7. ビーム応用

7.3 リソグラフィ

3月24日　9:30～17:30　　会場：B5-BJ

24a-BJ - 1～10

  • 1集束プロトンビーム描画を用いた高アスペクト比Ni電鋳作製におけるPMMA母型の現像プロセスからの検討芝工大1，原子力機構高崎2 ○田邊裕介1，西川宏之1，渡辺　徹1，佐藤隆博2，石井保行2，神谷富裕2
  • 2集束プロトンビーム照射によるポリ乳酸フィルムの微細加工芝工大工 ○竹内　均，小池義和，小倉智裕，萩原央紀，西川宏之，武野　泰，原島勇気
  • 3A Technique for Making Defect-free High Aspect Ratio Channel Structure in X-ray LithographyNICT, Kyoto1，Nanocreate Co. Ltd., Hyogo2，LAST, Univ. of Hyogo3 ○Vijay Singh1，Satoshi Maekawa1，Megumi Katori2，Yasuhito Minamiyama2，Daiji Noda3，Tadashi Hattori3
  • 4半導体ナノ構造作製のためのSiブロック垂直側面上レジスト塗布NTT物性基礎研 ○山崎謙治，山口浩司
  • 53次元立体構造上にスプレー塗布されるレジスト膜厚の均一化豊田工大 ○熊谷慎也，福田直也，田嶋久義，佐々木実
  • 6かご型シルセスキオキサン含有高分子ブロック共重合体のDirected Self-assembly による10 nm 級微細構造の形成日立材料研1，京大院工2，東工大院理工3 ○多田靖彦1,2，平井智康3，石田良仁3，吉田博史1，早川晃鏡3，竹中幹人2，長谷川博一2
  •  休憩　11:00～11:15
  • 7「第12回光・量子エレクトロニクス業績賞（宅間宏賞）受賞記念講演」（35分）
    位相シフト法の発明と光学系の結像理論    東京工芸大学 ○渋谷眞人
  • 8半導体露光用ArFエキシマレーザのオンボードスペクトル計測装置開発ギガフォトン ○松本慎一，田中智史，鈴木　徹，松永　隆，藤本准一，溝口　計
  • 9極端紫外リソグラフィ用パルスＣＯ２レーザ装置の開発小松製作所1，ギガフォトン2 ○大賀　仁1，川筋康文1，太田　毅1，Krzysztof Nowak1，菅沼　崇1，横塚俊雄1，住谷　明1，藤本准一2，溝口　計2
  • 10極微パタン構造計測のためのコヒーレント13nm高次高調波光源の開発II理研 基幹研1，兵庫県立大2，JST CREST3 ○永田　豊1,2,3，原田哲夫2,3，木下博雄2,3，緑川克美1
  •  昼食　12:35～13:45

24p-BJ - 1～14

  • 1「講演奨励賞受賞記念講演」（15分）
    コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるEUVマスクのプログラム欠陥観察    兵庫県立大学1，CREST-JST2 ○中筋正人1,2，木村瑛彦1,2，多田将樹1,2，原田哲男1,2，渡邊健夫1,2，木下博雄1,2
  • 2EUVLマスク欠陥の転写性評価MIRAI-Selete ○加茂　隆，寺澤恒男，山根　武，茂村弘之，高木紀明，天野　剛，俵山和雄，野副真理，田中稔彦，須賀　治，森　一朗
  • 3EUV顕微鏡によるEUVマスクの白欠陥修正結果の観察兵庫県立大1，Mirai-Selete2 ○（B）時政明史1，吉本　真1，原田哲男1，天野　剛2，渡邊健夫1，木下博雄1
  • 4EUVマスク上のコンタミネーション発生（III）被覆形状のTEM観察とそのモデリングＳｅｌｅｔｅ ○西山岩男，穴澤俊久，有澤幸恭，田中雄介
  • 5EUVマスク上のカーボン汚染クリーニングMIRAI-Selete1，九州工大2，明電舎3 ○穴澤俊久1，高木紀明1，西山岩男1，須賀　治1，和泉　亮2，矢野容次2，三浦敏徳3，花倉　満3
  • 6EUV干渉露光装置を用いたレジストパタン形成兵庫県立大 ○（B）浦山拓郎，福島靖之，山口裕也，井口貴文，原田哲男，渡邊健夫，木下博雄
  •  休憩　15:15～15:30
  • 7EUVリソグラフィ用フラーレン分子レジスト半導体先端テクノロジーズ1，三菱化学2，三菱化学科技研究センタ3 ○老泉博昭1，井谷俊郎1，田中克知2，川上公徳3，林　寛幸3
  • 8フォトレジスト溶解過程のその場観察 ２半導体先端テクノロジーズ ○Juliusjoseph Santillan，井谷俊郎
  • 9紫外光電子分光(UPS)を使ったポリスチレン誘導体薄膜におけるイオン化ポテンシャルの研究阪大産研1，JST-CREST2 ○山本洋揮1,2，古澤孝弘1,2，田川精一1,2
  • 10EUVレジスト用酸発生剤の置換基効果阪大産研1，JST-CREST2 ○遠藤政孝1,2，田川精一1,2
  • 11ノボラック系ブリーチングレジストにおける感度・透過率の波長依存性東京電機大 ○堀内敏行，藤井拓也，中村　賢，平野裕志，石川光一，岩崎順哉
  • 12ノボラック系ポジ型レジストにおける現像特性のプリベーク温度依存性金沢工大1，リソテックジャパン2，AZエレクトロニックマテリアルズ3，阪大4 ○石黒啓太1，河野昭彦1，関口　淳2，谷口克人3，田中初幸3，堀邊英夫1,4
  • 13光リソグラフィーを用いたフレキシブル基板への希土類含有ナノ粒子のパターニング東理大基礎工 ○渡邉　智，田口博久，兵藤　宏，曽我公平，高梨良文，松本睦良
  • 14金属ナノ粒子を使用したリソグラフィ薬液用フィルター性能指標の検討日本ポール ○梅田　徹，水野豪仁，都築修一，沼口　徹