4. 量子エレクトロニクス

4.7 レーザー・プロセッシング

3月25日 9:00~17:30  会場:K1-KH

25a-KH - 1~11

  • 1ジュール加熱PLD法によるZnO系透明導電膜の作製産総研 奈良崎愛子,新納弘之
  • 2NAPLDによるSbドープZnOナノワイヤの作製と光学特性九大シス情 中村大輔,岡崎功太,久米田章夫,遠矢和勇騎,久保佳津輝,蔦 浩司,東畠三洋,岡田龍雄
  • 3LaNi5-xSix(x=0,0.2,0.4)のレーザーアブレーション法による膜作製大阪電通大工1,宮崎大2 ○(M1)坂本大祐1,甲藤正人2,瀧川靖雄1
  • 4熱CVD法によるDLC反応種へのレーザー光照射の影響大阪電気通信大1,大阪産業大2 ○(M1)高木俊佑1,瀧川靖雄1,草葉光博2
  • 5F2レーザーによるポリカーボネート上への透明保護膜の形成 IV防衛大1,レニアス2 能島義彦1,2,大越昌幸1,野尻秀智2,井上成美1
  • 6時間分解マイクロラマン分光を用いた超短光加工中の温度変化のエネルギー依存性阪大院工 芳野知輝,松本雅人,小関泰之,伊東一良
  •  休憩 10:30~10:45
  • 7ナノ秒光渦パルスによる金属マイクロニードルの成長方位制御千葉大院融合1,北大院工2,JST-CREST3 豊田耕平1,中條恵介1,鳥越貴紀1,宮本克彦1,森田隆二2,3,尾松孝茂1,3
  • 8レーザ彫刻におけるレーザ光量の伝導特性小山高専 福田真一,土田英一
  • 9高精度な着脱式導電性接合を実現するマイクロファスナー横国大工 棟方力弥,坂本 慧,關 宏知,向井剛輝
  • 10高出力レーザーを用いたコンクリート穿孔装置の開発三共製作所1,東海大理2,応用光研3 武藤樹紀1,加藤平三郎1,鄭 和翊2,藤岡知夫3
  • 11遺伝子導入用レーザ誘起インパルス応力波発生素子に関する研究金沢工大1,国立衛研2 會澤康治1,西脇基晃1,小木美恵子1,内田恵理子2,得永嘉昭1
  •  昼食 12:00~13:00

25p-KH - 1~16

  • 1「海外研究者招待講演」(30分)
    Femtosecond laser cleaning using self-filamentation
    Korea Institute of Machinery and Material Sung-Hak Cho
  • 23次元ウッドパイル構造による光ビームコリメート化静大GRL Vygantas Mizeikis
  • 3液相レーザー照射法による結晶性シリコン球状粒子の作製産総研 李 祥友,Alexander Pyatenko,清水禎樹,Hongqiang Wang,古賀健司,越崎直人
  • 4Au/M (M = Fe, Ni, Co)ナノコンポジット粒子のレーザー合成産総研 Zaneta Swiatkowska,川口建二,清水禎樹,越崎直人
  • 5粒子加熱・溶融・蒸発モデルに基づくナノ秒レーザーとコロイドナノ粒子の相互作用に関する研究産総研 Alexander Pyatenko,Hongqiang Wang,越崎直人
  • 6液中のCuOナノ粒子へのパルスレーザー光照射:実験条件が生成物の結晶相や形態に及ぼす影響産総研 Hongqiang Wang,川口建二,Alexander Pyatenko,李 祥友,Zaneta Swiatkowska-Warkocka,加藤友紀子,越崎直人
  • 7水溶液中へのフェムト秒レーザー照射による金-白金合金ナノ粒子の作製メカニズム東北大多元研 Yuliati Herbani,中村貴宏,佐藤俊一
  •  休憩 15:00~15:15
  • 8高強度フェムト秒パルスレーザー照射による銅ナノ粒子の作製東北大多元研 中村貴宏,Yuliati Herbani,佐藤俊一
  • 9超音波重畳水中レーザーアブレーションによるZnOナノ粒子創製名大工1,産総研2,北大工3 藤川明紀1高田昇治1,河野明廣1,越崎直人2,清水禎樹2,佐々木浩一3
  • 10レーザー光還元微粒子形成プロセスによる白金族元素の分離回収原子力機構 大場弘則,佐伯盛久,佐々木祐二
  • 11液相中でのパルスレーザー照射によるサブマイクロメートル酸化チタン粒子の合成香川大工1,産総研2 石川善恵1,越崎直人2,馮  旗1
  • 12液中レーザーアブレーションによるInPナノ粒子の作製と評価東京工業大 ○(M2)加賀谷俊介,中村一隆,小田原修,和田裕之
  • 13液相レーザー溶融法によるサブマイクロメートル球状粒子合成産総研1,香川大工2 越崎直人1,石川善恵2,Hongqiang Wang1,Alexander Pyatenko1,川口建二1,Zaneta Swiatkowska-Warkocka1,加藤友紀子1,Xiangyou Li1
  • 14レーザーアブレーションによるナノ粒子生成のシミュレーションレーザー総研 古河裕之
  • 15酸素ガス中のパルスレーザーアブレーション法(PLA)によるTiO2ナノ結晶構造の制御甲南大1,阿南工業高専2 八木信賢1,角本宗一郎1,梅津郁朗1,杉村 陽1,吉田岳人2
  • 16ダブルレーザーアブレーション法による複合ナノ粒子の創成甲南大 延澤功一郎,横山泰寛,福本臣吾,杉村 陽,梅津郁朗

4.7 レーザー・プロセッシング

3月26日 9:15~16:45  会場:K1-KH

26a-KH - 1~9

  • 1マルチパルスマイクロチップレーザー照射による水中での連続スペクトルフリーな原子発光の観測京大エネ理工研 田村文香,作花哲夫,深見一弘,尾形幸生
  • 2超臨界中で生成したレーザーアブレーションプラズマの観測名大工1,北大工2 後藤 博1,高田昇治1,河野明廣1,佐々木浩一2
  • 3薄膜液中レーザーアブレーションにより形成されるナノ粒子生成時の気泡観察高知工業高等専門学校 福留誉司,藤本尚也,池上 浩
  • 4ZnOナノワイヤの紫外レーザー照射による処理九大シス情 久保佳津輝,岡崎功太,久米田章夫,中村大輔,東畠三洋,岡田龍雄
  • 5フェムト秒レーザー照射によるSiC改質部の局所電気伝導度の照射偏光依存性徳島大1,原子力機構2 ○(M1)伊藤拓人1,出来真斗1,富田卓朗1,松尾繁樹1,橋本修一1,北田貴弘1,井須俊郎1,小野田忍2,大島 武2
  •  休憩 10:30~10:45
  • 6超短光パルスマイクロ接合法における接合部の形状と接合強度の関係探索奈良高専1,産総研2,阪大院工3 ○(B)村上智亮1,玉木隆幸1,渡辺 歴2,小関泰之3,押田至啓1
  • 7超短光パルスによる透明材料内部加工における試料形状変化阪大院工 大木勇人,小関泰之,伊東一良
  • 8フェムト秒レーザー形成周期構造間隔のレーザー波長依存性京大化研1,京大院理2 生田美延1,2,橋田昌樹1,2,宮坂泰弘1,2,時田茂樹1,2,阪部周二1,2
  • 9フェムト秒レーザー金属ナノアブレーションによる放出イオンの角度分布京大化研1,京大院理2 宮坂泰弘1,2,橋田昌樹1,2,生田美延1,2,時田茂樹1,2,阪部周二1,2
  •  昼食 11:45~13:00

26p-KH - 1~13

  • 1「講演奨励賞受賞記念講演」(15分)
    単結晶内部のレーザー誘起過渡応力イメージング
    京大院工1,京大産連本部2 杤尾孝哉1,坂倉政明2,兼平真悟2,下間靖彦2,三浦清貴1,平尾一之1
  • 2ガラス中強集光時フェムト秒レーザー誘起現象の側面干渉計測宇大オプティクス 岩田啓介,田北啓洋,早崎芳夫
  • 3長焦点深度ホログラムを用いたシリカガラスへのフェムト秒レーザ加工NGF 川島勇人,山地正洋,鈴木潤一,田中修平
  • 4フェムト秒レーザ直接重合による光閉じ込め効果の検討北大電子研1,産総研2,阪大院工3 西山宏昭1,溝尻瑞枝2,平田好則3,西井準治1
  • 5フッ化物結晶のフェムト秒レーザー支援エッチング徳島大 松尾繁樹,岩浅廣大,富田卓朗,橋本修一
  • 6フェムト秒レーザーによる液体濃度高感度分析用マイクロチップの作製理研 花田修賢,杉岡幸次,緑川克美
  • 7フェムト秒レーザー誘起衝撃力による培養筋芽細胞の過渡力学応答の蛍光イメージング解析奈良先端大物質創成1,愛知学院大薬2,近大医3 細川陽一郎1,平岡章宏1,飯野敬矩1,古野忠秀2,伊藤彰彦3
  •  休憩 14:45~15:00
  • 8「量子エレクトロニクス分科内招待講演」(30分)
    フェムト秒レーザー照射による金属薄膜の結晶構造観察II
    京大化研1,京大院理2 橋田昌樹1,2,宮坂泰弘1,2,生田美延1,2,時田茂樹1,2,阪部周二1,2
  • 9フェムト秒レーザー誘起近接場による半導体表面のナノ構造生成京大エネ理工研 藤田隼也,吉藤貴一,宮地悟代,宮崎健創
  • 10フェムト秒レーザーダブルパルス照射法によるガラスの微細溶接東電大院1,理研2 飯田惇人1,2,花田修賢2,杉岡幸次2,高井裕司1,緑川克美2
  • 11干渉フェムト秒レーザー加工による超尖鋭周期構造の作製阪大レーザー研 ○(M1)桃尾一馬,廣本拓也,中田芳樹,宮永憲明
  • 12レーザープラズマ軟X線によるポリメチルメタクリレートのアブレーション微細加工筑波大院 電子・物理工学1,九大シス情2,九大医学研究院3,産総研 光技術4 鳥居周一1,牧村哲也1,岡崎功太2,中村大輔2,高橋昭彦3,岡田龍雄2,新納弘之4,村上浩一1
  • 13フッ素レーザーによるアルミニウム薄膜のパターニング(III)防衛大1,レニアス2 岩井和史1,2,大越昌幸1,野尻秀智2,井上成美1