10. スピントロニクス・マグネティクス

10.1 新物質創成(酸化物・ホイスラー・金属磁性体等)

3月25日 会場:K2-KM
ショートプレゼンテーション(5分)10:00~11:20
ポスター掲示時間13:00~15:00(会場:第二)

25a-KM - 1~16

  • 1希薄磁性半導体ZnSnAs2:Mn/ZnSnAs2/ZnSnAs2:Mn 3層構造のMBE法による作製と電気的特性の評価長岡技術科学大 大前洸斗,遠藤洋紀,神保良夫,内富直隆
  • 2二元化合物CrTeのMBE成長における下地層の影響筑波大数理物質1,物材機構2 西尾陽太郎1,関田直也1,石川弘一郎1,金澤 研1,黒田眞司1,三留正則2,板東義雄2
  • 3スピン注入源としてのMnSbエピタキシャル薄膜に関する評価東工大・像情報 ○(P)西沢 望,吉田大祐,滝田朋之,宗片比呂夫
  • 4電界による(Ga,Mn)As強磁性ナノドット配列の形成東北大通研1,京大化研2,科技機構さきがけ3,東北大CSIS4 千葉大地1,2,3,松倉文礼1,4,大野英男1,4
  • 5RFマグネトロンスパッタ法により成長したZnO:Co膜の磁気特性長岡技科大 ○(M1)小野大祐,我那覇未希,豊田英之,神保良夫,内富直隆
  • 6GaDyN/AlGaN多重量子井戸構造の作製と評価阪大産研 中谷裕紀,周 逸凱,菊地潤一,江村修一,長谷川繁彦,朝日 一
  • 7Ge 基板上へのCo2MnSi/MgOヘテロ構造のエピタキシャル成長北大院情報科学研究科 李 桂芳,平 智幸,松田健一,植村哲也,山本眞史
  • 8Fe4N/MgO/NbN接合の準粒子トンネル分光名大院工1,東北大院工2 北條貴之1,作間啓太1,宮脇哲也1,植田研二1,浅野秀文1,駒崎洋亮2,角田匡清2
  • 9MBE法により作製したエピタキシャルFe4N薄膜のXMCD測定筑波大数理物質科学1,広島大理学2,原子力機構3,産総研ナノ電子デバイス4 伊藤啓太1,李 根衡1,原田一範1,叶  茂2,竹田幸治3,齋藤祐児3,末益 崇1,木村昭夫2,秋永広幸4
  • 10RTA法を用いたCo2FeSiの形成における初期多層膜構造の影響東工大像情報1,科技機構CREST2 ○(M2)林 建吾1,高村陽太1,周藤悠介1,2,菅原 聡1,2
  • 11RTAを用いたフルホイスラー合金Co2FeSi1-xAlxの形成と評価(2)東工大像情報1,科学機構 CREST2 佐藤充浩1,高村陽太1,菅原 聡1,2
  • 12ディスクリートPNP Si バイポーラトランジスタにおける磁気抵抗効果の観測農工大院工 西村信也,桑原洋介,厚母息吹,白樫淳一
  • 13ハンル効果測定を用いた強磁性合金/シリコン界面近傍におけるスピン蓄積の電気的検出九大院シス情1,九大稲盛センター2,東京都市大総研3,JST さきがけ4 安藤裕一郎1,2,笠原健司1,山根一高1,馬場雄三1,前田雄也1,星 裕介3,澤野憲太郎3,宮尾正信1,浜屋宏平1,4
  • 14Si 基板上に形成したCo ナノワイヤ配列の微細化とその磁気特性評価関西大1,NICT2 田中良典1,青木和茂1,照井通文2,清水智弘1,新宮原正三1
  • 15メカニカルアロイングによるAg-Fe合金粉末の結晶構造と磁気特性岡山大院自然科学研究科数理物理科学専攻 土師弘之,内田正和,松島 康,河本 修
  • 16Atomic Layer Deposition 法を用いたNi 薄膜の作製と評価京大化研1,JSTさきがけ2 島村一利1,千葉大地1,2,小野輝男1

10.1 新物質創成(酸化物・ホイスラー・金属磁性体等)

3月26日 会場:K2-KM
ショートプレゼンテーション(5分)10:00~11:15
ポスター掲示時間13:00~15:00(会場:第二)

26a-KM - 1~15

  • 1In-situ XMCD法によるCu(100)単結晶上FeNi多層膜の磁気異方性の研究高エ研物構研 酒巻真粧子,雨宮健太
  • 2Ni薄膜上における1原子層のNiO類似構造の作製高エ研物構研1,JST-CREST2 雨宮健太1,2,酒巻真粧子1
  • 3Fe/Gd磁性多層膜ラインパターンの作製と磁気特性評価香川大工 新山和哉,三宅晃史,宮川勇人,須崎嘉文,小柴 俊
  • 4超高真空分子線エピタキシー法により形成したSm-Co薄膜の構造と磁気特性中央理工1,東京藝大2 野中雄介1,栗原武志1,大竹 充1,桐野文良2,二本正昭1
  • 5Au下地層上に形成したエピタキシャルCo薄膜の構造解析中大理工 小林和樹,大竹 充,二本正昭
  • 6Ru下地層上に形成した3d強磁性遷移金属薄膜の構造と磁気特性中大理工 島本晃平,坂口紗紀,大竹 充,二本正昭
  • 7格子整合MgAl2O4/ホイスラー合金積層膜の結晶構造及び磁気特性評価名大院工 真利研一郎,高橋一成,藤田裕人,深谷直人,宮脇哲也,植田研二,浅野秀文
  • 8相殺磁性型ハーフメタル物質の探索:La2VMnO6東工大応セラ研 黒田恒平,諫山 晃,門田祥悟,笹川崇男
  • 9Fe2CrSi/Fe2VSi人工格子における層間磁気結合名大院工 宮脇哲也,高橋一成,深谷直人,植田研二,浅野秀文
  • 10CoFeAlSiホイスラー合金を用いたグラニュラー膜のトンネル磁気抵抗効果大同大1,三重大2 近藤孔明1,地濃拓郎1,藤原裕司2神保睦子1
  • 11Fe3O4電極を用いたTMR多層膜におけるVerwey転移の影響東北大工 ○(DC)常木澄人,大兼幹彦,永沼 博,安藤康夫
  • 12Au及びAg微粒子におけるスピン緩和時間東北大金所1,物材機構2 神田哲典1,三谷誠司2,水口将輝1,高梨弘毅1
  • 13新規高抵抗酸化物電極を有する強磁性トンネル接合の作製と特性評価阪大基礎工1,阪大産研2 仕幸英治1,神吉輝夫2,田中秀和2,新庄輝也1,白石誠司1
  • 14Fe/MgO(001)接合における磁気異方性の界面構造依存性の第一原理計算東北大通研1,東北大省エネ2 森 大樹1,三浦良雄1,2,阿部和多加1,2,白井正文1,2
  • 15Ta/Co40Fe40B20/MgO接合における電界による垂直磁気異方性変調の膜厚及び熱処理温度による最適化東北大通研1,東北大CSIS2 金井 駿1,遠藤将起1,池田正二1,2,松倉文礼1,2,大野英男1,2