会場別 Index

会場名 3月24日(木) 3月25日(金) 3月26日(土)  3月27日(日)
午前 午後 午前 午後 午前 午後 午前 午後
KA
B1F-B101
K1号館
5.2 光記録/ストレージ
5.3 光制御
5.3 光制御 ナノエレクトロニクス研究の国際連携 4.2 フォトニックナノ構造・現象 4.2 フォトニックナノ構造・現象 4.2 フォトニックナノ構造・現象 4.2 フォトニックナノ構造・現象 4.2 フォトニックナノ構造・現象
KB
B1F-B102
K1号館
5.3 光制御 5.3 光制御 5.4 光ファイバー 最新の大容量光ファイバ伝送技術と関連基盤技術-100テラビット伝送は可能か?- 5.3 光制御 5.3 光制御 5.3 光制御 5.3 光制御
KC
2F-201
K1号館
半導体プロセス・デバイス・回路のモデリングとシミュレーション 半導体プロセス・デバイス・回路のモデリングとシミュレーション 13.6 Siデバイス/集積化技術 超低電力デバイス技術と回路・アプリケーション連携 13.6 Siデバイス/集積化技術 13.6 Siデバイス/集積化技術 13.6 Siデバイス/集積化技術 13.6 Siデバイス/集積化技術
KD
2F-202
K1号館
スクール「励起ナノプロセス入門-基礎と将来展望-」 界面ナノ電子化学研究会企画「固液界面現象の最前線 -青木秀充先生追悼シンポジウム-」 非鉛系圧電材料の開発・応用の現状 13.6 Siデバイス/集積化技術 13.6 Siデバイス/集積化技術    
KE
3F-303
K1号館
7.4 ナノインプリント 7.4 ナノインプリント 9.4 熱電変換 9.4 熱電変換 4.1 量子光学・原子光学 17.3 新機能探索・基礎物性評価 17.3 新機能探索・基礎物性評価 17.3 新機能探索・基礎物性評価
KF
3F-305
K1号館
4.5 テラヘルツ全般・非線型光学 4.6 レーザー分光応用・計測 4.5 テラヘルツ全般・非線型光学 4.5 テラヘルツ全般・非線型光学 15.1 バルク結晶成長 15.1 バルク結晶成長 15.5 IV族結晶,IV-IV族混晶 15.5 IV族結晶,IV-IV族混晶
KG
3F-30
K1号館
  4.4 超高速・高強度レーザー 4.4 超高速・高強度レーザー 4.4 超高速・高強度レーザー 4.3 レーザー装置・材料 4.3 レーザー装置・材料 4.3 レーザー装置・材料 4.3 レーザー装置・材料
KH
6F-602
K1号館
12.4 光機能材料・デバイス 12.4 光機能材料・デバイス 4.7 レーザー・プロセッシング 4.7 レーザー・プロセッシング 4.7 レーザー・プロセッシング 4.7 レーザー・プロセッシング    
KJ
6F-604
K1号館
  8.1 プラズマ生成・制御 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長(ショート口頭講演) 11.4 アナログ応用および関連技術 11.3 臨界電流,超伝導パワー応用 11.3 臨界電流,超伝導パワー応用 12.6 高分子・ソフトマテリアル  
KL
12F-メディアホール
K1号館
第48回スクール「100年の歴史に学ぶ超伝導」 3.5 情報光学 キャリアデザインと学会活動 出会える人・テーマ・チャンス 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」(ショート口頭講演) 不純物機能活性型半導体の物性制御とデバイス応用:21世紀型シリコンテクノロジー:低炭素化の促進に向けて    
KM
3F-1301
K2号館
13.1 基礎物性・評価 13.1 基礎物性・評価 10.1 新物質創成(酸化物・ホイスラー・金属磁性体等)(ショート口頭講演) 重力応用研究グループ企画「重力場応用研究」 10.1 新物質創成(酸化物・ホイスラー・金属磁性体等)(ショート口頭講演) 10.4 半導体・有機・光・量子スピントロニクス 10.4 半導体・有機・光・量子スピントロニクス  
KN
3F-1302
K2号館
  18.7 磁場応用 18.1 応用物理一般 18.1 応用物理一般 18.5 エネルギー変換・貯蔵
18.6 資源・環境
18.4 トライボロジー
18.3 新技術
   
KQ
3F-1307
K2号館
10.2 スピントルク・スピン流・回路・測定技術 スピントロニクス不揮発メモリ・不揮発ロジックの現状と展望 10.2 スピントルク・スピン流・回路・測定技術 10.2 スピントルク・スピン流・回路・測定技術 17.4 デバイス応用 17.4 デバイス応用 17.4 デバイス応用 17.4 デバイス応用
KR
3F-1308
K2号館
9.2 微粒子・粉体
9.3 ナノエレクトロニクス
9.3 ナノエレクトロニクス 2.2 精密計測・ナノ計測 2.3 計測標準 10.3 GMR・TMR・磁気記録技術 10.3 GMR・TMR・磁気記録技術    
KS
4F-1401
K2号館
14.3 プロセス技術・界面制御 14.3 プロセス技術・界面制御 3.1 物理光学・光学基礎 3.2 材料光学 13.4 配線技術 13.7 シミュレーション    
KT
4F-1402
K2号館
9.1 誘電材料・誘電体 3.4 計測光学 3.4 計測光学 3.4 計測光学 9.3 ナノエレクトロニクス 3.8 光学新領域    
KU
4F-1403
K2号館
2.1 計測・制御技術(ショート口頭講演) ついに始まった重力波観測用巨大干渉計の建設 3.3 機器・デバイス光学(ショート口頭講演) 衝撃応用研究グループ企画「衝撃の科学とその利用」 14.1 探索的材料物性 14.1 探索的材料物性 14.1 探索的材料物性  
KV
4F-1406
K2号館
17.2 構造制御・プロセス 17.2 構造制御・プロセス 14.2 超薄膜・量子ナノ構造 14.2 超薄膜・量子ナノ構造 14.2 超薄膜・量子ナノ構造 14.2 超薄膜・量子ナノ構造    
KW
4F-1407
K2号館
14.6 化合物太陽電池 シリコンテクノロジー分科会受賞記念講演 13.3 絶縁膜技術 13.3 絶縁膜技術 13.3 絶縁膜技術 13.3 絶縁膜技術 13.3 絶縁膜技術  
KX
4F-1409
K2号館
7.1 X線技術(ショート口頭講演) 二次イオン質量分析法の新展開-はやぶさからバイオテクノロジーまで- 7.6 イオンビーム一般 7.6 イオンビーム一般 7.5 ビーム・光励起表面反応
7.8 ビーム応用一般・新技術
7.7 微小電子源    
会場名 3月24日(木) 3月25日(金) 3月26日(土)  3月27日(日)
午前 午後 午前 午後 午前 午後 午前 午後
CA
4F-閲覧室
C1号館
講演奨励賞贈呈式 評議員会
業績賞・研究分野業績賞授賞式
X線・放射光による埋もれた界面の構造計測 X線・放射光による埋もれた界面の構造計測 11.1 基礎物性 11.1 基礎物性    
CB
2F-5224
C5号館
9.4 熱電変換 見直され始めたシリサイド系熱電材料〜実用化への課題と解決策を探る〜 12.7 生物・医用工学・バイオチップ 12.7 生物・医用工学・バイオチップ 12.7 生物・医用工学・バイオチップ 12.7 生物・医用工学・バイオチップ 12.7 生物・医用工学・バイオチップ 12.7 生物・医用工学・バイオチップ
CD
3F-5310
C5号館
12.1 作製技術 12.1 作製技術 12.1 作製技術 12.1 作製技術 12.1 作製技術 12.2 評価・基礎物性 12.2 評価・基礎物性 12.2 評価・基礎物性
CE
3F-5324
C5号館
15.7 エピタキシーの基礎 ソーラーシリコンの生産技術革新とサハラスーパーエネルギー戦略 13.4 配線技術 13.4 配線技術分科内総合講演「高集積微細デバイスにおける今後の信号伝達 / 配線技術」 11.4 アナログ応用および関連技術 超伝導検出器で実現する次世代先端分析技術 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用
CF
1F-106
C6号館
  KPS-JSAP Joint Symposium "Solar Cell Activities in Japan and Korea" organized by Solid State Physics and Applications Division 12.5 液晶 12.5 液晶 8.6 プラズマ現象・新応用・融合分野 8.6 プラズマ現象・新応用・融合分野 8.5 プラズマナノテクノロジー  
EA
1F-102
E3号館
1.2 放射線発生装置・理工学応用 1.3 放射線応用・新技術 1.3 放射線応用・新技術 放射線分科会企画「二次元放射線検出器の最前線」 1.1 放射線物理一般・検出器基礎 1.1 放射線物理一般・検出器基礎 1.1 放射線物理一般・検出器基礎 1.1 放射線物理一般・検出器基礎
EB
3F-303
E3号館
8.6 プラズマ現象・新応用・融合分野 8.6 プラズマ現象・新応用・融合分野 8.6 プラズマ現象・新応用・融合分野 応用物理教育分科会企画「物理のおもしろさを生徒や学生にいかに伝えるか?  中学、高校、大学における"環境・エネルギー"の授業を中心にして 」 8.4 プラズマエッチング 8.4 プラズマエッチング    
BA
1F-2101
B5号館
7.2 電子顕微鏡,評価,測定,分析 13.2 半導体表面 6.4 薄膜新材料 6.4 薄膜新材料 6.4 薄膜新材料 6.4 薄膜新材料 16.2 プロセス技術・デバイス 16.2 プロセス技術・デバイス
BC
1F-2102
B5号館
6.5 表面物理・真空 6.5 表面物理・真空 6.5 表面物理・真空 6.5 表面物理・真空 6.2 カーボン系薄膜 6.2 カーボン系薄膜 6.2 カーボン系薄膜 6.2 カーボン系薄膜
BD
1F-2103
B5号館
12.11 特定テーマ「有機太陽電池」 12.11 特定テーマ「有機太陽電池」 12.11 特定テーマ「有機太陽電池」 12.11 特定テーマ「有機太陽電池」 12.11 特定テーマ「有機太陽電池」 12.8 有機EL 12.8 有機EL 12.8 有機EL
BE
1F-2104
B5号館
6.1 強誘電体薄膜(ショート口頭講演) 薄膜・表面物理分科会企画「産業利用に向けた放射光を使った最先端測定技術」 8.1 プラズマ生成・制御 光学論文賞受賞記念講演 6.1 強誘電体薄膜(ショート口頭講演) ナノ光電子系と情報の融合が拓くシステムの質的変革    
BF
1F-2105
B5号館
6.3 酸化物エレクトロニクス 機能性酸化物研究グループ企画「酸化物ヘテロ構造を用いた強相関電子制御の最前線」 5.3 光制御 非線形光学50周年に分極反転はどこまできたか? 6.3 酸化物エレクトロニクス 6.3 酸化物エレクトロニクス 6.3 酸化物エレクトロニクス 6.3 酸化物エレクトロニクス
BG
1F-2106
B5号館
3.7 近接場光学 アクティブ・プラズモニクス 12.12 特定テーマ「次元制御有機ナノ材料」 確率的過程に基づく電子材料・デバイス・システムの新展開 8.3 プラズマ成膜・表面処理 8.3 プラズマ成膜・表面処理 8.3 プラズマ成膜・表面処理 8.3 プラズマ成膜・表面処理
会場名 3月24日(木) 3月25日(金) 3月26日(土)  3月27日(日)
午前 午後 午前 午後 午前 午後 午前 午後
BH
2F-2201
B5号館
3.5 情報光学 新画像システム研究会企画「画像入力の質を高めるデバイス・処理技術」 3.7 近接場光学 3.7 近接場光学 3.7 近接場光学 3.6 生体・医用光学 3.6 生体・医用光学 3.6 生体・医用光学
BJ
2F-2202
B5号館
7.3 リソグラフィ 7.3 リソグラフィ 16.1 基礎物性・評価 16.1 基礎物性・評価 3.4 計測光学 光波センシングのための偏光技術の進展 3.5 情報光学 3.5 情報光学
BK
2F-2203
B5号館
16.3 シリコン系太陽電池 薄膜トランジスタ、薄膜太陽電池のプロダクション科学 -半導体薄膜の低温結晶化- 16.3 シリコン系太陽電池 日本学術振興会第145委員会・第161委員会・第175委員会合同企画「極限シリコン結晶太陽電池の実現に向けて」 12.12 特定テーマ「次元制御有機ナノ材料」 12.12 特定テーマ「次元制御有機ナノ材料」    
BL
2F-2204
B5号館
有機分子・バイオエレクトロニクス分科会20周年特別シンポジウム「有機分子・バイオエレクトロニクス分科会の新たな挑戦」 有機分子・バイオエレクトロニクス分科会20周年特別シンポジウム「有機分子・バイオエレクトロニクス分科会の新たな挑戦」 15.6 IV族系化合物 15.6 IV族系化合物 16.3 シリコン系太陽電池 ランダム系フォトエレクトロニクス研究会企画「環境・エネルギー 希土類フォトニクスを支える最先端ガラス 中国研究事情と最近のトピックス 」 16.3 シリコン系太陽電池 16.3 シリコン系太陽電池
BM
2F-2205
B5号館
ナノカーボン材料の最新動向(2):グラフェンおよびナノチューブ ナノカーボン材料の最新動向(2):グラフェンおよびナノチューブ 17.1 成長技術 グラフェンエピタキシーの現状と将来展望 17.1 成長技術 17.1 成長技術 17.1 成長技術 17.1 成長技術
BN
2F-2206
B5号館
15.6 IV族系化合物 グリーンイノベーションに向けたSiCパワーエレクトロニクス開発の進展 CIGS系太陽電池の作製プロセスの進展と残された課題 CIGS系太陽電池の作製プロセスの進展と残された課題 15.3 III-V族エピタキシャル結晶 トップダウンとボトムアップの融合による量子ナノ構造作製プロセスのブレークスルーと新たなデバイスへの展開    
BQ
3F-2301
B5号館
15.3 III-V族エピタキシャル結晶 15.3 III-V族エピタキシャル結晶 15.3 III-V族エピタキシャル結晶 15.3 III-V族エピタキシャル結晶 ラマン分光イメージングが拓く新しいサイエンスとテクノロジー ラマン分光イメージングが拓く新しいサイエンスとテクノロジー 15.2 II-VI族結晶 15.2 II-VI族結晶
BR
3F-2302
B5号館
  グリーンイノベーションを実現するレーザープロセッシング技術 17.2 構造制御・プロセス 生物の電磁場応答研究の最前線〜ヒトの視覚から細胞(分子)レベルまで〜 6.6 プローブ顕微鏡 6.6 プローブ顕微鏡 6.6 プローブ顕微鏡 6.6 プローブ顕微鏡
BS
3F-2303
B5号館
合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」(ショート口頭講演) 電磁メタマテリアルの現状と将来 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」(ショート口頭講演) プラズマエレクトロニクス分科会企画「プラズマテクノロジーが未来を創る プラズママップから見るプラズマプロセス技術の将来展望 」   応用電子物性分科会総会
APEX/JJAP フレンドシップミーティング
   
BT
3F-2304
B5号館
量子情報:高まる技術と深まる科学 量子情報:高まる技術と深まる科学   エネルギー・環境研究会企画「新エネルギーとそのネットワーク化 スマートグリッドにおける応用物理の果たすべき役割と新しい可能性 」 14.6 化合物太陽電池 14.6 化合物太陽電池 14.6 化合物太陽電池 14.6 化合物太陽電池
BU
3F-2305
B5号館
12.9 有機トランジスタ(ショート口頭講演) 14.6 化合物太陽電池 12.9 有機トランジスタ(ショート口頭講演) 12.12 特定テーマ「次元制御有機ナノ材料」 12.9 有機トランジスタ 12.9 有機トランジスタ 12.9 有機トランジスタ  
BV
3F-2306
B5号館
12.10 ナノバイオテクノロジー(ショート口頭講演) 人工光合成は日本のエネルギー問題を解決できるか? 12.10 ナノバイオテクノロジー(ショート口頭講演) 異種機能集積化:MEMSとLSIの融合の実態と今後の展開 特別シンポジウム「異種機能集積化と応用物理〜最先端多様分野の融合によって拓かれる未来社会〜」 特別シンポジウム「異種機能集積化と応用物理〜最先端多様分野の融合によって拓かれる未来社会〜」    
BW
4F-2403
B5号館
14.5 光物性・発光デバイス 14.5 光物性・発光デバイス 14.5 光物性・発光デバイス 14.5 光物性・発光デバイス 14.5 光物性・発光デバイス 14.5 光物性・発光デバイス 4.5 テラヘルツ全般・非線型光学 4.5 テラヘルツ全般・非線型光学
BX
4F-2404
B5号館
光科学の未来を拓く-10年先の新規研究領域開拓のために- 光科学の未来を拓く-10年先の新規研究領域開拓のために- 光科学の未来を拓く-10年先の新規研究領域開拓のために- 光科学の未来を拓く-10年先の新規研究領域開拓のために- 4.5 テラヘルツ全般・非線型光学 応用物理学会THz電磁波技術研究会企画「テラヘルツデバイスの新展開」 4.5 テラヘルツ全般・非線型光学 4.5 テラヘルツ全般・非線型光学
BY
4F-2405
B5号館
15.4 III-V族窒化物結晶 15.4 III-V族窒化物結晶 15.4 III-V族窒化物結晶 15.4 III-V族窒化物結晶 15.4 III-V族窒化物結晶 15.4 III-V族窒化物結晶 15.4 III-V族窒化物結晶 15.4 III-V族窒化物結晶
BZ
4F-2406
B5号館
12.3 電子機能材料・デバイス 12.3 電子機能材料・デバイス 6.3 酸化物エレクトロニクス 6.3 酸化物エレクトロニクス 15.4 III-V族窒化物結晶 15.4 III-V族窒化物結晶 15.4 III-V族窒化物結晶 15.4 III-V族窒化物結晶