12. 有機分子・バイオエレクトロニクス

12.1 作製技術

3月24日 10:00~17:45  会場:C5-CD

24a-CD - 1~9

  • 1ナノインプリントにもとづくポリマーモスアイ構造上への透明導電層形成と光学特性首都大都市環境1,KAST2 近藤敏彰2鈴木健也1,柳下 崇1,2,西尾和之1,2,益田秀樹1,2
  • 2走査プローブリソグラフィによるアルミニウム基板上への金ナノ粒子アレイの作製京大院工1,都立産技研センター2 ○(M1)桑田真成1,一井 崇1,加沢エリト2,中村 勲2,邑瀬邦明1,杉村博之1
  • 3走査プローブリソグラフィによるITO基板上への金ナノ粒子アレイの作製 (2)京大院工 ○(D)梁 正賢,一井 崇,邑瀬邦明,杉村博之
  • 4走査プローブリソグラフィによるナノグレーティングの作製京大院工 ○(M1)江上真人,一井 崇,邑瀬邦明,杉村博之
  • 5自己組織化リソグラフィーを用いた機能性ナノ材料のダイレクトナノパターニング東理大基礎工 渡邉 智,田村尚也,秋吉祐里,横川和哉,松本睦良
  • 6光反応性スピンコート膜を用いた燐光性高分子薄膜のパターン形成東京農工大工 宮川大地,室山雅和,田中邦明,臼井博明
  • 7ベンゾフェノンSAM膜を用いた有機薄膜界面制御とパターン形成東京農工大院1,ヒューストン大2 ○(M1)大塚華恵1,金 性湖1,Maria Celeste R. Tria2,田中邦明1,Rigoberto C. Advincula2
  • 8金属酸化物表面に化学結合した共役系アゾメチンオリゴマーの形成北陸先端大 米内洋貴,馬場 愛,松島敏則,村田英幸
  • 9金属酸化物表面に構築した共役系自己組織化単分子膜の作成と評価北陸先端大マテリアル1,ナノテクセンター2 ○(M1)馬場 愛1,米内洋貴1,村上達也2,松島敏則1,村田英幸1
  •  昼食 12:15~13:30

24p-CD - 1~16

  • 1長鎖アルキルアンモニウム-Au(dmit)2 LB膜の構造と電気的性質(VI)桐蔭横浜大院工1,JSTさきがけ2,情報通信研究機構3 三浦康弘1,杉本直樹1,秋山弘成1,杉 道夫1,長谷川裕之2,3
  • 2P3HT/PCBMのLB膜バルクヘテロ接合化へ向けた検討鳥取大工1,鳥取産業技術センター2 石川輝芳1,佐藤亜紀1,三田 睦1,横野洋希1,木村康孝1,河本敏宜1,草野浩幸2,北川雅彦1
  • 3スプレー法を用いてPCDTBT/PC71BMヘテロ接合で作製した有機薄膜太陽電池の特性評価愛知工業大 村上善則,小嶋憲三,水谷照吉,落合鎮康
  • 4混合溶媒を利用した静電塗布法によるPCBM薄膜の形成埼大1,理研2 浅野 俊1,2,高木健次1,2,浅木裕隆1,2,福田武司1,2,朱 正明2,本多善太郎1,鎌田憲彦1,青山哲也2,田島右副2,山形 豊2
  • 5静電塗布法によるPEDOT:PSS薄膜成長初期の実時間その場観察埼玉大理工研 猪野智久,浅野 俊,福田武司,上野啓司,白井 肇
  • 6二溶媒を用いた静電塗布法の噴射領域の制御及び有機薄膜の表面平坦化埼玉大1,理研2 浅木裕隆1,2福田武司1,2,浅野 俊1,2,高木健次1,2,本多善太郎1,鎌田憲彦1,上野啓司1,危  衛2,王  盛2,加瀬 究2,朱 正明2,山形 豊2
  • 7化学溶液析出法を用いた酸化亜鉛結晶の成長過程の検討慶應義塾大院 市川貴文,村口公亮,白鳥世明
  •  休憩 15:15~15:30
  • 8スプレーLBL法による一次元フォトニック結晶の作製慶大理工院 深尾七恵,藤本幸司,慶 奎弘,白鳥世明
  • 9チタニア薄膜のナノ構造制御による光学多層膜の設計・製造慶大院理工1,東海光学2 藤本幸司1,慶 奎弘1,白鳥世明1,加藤祐史2,小崎哲生2
  • 10交互吸着法による傾斜屈折率層を有する反射防止膜の作製慶大院理工 ○(M1)松田素洋,白鳥世明
  • 11交互積層法による撥水性反射防止膜の作製慶大理工 田中千絵,慶 奎弘,鈴木裕文,白鳥世明
  • 12交互吸着法による多層膜の凹凸構造の制御と濡れ性の評価慶大院理工1,東海光学2 ○(D)慶 奎弘1,藤本幸司1,白鳥世明1,加藤祐史2,小崎哲生2
  • 13超撥油膜の幾何学的構造評価と機械耐久性の向上慶大理工 ○(B)辻 一将,西澤真吾,白鳥世明
  • 14交互吸着法を用いた抗たんぱく質薄膜の自立膜への応用慶大院理工 井上耕平,松田素洋,白鳥世明
  • 15マイクロ波を用いた急速凍結法による細菌ポリフック螺旋形状の固定保存明治大理工 ○(M2)今井亮輔,吉村英恭
  • 16高分子複合化によるソフトアクチュエータの作製・評価慶應理工 ○(B)奈良英史,村口公亮,白鳥世明

12.1 作製技術

3月25日 10:00~18:45  会場:C5-CD

25a-CD - 1~9

  • 1メタンチオールガス除去複合金属微粒子コンポジットナノファイバの作製慶大院理工 熊谷 健,白鳥世明
  • 2Carbon Nanocage担持ナノファイバ膜の作製慶大院理工1,物材機構2 小崎康宏1,白鳥世明1,Ajayan Vinu2,有賀克彦2
  • 3ガラスコートCdTe量子ドットの自己組織化により形成された蛍光性ファイバー産総研 村瀬至生,楊  萍,安藤昌儀
  • 4ゾル-ゲル反応速度によって制御された1次元金ナノ粒子集合体の作製と光特性産総研 村瀬至生,楊  萍,安藤昌儀
  • 5酸化亜鉛微粒子-ポルフィリン複合体の発光特性III島根大総合理工 広光一郎,池上崇久,後藤智宏,田中仙君,藤田恭久,半田 真
  • 6シリカ微粒子集積体を鋳型とした低誘電率多孔質ポリイミドの作製東北大多元研1,産総研東北センター2,JSTさきがけ3 林  武1,小野寺恒信1,石坂孝之2,笠井 均1,3,及川英俊1
  • 7直径153nmの鋳型粒子を用いた単分散性多孔質シリカマイクロカプセルの作製明大理工 幸元翔三,加藤徳剛
  • 8微粒子表面上での色素会合体の作製明大理工 宇佐美仁彦,加藤徳剛
  • 9溶液レーザーアブレーション法で作製した有機ナノ粒子水溶液の吸収スペクトルと粒子径の相関和大シス工 大畠正裕,尾崎信彦,秋元郁子
  •  昼食 12:15~13:30

25p-CD - 1~20

  • 1「講演奨励賞受賞記念講演」(15分)
    リアルタイム2D-GIXDによる有機半導体蒸着膜の形成初期過程の観察
    岩手大工1,高輝度光科学研究セ2 渡辺 剛1,小金澤智之2,広沢一郎2,村岡宏樹1,小川 智1,吉本則之1
  • 2金属電極近傍におけるペンタセン薄膜の成長様式と基板表面処理による影響京大院工1,京大SACI2 大橋泰洋1,野田 啓1,小林 圭2,山田啓文1,松重和美1
  • 3酸化グラフェン上のペンタセン薄膜の成長形態東大院新領域1,東大院理2 米澤康弘1,金森由男2,斉木幸一朗1,2
  • 4水素プラズマセルを用いたペンタセン薄膜の形成茨城大工 水口嵩敏,水上洋典,山内 智
  • 5太陽電池応用に向けたルブレン単結晶上へのC60エピタキシャル成長産総研・太陽光1,東理大理工2 光田浩樹1,2,宮寺哲彦1,大橋 昇1,吉田郵司1,田村雅史2
  • 6鉛フタロシアニンの結晶成長における外部電界の効果千葉大院工 酒井正俊,小川泰司,飯塚正明,中村雅一,工藤一浩
  • 7磁場中溶液成長による有機半導体単結晶薄膜の作製岩手大工 田村浩平,安部俊輔,藤代博之,吉本則之
  • 8光変換型ペンタセン材料における薄膜作製条件の検討山形大院理工1,奈良先端大物質2,CREST3 ○(M1)清田達郎1,3,及川悦誠1,3,中山健一1,3,城戸淳二1,山田容子2,3
  • 9ガラス基板上に蒸着した金薄膜の島状構造化と光学特性産総研1,北見工大2 ○(P)酒井大輔1,原田建治2,福田隆史1
  • 10有機単電子トンネルデバイスのための分子内電子接合用モジュールの開発分子研 田中彰治
  •  休憩 16:00~16:15
  • 11摩擦転写法によるポリジアセチレン一軸配向膜の作製神戸大工1,リコー先端研2,大阪市立大3,九大最先端4 大坪拓哉1,三崎雅裕1,石田謙司1,上田裕清1,加藤拓司2,4,鳥居昌史2,筒井恭治2,松本章一3,安達千波矢4
  • 12ジアセチレン蒸着膜の紫外線重合過程のin-situ観察神戸大院工1,リコー先端研2,九大最先端3 東條雄気1,三崎雅裕1,石田謙司1,上田裕清1,加藤拓司2,3,鳥居昌史2,筒井恭司2,安達千波矢3
  • 13真空熱重量・QCM測定によるアルカン固溶体の真空熱挙動の考察神戸大院工 都野雅大,黒田雄介,小柴康子,三崎雅裕,堀江 聡,石田謙司,上田裕清
  • 14処理温度による高分子薄膜のグラフト密度制御島根大院医1,島根大院医2 ○(M1)坂根智也1,藤井政俊2
  • 15触媒化学気相成長法による感光性高分子薄膜のコンフォーマル成膜東北大工1,東北大WPI-AIMR2 小林竜也1,吉田慎哉2,熊野勝文1,江刺正喜2
  • 16蒸着重合ポリ尿素薄膜の双極子配向制御静岡大・自然科学1,静岡大・工2 伊東卓哉1,熊谷泰輔2,山本 希2,久保野敦史1,2
  • 17フッ素系高分子のイオンアシスト蒸着重合におけるイオン加速効果農工大院工1,住友精密工業2 松田 剛1,泉田和夫1,2,田中邦明1,臼井博明1
  • 18電子アシスト蒸着重合法により作製したフッ素系架橋高分子薄膜の物性評価農工大院工 細田泰弘,田中邦明,臼井博明
  • 19Molecular Layer Deposition (MLD)による異なる長さのQuantum Dot を内包したポリマ薄膜の作製と評価東京工科大 海老原良介,吉村徹三
  • 20Molecular Layer Deposition (MLD) の「がん治療」への応用提案東京工科大 吉村徹三,吉野知恵,吉村徹三,吉野知恵

12.1 作製技術

3月26日 10:00~12:30  会場:C5-CD

26a-CD - 1~10

  • 1イオン液体を介した真空蒸着法によるフラーレンエピタキシャル薄膜の作製東工大応セラ研 武山洋子,丸山伸伍,松本祐司
  • 2ITO上のイオン液体膜を介した真空蒸着法による高品質ペンタセン薄膜の作製東工大応セラ研 萬徳真志,武山洋子,松本祐司
  • 3有機薄膜形成に及ぼす入射頻度の影響静岡大工 萩原清史,永田仁美,木野正明,伊東卓哉,久保野敦史
  • 4コロナポーリング処理を施したVDFオリゴマー薄膜の圧電特性評価神戸大院・工1,ダイキン工業2 中島尚耶1,宇都宮健1,小谷哲浩2,高 明天2,金村 崇2,堀江 聡1,三崎雅裕1,小柴康子1,石田謙司1,上田裕清1
  • 5分子超格子構造を有する電界効果トランジスタのAmbipolar特性物材機構1,筑波大数物2,九大工3 ○(DC)廣芝伸哉1,2,早川竜馬1,知京豊裕1,松石清人2,若山 裕1,3
  • 6低ガラス転移点を有する高分子膜表面におけるメタル堆積性変調とその応用大阪教育大 ○(M1)辻 功祐,辻岡 強
  • 7層状構造を持つ結晶性配位高分子ナノ薄膜での層間距離と膜厚の制御九大院理1,京大院理2,阪府大ナノ科学材料セ3,JST-CREST4,JASRI-SPring-85 本山宗一郎1,2,牧浦理恵3,4,坂田修身4,5,北川 宏2,4
  • 8フォトクロミック化合物を用いたPDMS表面の濡れ性制御神戸大工 河野晃和,神田桃吾,三崎雅裕,小柴康子,石田謙司,上田裕清
  • 9室温焼結型銀ナノ粒子を用いた低抵抗塗布型電極の作製山形大工1,山形大院理工2 関根智仁1,時任静士2,熊木大介2,坂本政臣2,栗原正人2
  • 10有機半導体ナノロッドの作製と特性評価神戸大院工 佐伯宏之,西本光穂子,小柴康子,三崎雅裕,堀江 聡,石田謙司,上田裕清