11　半導体A（シリコン）
	3月22日（水）		3月23日（木）		3月24日（金）		3月25日（土）		3月26日（日）
	午前	午後	午前	午後	午前	午後	午前	午後	午前	午後
11.1 基礎物性・評価	7-V　9:30〜12:30	7-V　13:30〜17:00	7-V　9:30〜12:30
11.2 半導体表面							14-P7（ポスターセッションのみ）　9:30〜11:30		14-P10（ポスターセッションのみ）　9:30〜11:30
11.3 絶縁膜技術				7-V　13:30〜19:00	7-V　9:30〜12:30	7-V　13:30〜18:45	7-V　9:30〜12:30	7-V　13:30〜19:00	7-V　9:30〜12:30
11.4 半導体A（シリコン）分科内総合講演「Cu／Low-k多層配線技術の現状と今後の課題」			8-C　10:00〜13:00	8-C　13:00〜17:45
11.4 配線技術					8-J　10:00〜13:00	8-J　14:00〜18:30	8-J　9:00〜13:00
11.5 Siプロセス技術	7-W　9:30〜12:30	7-W　13:30〜17:15	7-W　9:30〜12:30	7-W　13:30〜18:00	7-W　9:00〜12:30	7-W　13:30〜17:45
11.6 Siデバイス/集積化技術			7-X　9:30〜12:30		7-X　9:30〜12:30	7-X　13:30〜18:45	7-X　9:30〜12:30	7-X　13:30〜19:00	7-X　9:00〜12:00	7-X　13:00〜15:00
11.7 シミュレーション				7-X　13:30〜17:30