15. 結晶工学

15.7 エピタキシーの基礎

3月24日 9:30~11:30  会場:C5-CE

24a-CE - 1~8

  • 1半極性GaN(1-101)表面での炭素取り込みに関する理論的検討三重大院工 秋山 亨,山下智樹,中村浩次,伊藤智徳
  • 2SiCの構造多形に関する簡単な理解三重大院工 伊藤智徳,秋山 亨,中村浩次
  • 3α-Al2O3(0001)表面上の窒素吸着に関する量子論的アプローチ三重大院工 ○(M1)斉藤康高,秋山 亨,中村浩次,伊藤智徳
  • 4InP(111)A面上における成長初期過程に対するモンテカルロシミュレーション三重大院工 山下智樹,秋山 亨,中村浩次,伊藤智徳
  • 5InAs/GaAs量子ドットの自己形成過程におけるGa導入効果電通大、先進理工1,電通大、先進理工2 ○(B)エデス サプトラ1,山口浩一2
  • 6GaAs基板上へのMnAs成長初期過程阿南高専1,Warwick大2 平山 基1,Gavin Bell1,2,塚本史郎1
  • 7電流制御液相エピタキシャル法によるGaAsパターン基板上へのGaAs厚膜成長静岡大電子研 Mouleeswaran Deivasigamani,小山忠信,田中 昭,早川泰弘
  • 8酸素同位体を用いた,酸化スズのパルスレーザー蒸着過程の検討物・材機構 甄 玉花,李 宝娥,李 建永,坂口 勲,安達 裕,西村聡之,羽田 肇,大橋直樹