シンポジウム

25a-KD - 1〜12


• 1開会の辞/プログラムの主旨説明（5分）ソニー ^○岩元勇人
• 2はじめに（10分）東芝研開セ ^○冨田　寛
• 3Ru薄膜の電解エッチング（15分）リコー ^○木村千春
• 4機能水洗浄技術（15分）オルガノ ^○山中弘次
• 5青木先生と研究開発したBEOL洗浄（15分）ルネサス ^○富盛浩昭，笠間佳子，田中盛光
• 6まとめ（10分）東芝研開セ ^○冨田　寛
•  休憩　10:10〜10:20
• 7溶存ガス水を用いたダメージレスのメガソニック洗浄(2)（20分）ルネサスエレクトロニクス¹，栗田工業^{2 ○}菅野　至¹，森田博志²，井田純一²
• 8電解硫酸によるレジスト剥離（20分）栗田工業 ^○永井達夫，山川晴義，大津　徹，内田　稔，塚本和巳
• 9枚葉洗浄プロセスにおける基板表面の液挙動解析（20分）東芝研開セ¹，芝メカ^{2 ○}冨田　寛¹，菊池　勉²
• 10蒸気二流体によるレジスト剥離（20分）静大工¹，金沢工大^{2 ○}真田俊之¹，益子岳史¹，橋本健太郎¹，堀邊英夫²
• 11水のチャージアップWGの総括（20分）大日本スクリーン製造¹，ルネサスエレクトロニクス²，オルガノ³，阪大工^{4 ○}宮城雅宏¹，田中盛光²，齋籐俊介²，山中弘次³，佐藤雅伸¹，荒木浩之¹，青木秀充⁴
• 12閉会の辞（10分）ソニー¹，東芝　研開セ^{2 ○}岩元勇人¹，富田　寛²