7. ビーム応用

7.4 ナノインプリント

3月24日　9:00～17:30　　会場：K1-KE

24a-KE - 1～11

  • 1ナノインプリントによる高アスペクト比PMMAナノパターン作製大府大工1，JST CREST2 ○阪本隼志1,2，藤川仙大1，友廣航平1，川田博昭1,2，安田雅昭1,2，平井義彦1,2
  • 2電子ビームステッパーを用いたシームレスラインパターン作製兵県大理1，ホロン2，JST-CREST3，JSPS4 ○（D）岡田　真1, 3, 4，木代高史2，安宅正志2，穴澤紀道2，松井真二1, 3
  • 3サブ100nmパターンを有する2段深さUV-NILモールドの試作日大1，産業技術総合研究所2，JST-CREST3 ○鈴木健太1,2,3，尹　成圓2,3，王　　清2,3，廣島　洋2,3，西岡泰城1
  • 4SiOx含有UVナノインプリントレジストの評価兵県大1，JST-CREST2，JSPS3，トクヤマ4 ○（M1C）大本慎也1,2，岡田　真1,2,3，姜　有志1,2，春山雄一1,2，梅川秀喜4，松井真二1,2
  • 5分子量局在化レジストによるナノインプリントプロセス大阪府立大1，日本合成ゴム2 ○西倉直紀1，堀場日明1，荒木康誠1，安田雅昭1，川田博昭1，西村幸生2，平井義彦1
  •  休憩　10:15～10:30
  • 6FIB-CVDマスクパターニングとRIEによる2Tbit/inch2超高密度ドット配列金型の創製と金属ガラスのナノインプリント東北大院工1，東北大金研2，RIMCOF3，東北大4 ○（D）福田泰行1，早乙女康典2，西山信行3，竹中佳生3，西洞紀子3，井上明久4
  • 7ポーラスアルミナを用いたナノインプリント法によるSi基板表面への反射防止構造の作製首都大都市環境1，神奈川科学技術アカデミー2 ○成山哲平1，柳下　崇1,2，西尾和之1,2，益田秀樹1,2
  • 8高規則性ポーラスアルミナにもとづく射出成型による反射防止構造の作製首都大都市環境1，神奈川科学技術アカデミー2 ○柳下　崇1,2，西尾和之1,2，益田秀樹1,2
  • 9溶融樹脂の塗布によるナノ形状転写成形日本製鋼所 ○内藤章弘，古木賢一，伊東　宏，焼本数利
  • 10インプリントにおける基板変形がレジスト充填に及ぼす影響大府大工1，JST CREST2 ○川田博昭1,2，藤川仙大1，渡辺雄太1,2，安田雅昭1,2，平井義彦1,2
  • 11射出圧縮成形を用いたナノ構造の転写東大 ○長藤圭介，光田健洋，濱口哲也，中尾政之
  •  昼食　12:00～13:15

24p-KE - 1～16

  • 1ペンタフルオロプロパンガス雰囲気中における滑落法を用いた動的ぬれ性評価兵庫県立大1，AIST2，JST-CREST3，JSPS4 ○知念美佳1,3，岡田　真1,3,4，春山雄一1,3，神田一浩1,3，廣島　洋2,3，松井真二1,3
  • 2走査型プローブ顕微鏡によるペンタフルオロプロパンガス雰囲気下における離型力評価兵県大理1，SIIナノテクノロジー2，AIST3，JST-CREST4，JSPS5 ○（D）岡田　真1, 4, 5，岩佐真行2，春山雄一1, 4，神田一浩1, 4，廣島　洋3, 4，松井真二1, 4
  • 3PFPガス雰囲気下における光示差走査熱量測定によるUVナノインプリントレジスト評価兵庫県立大1，ダイセル化学工業2，東洋合成工業3，大阪府立大4，産総研5，JST-CREST6，JSPS7 ○澤田陽平1,6，岡田　真1,6,7，三宅弘人2，大幸武司3，平井義彦4,6，春山雄一1,6，神田一浩1,6，廣島　洋5,6，松井真二1,6
  • 4UVナノインプリントにおける凝縮性気体中でのレジスト充填性解析阪府大　院工1，産総研2，JST-CREST3 長岡義矩1,3，○鈴木亮介1,3，川田博昭1,3，廣島　洋2,3，平井義彦1,3
  • 5ナノインプリントによって作製された微細構造のヤング率の評価兵庫県立大1，CREST-JST2，JSPS3 ○（M2）姜　有志1,2，中井康喜1,2，岡田　真1,2,3，春山雄一1,2，松井真二1,2
  • 6加熱触媒体により生成した原子状水素を用いたナノインプリント用樹脂の除去金沢工大1，大府大2，阪大3 ○新井　祐1，丸岡岳志1，河野昭彦1，平井義彦2，堀邊英夫1,3
  • 7ガラスインプリント金型材料を目指したNi-Wめっき膜の検討神奈川県産技セ1，産総研2 ○安井　学1，金子　智1，平林康男1，小沢　武1，高橋正春2，前田龍太郎2
  • 8ナノインプリントにより作製した2 Åステップ超平坦ガラス基板における表面平坦性の熱化学的挙動の評価東工大物創1，協同インターナショナル2，並木精密宝石3，東工大･弁理士4 ○（M1）宮宅ゆみ子1，秋田泰志1，大井秀雄2，三田正弘2，砂川和彦3，吉本　護1,4
  •  休憩　15:15～15:30
  • 9CVD法とディップコート法で作製したナノインプリント離型膜の特性評価兵庫県立大1，JST-CREST2，JSPS3 ○山下大輔1,2，岡田　真1,2,3，中井康喜1,2，春山雄一1,2，松井真二1,2
  • 10離型剤処理シリカ表面に対するラジカル重合型光硬化樹脂の付着力　-トリメトキシシラン誘導体でのアルキル基とフルオロアルキル基の違い-東北大多元研1，JST-CREST2 ○遠藤彩子1，小林　敬1,2，中川　勝1,2
  • 11ナノインプリントリソグラフィにおけるレジスト収縮によるパターン補正大阪府立大院工1，JST-CREST2 ○堀場日明1,2，鈴木亮佑1,2，西倉直紀1，安田雅昭1,2，川田博昭1,2，平井義彦1,2
  • 12乾式および液浸式蛍光顕微鏡観察におけるナノインプリントパターンの検出下限東北大多元研1，JST-CREST2 ○富岡辰弥1，小林　敬1,2，久保祥一1,2，中川　勝1,2
  • 13光CD計測器を使用した残膜厚の計測敏感度検討キヤノン　総合R&D本部 ○稲　秀樹，宮川貴博，佐藤一洋，千徳孝一
  • 14スライド式ローラーインプリントによる光ファイバーの表面加工技術研究組合 BEANS研究所1，産総研2，東芝機械3 ○銘苅春隆1,2，大友明宏1,3，高木秀樹2,1，小久保光典3,1，後藤博史3,1
  • 15ナノインプリントを用いた回折格子を有する分布帰還型レーザの特性面内分布の評価住友電工　伝デ研 ○井上尚子，吉永弘幸，八木英樹，大西　裕，辻　幸洋，野間口俊夫
  • 16界面化学結合型熱ナノインプリントリソグラフィにより作製される網目状銀透明導電樹脂基板東北大多元研1，旭化成イーマテリアルズ2，日油3 ○（DC）永瀬康一1，川島政彦2，大嶽知之3，姜　義哲3，久保祥一1，中川　勝1