1　Radiation·Plasma Electronics
	Mar. 27 (Tue.)		Mar. 28 (Wed.)		Mar. 29 (Thu.)		Mar. 30 (Fri.)
	AM	PM	AM	PM	AM	PM	AM	PM
1.1 Radiation·Accelerator·Nuclear Reactor					F棟-B　9:00〜12:00	F棟-B　13:00〜18:15		F棟-B　13:00〜15:00
1.2 Plasma Sources and Production Technologies					F棟-G　9:00〜12:00	F棟-G　13:00〜17:00	F棟-G　9:00〜12:00	F棟-G　13:00〜15:00
1.3 Diagnostics of Reactive Plasmas							F棟-C　9:00〜12:00	F棟-C　13:00〜14:45
1.4 Plasma-Based Material Processing					F棟-C　9:00〜12:00	F棟-C　13:00〜17:00
1.5 Nano-Technologies by Plasma Process	F棟-G　9:30〜12:00	F棟-G　13:00〜16:00
1.6 General Topics of Plasma Discharges					F棟-A (Poster with short presentation)　9:00〜11:40
1.7 Plasma Etching	F棟-H　9:00〜12:00	F棟-H　13:00〜17:45