6. 薄膜・表面

6.4 薄膜新材料

3月25日 9:30~18:15  会場:B5-BA

25a-BA - 1~11

  • 1環境試験による光学ガラス基板の表面状態の変化の評価東海大1,東海大院2 中山 俊1,室谷裕志1,杉山 光2
  • 2環境試験によるCeO2光学薄膜の構造の変化の研究東海大院 澤村文哉,室谷裕志
  • 3環境試験によるTiO2光学薄膜の光学特性の変化の研究東海大院工 杉本洋己,室谷裕志
  • 4基板の表面粗さがTiO2光学薄膜に与える光散乱への影響東海大院1,シンクロン2 高橋和敬1,室谷裕志1,田中秀顕2,松本繁治2,本多博光2
  • 5TiO2光学薄膜における結晶構造と光散乱の特性の研究東海大工 ○(B)横山大地,西川俊之,室谷裕志
  • 6RhドープSrTiO3薄膜内の価数制御東京理科大1,東大物性研2 川崎聖治1,岩品克哉1,高橋竜太2,中辻 寛2,小森文夫2,吉信 淳2,工藤昭彦1,Mikk Lippmaa2
  •  休憩 11:00~11:15
  • 7電界制御によるMoS2単結晶の絶縁体-金属転移東大新領域1,理研低温物理研2,理研磁性研3 ○(D)冨田 仁1,3,高山知弘1,秋元彦太2,河野公俊2,高木英典1,3
  • 8新奇強誘電体ペロブスカイト型SrTaO3-yNy薄膜の誘電特性評価東大院理1,KAST2,東大工3,東大生研4,UTTAC5 ○(M1)岡 大地1,2,廣瀬 靖1,2,伊藤誠二3,森田 明3,松崎浩之3,福谷克之4,石井 聡5,笹 公和5,関場大一郎5,長谷川哲也1,2
  • 9PLD法を用いた雲母薄膜の合成東工大物創1,豊島製作所2,山口マイカ3,東工大物創・弁理士4 中曽根祐太1,中井裕和1,山内涼輔1,宮宅ゆみ子1,土嶺信男2,小林 晋2,佐野善史3,吉本 護4
  • 10PLD法によるEu添加NiO薄膜の作製と評価東工大物創1,豊島製作所2,並木精密宝石3,東工大・弁理士4 中井裕和1,中曽根祐太1,秋田泰志1,土嶺信男2,小林 晋2,小山浩司3,和田裕之1,吉本 護1,4
  • 11(Mg1-xNix)Oエピタキシャル薄膜の室温PLD成長における磁場効果の検討東工大物創1,豊島製作所2,神奈川産技セ3,東工大物創・弁理士4 山内涼輔1,荒井秀樹1,加藤侑志1,土嶺信男2,小林 晋2,金子 智3,吉本 護1,4
  •  昼食 12:30~13:30

25p-BA - 1~18

  • 1アモルファス酸化物薄膜トランジスタの熱電能電界変調名大院工1,JFCC2,東大総研3,JSTさきがけ4 小出浩貴1,長尾有記1,河本邦仁1,高崎裕加1,梅村知也1,加藤丈晴2,幾原雄一2,3,太田裕道4
  • 2In2O3-ZnOのHall移動度九大理1,出光先進研2 山田和正1,松本直樹1,篠崎文重1,矢野公規2,中村浩昭2
  • 3Cu-Cu2O相混合薄膜を用いたフォーミングフリー抵抗スイッチング素子理研ASI1,東大新領域2 藤原宏平1,松野丈夫1,高木英典1,2
  • 4CaTO3(T=Mn,Ru,Ti)系多層膜の作成とその物性(その2)青学大理工1,NIMS2,KFT3,神戸大4 瀬谷謙太1,大西智弘1,水崎壮一郎1,小澤 忠2,野呂良彦3,佐俣博章4,永田勇二郎1
  • 5格子伸長EuTiO3薄膜の作製と磁気的及び誘電的性質京大院工 丸山裕也,藤田晃司,村井俊介,田中勝久
  • 6スパッタ法によるMn3CuN薄膜の作製と評価名大院工 青山真大,竹中康司,生田博志
  • 7新規透明導電膜Mg(OH)2-Cの電子状態計算東海大 ○(PC)村上貴洋,本城貴充,久慈俊郎
  • 8GaSb及びGaSbAs多結晶薄膜における不純物帯伝導島根大 岡村健太,梶川靖友
  • 9分子線蒸着したInP及びInAs多結晶薄膜の積層欠陥密度の推定島根大 井関康宏,松井良記,梶川靖友
  •  休憩 15:45~16:00
  • 10逆型有機薄膜太陽電池の作製とその性能評価愛工大 山中大地,水谷照吉,小嶋憲三,落合鎮康
  • 11SBA-15薄膜のナノ細孔中へのTiO2 ナノ粒子の形成とその物性福岡大・理 權堂貴志,田尻恭之,香野 淳
  • 12表面プラズモン共鳴現象を利用したチタニア上でのアパタイト析出の検出長岡技大 伊井清人,大塩茂夫,赤坂大樹,齋藤秀俊
  • 13高周波プラズマ支援スパッタリング法を用いたTiO2薄膜の高密度化金沢工業大1,東洋紡績2 松田浩明1,田村洋一1,高橋和也1,坂本宗明1,大谷寿幸2,草野英二1
  • 14H2O導入MOCVD成膜CeO2薄膜のアニールによる構造変化法政大工1,コメット2,キヤノンアネルバ3 多田直裕1,伊豆崇則1,木樽智也1,島田洋希1,土屋 学1,笠井孝光1,鈴木 摂2,石橋啓次3,山本康博1
  • 15イオン液体ナノスケール薄膜の作製とその濡れ性東工大応セラ研 伊藤麻絵,丸山伸伍,松本祐司
  • 16Ni-P 被覆 Si 粒子を用いて作製したリチウム二次電池厚膜負極鳥大院工 薄井洋行,柴田眞史,坂口裕樹
  • 17ファインセラミックス薄膜の光学特性への環境影響の評価(2)ファインセラミックス薄膜特性の外部環境影響の評価方法に関する標準化委員会1,東海大院2 室谷裕志1,草野英二1,松田厚範1,柴田典義1,田澤真人1,佐藤正聡1,大谷 実1,豊原延好1,三宅雅章1,杉本洋己2,天野辰次1,洞口益浩1,志堂寺栄治1,高松 敦1,田村耕一1,和久井隆行1
  • 18調光ミラーデバイス用Pd超薄膜の検討新潟大 清水英彦,清水健児,丹内俊郎,津野大輔,岩野春男,川上貴浩

6.4 薄膜新材料

ENGLISH SESSION

3月26日 9:30~18:15  会場:B5-BA

26a-BA - 1~7

  • 1Fabrication of Micro-Nano Hierarchically Structured Films with Hexagonal Non-Close-Packed Arrangement by Physical Deposition Technique産業技術総合研究所 越崎直人,Shuyan Gao,Yue Li
  • 2シリコン基板上に成長した短い格子定数の酸化マグネシウム神奈川産技センター1,茨城大2,東工大3 金子 智1,3,伊藤 健1,秋山賢輔1,曽我雅康1,本泉 佑1,安井 学1,平林康男1,永野隆敏2,舟窪 浩3,吉本 護3
  • 3酸素プラズマ照射による二軸延伸PETフィルムの低温度ヒートシール効果の長寿命化三重大工1,河村産業2,東大新領域3,SVD大4 與倉三好1,2,林 拓郎2,郭  翔1,上原賢一1,松井正仁1,中村吉伸3,Reddy S.l4,遠藤民生1
  • 4局所プラズモン共振器の光音響特性京大院・工 名村今日子,鈴木基史,中嶋 薫,木村健二
  •  休憩 10:30~10:45
  • 5「海外研究者招待講演」(45分)
    Quantifying Spin Hall Effects in Metals
    Argonne National Laboratory1,Hitachi Global Storage2,Delft University of Technology3,Spanish Council for Scientific Research4 A. Hoffmann1,O. Mosendz2,G. Mihajlović2,V. Vlaminck1,J.E. Pearson1,F.Y. Fradin1,S.D. Bader1,G.E.W. Bauer3,M.A. Garcia4
  • 6YBCO膜におけるナノ欠陥の導入方法の検討(1)産総研1,ケンブリッジ大2 カテリン・デベロス バガリナオ1,松井浩明1,スチュアート ウィンブッシュ2,ジュディス マックマナス・ドリスコル2
  • 7「薄膜・表面分科内招待講演」(15分)
    Ga添加酸化亜鉛透明導電膜におけるキャリア輸送現象の制御因子
    高知工科大 山本哲也,佐藤泰史,牧野久雄,山本直樹
  •  昼食 12:00~13:30

26p-BA - 1~18

  • 1沿面放電による常温大気圧下での酸化物薄膜の形成静岡大工 伊豫田正彦,鍋田圭吾,鹿谷真博,奥谷昌之
  • 2コプラナー型沿面放電電極の最適化と常温・大気圧下での酸化物薄膜の形成静岡大工 鍋田圭吾,伊豫田正彦,鹿谷真博,奥谷昌之
  • 3磁場分布可変型対向スパッタによるニオブ薄膜の作製山口大院1,神港精機2 諸橋信一1,升元佑一1,田中浩三1,碓井圭太1,小松永治2
  • 4スパッタリング法により形成したAl添加CeO2薄膜の結晶化温度法政大工 浅野慶太郎,山本康博,野沢大地,蒲田大生,佐藤義也
  • 5La(Sr)MnO3/ZnO積層膜の配向成長と格子マッチングの計算による検討三重大1,金沢工大2,タテホ化学3,Texas Christian U.4,河村産業5 吉井竜也1,上原賢一1,岡本晃暢1,中村裕一1,遠藤和弘2,庭野一久3,Yuri Strzhemechny4,與倉三好1,5,遠藤民生1
  • 6STO基板上のZnO薄膜の配向性三重大工1,豊島製作所2,産総研(つくば)3,東京工科大4,河村産業5 上原賢一1,吉井竜也1,松井正仁1,本林秀文2,土屋哲男3,毛塚博史4,與倉三好1,5,遠藤民生1
  • 7プラズマ照射したPETフィルムの表面モルフォロジーと光透過率三重大1,河村産業2,東大新領域3 ○(M1)郭  翔1,林 拓郎2,加藤正史2,與倉三好1,2,吉井竜也1,上原賢一1,中村吉伸3,遠藤民生1
  • 8ガスプラズマ銃で支援したフィルタードアーク蒸着によるCrN膜の合成豊橋技科大1,伊藤光学2,オンワード技研3,日立ツール4,石川県工試5 田上英人1,柳田太一郎1,堀井裕樹1,神谷雅男1,2,須田善行1,滝川浩史1,瀧  真3,長谷川祐史3,辻 信広3,石川剛史4,安井治之5
  • 9SiKr混合薄膜の合成とクラスレート化岐阜高専1,岐大工2 羽渕仁恵1,生田智隆1,奥村竜二1,飯田民夫1,大橋史隆2,久米徹二2,伴 隆幸2,野々村修一2
  •  休憩 15:45~16:00
  • 10ペチーニ法を用いたパルスレーザー堆積法のためのLaFeOxの作製日大理工1,日大文理2 土屋善人1,野呂田健人1,根本拓哉1,岩田展幸1,橋本拓也2,山本 寛1
  • 11パルスレーザ堆積法を用いたハイドロキシアパタイト薄膜のCa/P比制御近大生物理工 吉川亮太,中島浩之,西川博昭,楠 正暢,速水 尚,本津茂樹
  • 12電子ビーム蒸着による層状半導体GaS結晶成長のダイナミックス東京高専1,芝浦メカトロニクス2,さがみはら産業創造センター3 伊藤 浩1,川又由雄2,大山昌憲3
  • 13Si(100)基板上の複合面方位CeO2層の形成 ー基板比抵抗依存性ーいわき明星大科学技術 井上知泰,信田重成
  • 14高温斜め蒸着による金属ナノウィスカの成長モデリング京大院・工 鈴木基史,喜多 僚,中嶋 薫,木村健二
  • 15ガラス基板上での極薄Ag薄膜成長に及ぼすMPTMS界面層の影響北見工大 筆井晃正,川村みどり,阿部良夫
  • 16MgO薄膜におけるフッ化物添加の影響龍谷大1,電子科学2 岡 威樹1,宮林延良2,沢田信雄2,前島邦光2,山本伸一1
  • 17MOD法によるMgO+CaO薄膜の結晶成長龍谷大1,電子科学2,兵庫工技セ3 小管浩揮1,沢田信雄2,前島邦光2,宮林延良2,吉岡秀樹3,山本伸一1
  • 18水素炎反応性フレーム溶射法によるイットリア膜の作製長岡技科大1,中部キレスト2,日鉄ハード3 長谷部康博1,大音雅宏1,中村 淳1,2,野口正広3,Yu Li1,3,大塩茂夫1,赤坂大樹1,齋藤秀俊1