康生1,大島寿郎2,中嶋琢也3,河合 壯3
  • 11近赤外応力発光体SrAl2O4 : Eu, Erの光学特性とエネルギー伝搬機構九大1,産総研2,JST-CREST3 ○(D)寺澤佑仁1,徐 超男1,2,3,山田宏志1,2