16. 非晶質・微結晶

16.1 基礎物性・評価

3月25日 9:00~19:00  会場:B5-BJ

25a-BJ - 1~11

  • 1AgI固溶体の活性化体積金沢高専 土地邦生
  • 2新しい高反応性テルル化合物を用いたSb-TeおよびGe-Te膜の形成エア・リキード・ラボラトリーズ1,北里大理2 石井 華1,Julien Gatineau1,箕浦真生2
  • 3新しい高反応性テルル化合物を用いたGST膜の形成エア・リキード・ラボラトリーズ1,北里大理2 石井 華1,Julien Gatineau1,箕浦真生2
  • 4Ge2Sb2Te5薄膜のサブギャップ光吸収群馬大工 後藤民浩
  • 5(GeTe)100-xSix相変化材料の電気抵抗変化及び相変化挙動東北大工 ○(D)齊藤雄太,隅谷真志,須藤祐司,小池淳一
  •  休憩 10:15~10:30
  • 6a-Si:H中の正孔トラップの光誘起アニーリング III産総研 坂田 功,亀井利浩,山中光之
  • 7アモルファス水素化シリコンのホッピングギャップと発光日大文理1,広島国際学院大2 ○(M2)門司邦孝1,津島浩平1,出木秀典2,村山和郎1
  • 8アモルファス水素化シリコンの発光減衰とシリコンナノ構造日大文理1,広島国際学院大2 ○(M1)津島浩平1,門司邦孝1,中田仁志1,出木秀典2,村山和郎1
  • 9VHF プラズマセル法によるナノ結晶シリコンのフォトルミネッセンス特性東工大量子ナノ研セ1,東工大院理工2 染野 健1,宇佐美浩一1,小寺哲夫1,波多野睦子2,小田俊理1
  • 10不純物をドープしたSiナノ結晶の3次の非線形光学効果神戸大院工 今北健二,伊藤雅彦,藤井 稔,林 真至
  • 11微細針電極を用いたガラスの電気化学的エッチング阪大太陽エネルギー化学研セ1,シャープディスプレイシステム研2 杉田智彦1,辻埜和也2,今井繁規2,松村道雄1
  •  昼食 12:00~12:45

25p-BJ - 1~24

  • 1ホウ酸の脱水縮合反応を利用した可視発光体の合成神戸大 安食麻子,内野隆司
  • 2単斜晶系ZrO2の長残光特性と欠陥形成東北大院工 ○(D)岩崎謙一郎,高橋儀宏,井原梨恵,藤原 巧
  • 3表面プラズモン増強蛍光観察のための回折格子形状の最適化北大電子研1,産総研2 西井準治1,柴田千尋1,田和圭子2,金高健二2
  • 4銀ナノ粒子含有アモルファス酸化鉄薄膜の合成と表面プラズモン共鳴による複屈折の増幅京大院工 辻口拓也,村井俊介,藤田晃司,田中勝久
  • 5Sm3+-doped BiO1.5-WO3-TeO2ガラスの光学特性とJudd-Ofelt解析名工大院1,リモージュ大2 早川知克1,藤原健司1,野上正行1,デクレア ジョンロネ2,トーマス フィリップ2
  • 6「講演奨励賞受賞記念講演」(15分)
    バナジウム系低融点ガラスの熱的特性と耐湿性
    日立 材料研1,日立化成2,東工大物創3 青柳拓也1,内藤 孝1,3,吉村 圭2,立薗信一2,吉本 護3
  • 7Sn含有ガラス蛍光体の組成と発光特性との相関京大化研1,東北大院工2,旭硝子3 正井博和1,谷本俊朗1,藤原 巧2,松本修治3,高橋儀宏2,徳田陽明1,横尾俊信1
  • 8白色発光を呈する新規希土類フリーガラス蛍光体の開発京大化研1,東北大院工2,旭硝子3 正井博和1,藤原 巧2,松本修治3,高橋儀宏2,徳田陽明1,横尾俊信1
  • 9Er3+添加フッ化物ガラスの疑似太陽光照射下の発光特性豊田中研1,豊田工大院2 水野真太郎1,伊藤 博1,長谷川和男1,河井優幸2,那須寛之2,鈴木健伸2,大石泰丈2
  • 10無容器浮遊法による高屈折率・低分散Nb2O5-La2O3-Al2O3ガラスの作製東大生産研 吉本幸平,増野敦信,井上博之,渡邉康裕
  • 11ルビー析出シリケート結晶化ガラスの作成と光学的性質京大院人環 上田純平,田部勢津久
  • 12リチウム亜鉛ゲルマン酸塩ガラスの結晶化前駆段階における構造発展東北大院工1,物材機構MANA2 高橋儀宏1,安藤正尊1,井原梨恵1,長田 実2,藤原 巧1
  •  休憩 15:45~16:00
  • 13シリカガラスの失透と結晶相変化の関連性福井高専1,福井大院工2 堀井直宏1,木村 駿1,葛生 伸2,前川公男1,井上昭浩1
  • 14反応力場を用いたシリカガラス-水界面の分子動力学シミュレーションシミュラティオ 吉岡 誠
  • 15シリカ薄膜における可視ルミネッセンスの温度依存性神奈川工科大1,沼津高専2 武藤星児1,宇野武彦1,野毛 悟2
  • 16Sn-Mg-O/金属膜の光着色現象北大院工1,グエラテクノロジー2 寺門信明1,田中啓司1,中澤 明2
  • 17直流スパッタ法によるアモルファスInGaZnO4薄膜の作製と熱処理効果群馬大院工 ○(M1)金田健児,柿沼 匠,笠原 俊,後藤民浩
  • 18スパッタリング法を用いたSrTiO3:Pr,Al薄膜の作製(III)日大生産 大橋拓也,清水耕作
  • 19Gd2(MoO4)3非晶質薄膜の作製と結晶化挙動長岡技科大 松田朋子,本間 剛,小松高行
  • 20Sol-gel法によるBa2TiSi2O8薄膜の作製と結晶化挙動東北大院工1,京大化研2 井原梨恵1,佐藤恵斗1,高橋儀宏1,正井博和2,藤原 巧1
  • 21低SiOH含有量のフッ素ドープシリカガラスのゾル-ゲル合成首都大院都市環境 梶原浩一,前花亮平,桑谷俊伍,金村聖志
  • 22超音波マイクロスペクトロスコピー技術による合成石英ガラスインゴットの均質性評価東北大院工1,東ソー・エスジーエム2 櫛引淳一1荒川元孝1,大橋雄二1,丸山由子1,堀越秀春2,森山賢二2
  • 23変調アドミタンス法を用いた酸化物半導体InGaZnO4の欠陥評価(II)日大 刀根 仁,前田督快,清水耕作
  • 24MIS界面の欠陥準位評価日大 小林浩二,清水耕作