11　半導体A（シリコン）
	3月27日（火）		3月28日（水）		3月29日（木）		3月30日（金）
	午前	午後	午前	午後	午前	午後	午前	午後
11.1 基礎物性・評価			F棟-K　9:00〜12:00	F棟-K　13:00〜18:00
11.2 半導体表面	E棟-ZG　9:30〜11:30		F棟-C　9:00〜12:00	F棟-C　13:00〜16:45
11.3 絶縁膜技術	E棟-ZH　10:15〜12:00		E棟-ZH　9:00〜12:30	E棟-ZH　13:30〜19:00	E棟-ZH　9:15〜12:30	E棟-ZH　13:30〜18:30	E棟-ZH　9:00〜12:00	E棟-ZH　13:00〜15:00
							E棟-ZK　9:30〜12:15
11.4 分科内総合講演「LSI多層配線に関するプロセス・信頼性メカニズムと最先端技術」			E棟-ZL　10:00〜12:10	E棟-ZL　13:10〜16:15
11.4 配線技術					ア-P5（ポスターセッションのみ）　9:30〜11:30		ア-P9（ポスターセッションのみ）　9:30〜11:30
11.5 Siプロセス技術			D棟-SM　9:30〜12:30	D棟-SM　13:30〜18:45	D棟-SM　9:00〜13:00	D棟-SM　14:00〜18:45	D棟-SM　9:00〜13:00	D棟-SM　14:00〜15:00
11.6 Siデバイス/集積化技術	D棟-SC　10:00〜13:00	D棟-SC　14:00〜18:00	E棟-ZQ　9:30〜12:00		E棟-ZQ　9:30〜12:30	E棟-ZQ　13:30〜17:45	D棟-SC　10:00〜12:45
11.7 シミュレーション			F棟-G　9:30〜12:15	F棟-G　13:45〜16:00