OYO BUTURI
Vol.87
No.11
2018
11
2018118711833
応用物理 第87巻 第11号 (2018)
研究紹介

超小型半導体デバイス生産システム・ミニマルファブで開発された新しいプロセス技術

クンプアン ソマワン1,2石田 夕起1,2池田 伸一1,2原 史朗1,2

超小型半導体デバイス生産システムであるミニマルファブを用いると,これまで実用には至らなかった多くの物理現象やプロセス技術が利用可能となる.例えば,小口径ウェーハに強く働く表面張力を利用したスピンドロップレットクリーニング法や,0.5µm角の光でウェーハをスキャニングするマスクレス露光技術,また,レーザーを意図的にデフォーカスしてウェーハ全面に照射することで瞬時に1200℃に達するノンスキャニングレーザー技術,さらには,ノズルプラズマをウェーハスキャンしてウェーハ面内に均一にプラズマプロセスを行う技術などが挙げられる.本稿では,これらの技術開発内容に加え,ミニマルファブという超小型プロセス空間によって見いだされたいくつもの新しい技術について述べる.

  • 1 国立研究開発法人産業技術総合研究所
  • 2 一般社団法人ミニマルファブ推進機構
応用物理 第87巻 第11号 p.833 (2018) 掲載