OYO BUTURI
Vol.88
No.7
2019
7
20197887475
応用物理 第88巻 第7号 (2019)
研究紹介

光パルス照射による高速磁気制御

松原 正和1

強磁性半導体EuOに不純物GdをドープしたEu1-xGdxO薄膜に対し超短光パルスを照射することで,電子スピン間に働く磁気相互作用の大きさを高速に制御することに成功した.Gd濃度が低い場合は,光パルス照射によって磁気相互作用が増大するのに対し,Gd濃度が高い場合には,逆に,減少する結果となった.これらの振る舞いは,光パルスの照射によるEuOのキャリヤ密度の変化や不純物によるキャリヤの散乱に伴う磁気相互作用の変調を反映している.本原理を用いると,光による磁気相互作用の高速制御が可能となり,将来の超高速光スピントロニクスへの応用が期待される.

  • 1 東北大学 大学院理学研究科
応用物理 第88巻 第7号 p.475 (2019) 掲載